CMD2000 納米納米氧化鉍研磨分散機(jī)
參考價(jià) | ¥ 198678 |
訂貨量 | ≥1 |
- 公司名稱(chēng) 上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司
- 品牌
- 型號(hào) CMD2000
- 產(chǎn)地 松江區(qū)陳春公路700號(hào)
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2018/9/11 14:16:22
- 訪問(wèn)次數(shù) 471
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實(shí)驗(yàn)室分散機(jī),高剪切乳化機(jī),勻漿機(jī) 實(shí)驗(yàn)室膠體磨,高剪切乳化機(jī),管線(xiàn)式乳化機(jī)
納米三氧化二鉍研磨分散機(jī),納米三氧化二鉍散機(jī),納米三氧化二鉍,納米納米氧化鉍研磨分散機(jī)
三氧化二鉍納米粉體可以很好的分散于極性烴類(lèi)溶劑中如 NMP (N-甲基吡咯烷酮) 、PMA (丙二醇甲醚醋酸酯);非極性溶劑中如:礦物油;同時(shí)也可以分散于質(zhì)子性溶劑中如:alkoxyethers,分散時(shí)zui高可達(dá)50%的濃度。
三氧化二鉍納米有機(jī)溶劑分散體,可確保應(yīng)用于各種有機(jī)溶劑體系,具有廣泛的適用性與易用性。
三氧化二鉍納米有機(jī)溶劑分散體有機(jī)溶劑分散體可以wan美的與客戶(hù)要求的體系結(jié)合。
納米三氧化二鉍研磨分散機(jī),
團(tuán)聚一般分為兩種:軟團(tuán)聚和硬團(tuán)聚。對(duì)于軟團(tuán)聚機(jī)理,人們的看法比較*,即,軟團(tuán)聚是由納米粉體表面分子或原子之間的范德華力和靜電引力所致,由于作用力較弱,可以通過(guò)一些化學(xué)作用或施加機(jī)械能的方式來(lái)消除。對(duì)于硬團(tuán)聚,不同化學(xué)組成不同制備方法有不同的團(tuán)聚機(jī)理,無(wú)法用統(tǒng)一的理論來(lái)解釋。因此需要采取一些特殊的方法來(lái)對(duì)其進(jìn)行控制。
納米三氧化二鉍研磨分散機(jī), 研磨分散機(jī)是由電動(dòng)機(jī)通過(guò)皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒(或稱(chēng)為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱(chēng)為定子)作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過(guò)本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過(guò)膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。
研磨分散機(jī)的細(xì)化作用一般來(lái)說(shuō)要強(qiáng)于均質(zhì)機(jī),但它對(duì)物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)(如高粘度、大顆粒),所以在很多場(chǎng)合下,它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場(chǎng)合。
研磨式分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的guo轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線(xiàn)式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來(lái)滿(mǎn)足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿(mǎn)足預(yù)期的應(yīng)用。
納米三氧化二鉍研磨分散機(jī),