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VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀

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  沈陽科晶立足國內(nèi)市場(chǎng)實(shí)際情況,以提供Z為實(shí)用的產(chǎn)品為己任。產(chǎn)品的質(zhì)量、精度在向國外企業(yè)看齊的基礎(chǔ)上,產(chǎn)品的價(jià)格定位卻僅僅是其幾分之一。性價(jià)比不僅吸引了眾多國內(nèi)客戶,而且令挑剔的外國客商也稱贊不已,產(chǎn)品遠(yuǎn)銷于印度、馬來西亞、土耳其、波蘭、突尼斯、澳大利亞等國家,并大量出口于美國。

  沈陽科晶為了更好地服務(wù)客戶,專門設(shè)立了開放式專業(yè)實(shí)驗(yàn)室,配備了優(yōu)秀的專業(yè)技術(shù)人員。在這里,不僅可以提供親身的產(chǎn)品體驗(yàn)環(huán)境,而且還可得到專業(yè)人員的操作指導(dǎo)。開設(shè)以來,制作的樣品達(dá)上千件,接待來訪客參觀戶百余次,其中包括多次外國友人的來訪。在此,沈陽科晶全體員工誠摯地歡迎您的到來,并希望您能提出寶貴的意見與建議。

  沈陽科晶一路走過的歷程,是為我國材料研究事業(yè)全力貢獻(xiàn)的歷程,是以實(shí)際行動(dòng)將自己打造成國內(nèi)材料分析設(shè)備品牌的歷程,是與國外同行不斷縮小差距的歷程,是與廣大客戶相扶相持的成長(zhǎng)歷程。雖一路充滿坎坷與荊棘,但堅(jiān)持不懈的沈陽科晶人仍全力以赴的前行。秉承這份堅(jiān)持,相信在不久的將來,沈陽科晶也將會(huì)成為市場(chǎng)上專業(yè)的、杰出的材料分析設(shè)備品牌,沈陽科晶的明天會(huì)更加燦爛輝煌。


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產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 應(yīng)用領(lǐng)域 地礦
產(chǎn)品簡(jiǎn)介VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀

VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀配置三個(gè)靶槍,一個(gè)配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,兩個(gè)配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備,特別適用于實(shí)驗(yàn)室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等。

主要特點(diǎn)VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀
  • 配置三個(gè)靶槍,一個(gè)配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,兩個(gè)配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜(靶槍可以根據(jù)客戶需要任意調(diào)換)。

  • 可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛。

  • 體積小,操作簡(jiǎn)便。

  • 整機(jī)模塊化設(shè)計(jì),真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設(shè)計(jì),可根據(jù)用戶實(shí)際需要調(diào)整。

  • 可根據(jù)用戶實(shí)際需要選擇電源,可以一個(gè)電源控制多個(gè)靶槍,也可多個(gè)電源單一控制靶槍。

技術(shù)參數(shù)VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀

產(chǎn)品名稱

VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀

產(chǎn)品型號(hào)

VTC-600-3HD

安裝條件

1、工作臺(tái)需要:尺寸 L1300mm×W750mm×H700mm,承重 200kg 以上。

2、水:需求:隨機(jī)標(biāo)配 KJ-5000 自循環(huán)冷水機(jī)(加注純凈水或者去離子水)。

3、氣:需氬氣(純度≥99.99%),自備氬氣瓶(自帶?6mm 雙卡套接頭)及減壓閥。

4、通風(fēng)裝置:使用現(xiàn)場(chǎng)需通風(fēng)(必要時(shí)可自行加裝換氣裝置)。

5、供電源:?jiǎn)蜗啵篈C220V 50Hz 國標(biāo) 10A 插座,必須有良好接地,前端需加裝 16A 空氣開關(guān)。

6、現(xiàn)場(chǎng)環(huán)境:要求:溫度 25℃±15℃,濕度 55%Rh±10%Rh 以下,干燥無塵,無易燃易爆氣體。

主要參數(shù)

統(tǒng)

真空室尺寸

φ295×高 265mm

備注說明

真空泵組

分子泵:Hipace80 渦輪泵

前級(jí)泵:MVP015-2DC 隔膜泵

浦發(fā)(Pfeiffer)

本底真空度

5.0E-3Pa(5.0E-5hPa)

沉積前基礎(chǔ)真空要求

極限真空度

5.0E-4Pa(5.0E-6hPa)

受現(xiàn)場(chǎng)環(huán)境等因素影響

工作壓力

0.1~5Pa(0.001~0.05hPa)

氬氣為主,反應(yīng)氣體比例添加

抽速

前級(jí)泵:1 m3/h

分子泵:67 l/s

影響抽真空時(shí)間

濺射電源

類型/數(shù)量

DC(直流):2臺(tái)

RF(射頻):1臺(tái)

DC:金屬靶 RF:絕緣靶

(搭配電源類型可選配)

輸出功率

范圍

DC:0~500W

RF:0~300W

功率輸出模式

MAX輸出功率

匹配阻抗

50Ω

確保功率傳輸效率

工作氣體

標(biāo)配:氬氣(Ar)

建議使用:Ar 純度 99.999%

氬氣流量

(2路輸入)

1路:1~100sccm

1路:1~200sccm

注:如需要通入其它類型保

護(hù)氣體可定制

流量計(jì)精度

±1%F.S.

/

轉(zhuǎn)

臺(tái)

樣品臺(tái)尺寸

Φ132mm

≈5.2 英寸

樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速

1~20rpm

提升膜厚均勻性

加熱溫度

RT~500℃

樣品臺(tái)表面溫度值

控溫精度

±1℃

/

磁控靶數(shù)量

3個(gè)

可獨(dú)立、可同時(shí)使用

靶材尺寸

φ2寸 厚度0.1-5mm

靶材材質(zhì)不同厚度有所不同

靶基距

85~115mm可調(diào)

當(dāng)距離↑增大、→厚膜均勻

性↑增高,沉積速率↓下降。

冷卻方式

水冷

冷卻水循環(huán)靶頭降溫

數(shù)

厚膜均勻性

±5%(φ100mm基片)

靶基距和轉(zhuǎn)速優(yōu)化關(guān)鍵

極限膜厚

10nm~10um

過厚易應(yīng)力開裂

輸入功率

MAX:主機(jī) 500W/射頻電源 1100W/直流電源 750W

注:主機(jī)、射頻電源、直流電

源及膜厚儀均為獨(dú)立供電!

輸入電源

單相: AC220V 50/60Hz

主機(jī)尺寸

600mm×750mm×900mm

注:開蓋高度為1050mm

整機(jī)尺寸

1300m×750mm×900mm

注:開蓋高度為1050mm

整機(jī)重量

160kg

注:不含水冷機(jī)組

標(biāo)準(zhǔn)配件VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀
序號(hào)名稱數(shù)量圖片鏈接
1直流電源控制系統(tǒng)2套-
2射頻電源控制系統(tǒng)1套-
3膜厚監(jiān)測(cè)儀系統(tǒng)1套-
4分子泵(德國進(jìn)口或者國產(chǎn)更大抽速)1臺(tái)-
5冷水機(jī)1臺(tái)-
6聚酯PU管(?6mm)4m-
可選配件VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀
序號(hào)名稱功能類別圖片鏈接
1金、銦、銀、鉑等各種靶材(可選)VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀-
2可選配強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜(可選)-
3掩膜版(可選)-
4振動(dòng)樣品臺(tái)(可選)-
5雙層旋轉(zhuǎn)鍍膜夾具(可選)VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀




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