橢偏儀

本公司生產(chǎn)的橢偏儀適用于大學(xué)和科研院所，具有高精度和完整的測(cè)量功能。儀器的狀態(tài)調(diào)整、參數(shù)設(shè)置、數(shù)據(jù)采集和處理，均通過計(jì)算機(jī)自動(dòng)完成。從紅外至紫外的寬廣光譜區(qū)，波長連續(xù)可調(diào)，入射角度在20度到90度內(nèi)連續(xù)可調(diào)。產(chǎn)品主要有兩個(gè)系列:1.全自動(dòng)高精度橢圓偏振光譜儀（ELLIP-SR型）－專業(yè)型 主要適用于科研院所的信息光電子功能薄膜、體材料的光學(xué)性質(zhì)和結(jié)構(gòu)特性研究，可被研究材料種類包括：金屬和合金、元素和化合物半導(dǎo)體、絕緣體、超導(dǎo)體、磁性和磁光材料、有機(jī)材料、多層薄膜材料等。在測(cè)量中，可按研究條件同時(shí)對(duì)入射角和波長進(jìn)行自動(dòng)精細(xì)掃描，增加研究的靈活性，便于用戶獲得更多的光譜信息進(jìn)行數(shù)據(jù)分析，提高研究的質(zhì)量和可靠性。該光譜儀的性能指標(biāo)達(dá)到同類技術(shù)的*水平 。主要技術(shù)參數(shù)： 波長范圍 250-830nm(可按需拓展) 光源 氙燈入射角范圍 20-90度 波長分辨率 1.0nm 入射角范圍 20-90度 入射角精度 0.001度 橢偏參數(shù)精度 D±0.02度；Y±0.01度 光學(xué)常數(shù)精度 優(yōu)于0.5％ 膜厚準(zhǔn)確度 ±0.1nm 測(cè)量方式 同步 定標(biāo)方式 自洽、 探測(cè)器 光電倍增管 主要用途： 1. 各種功能材料的光學(xué)常數(shù)測(cè)量和光譜學(xué)特性分析； 2. 測(cè)量薄膜材料的折射率和厚度； 測(cè)量對(duì)象包括：金屬、半導(dǎo)體、超導(dǎo)體、絕緣體、非晶體、超晶格、磁性材料、薄膜材料、光電材料、非線性材料； 測(cè)量光學(xué)常數(shù)：復(fù)折射率的實(shí)虛部、復(fù)介電常數(shù)的實(shí)虛部、吸收系數(shù)a、反射率R. 　2.全自動(dòng)單波長橢圓偏振光譜儀（ELLIP-ER型）-普及型 。本公司研制的固定波長可變?nèi)肷浣菣E圓偏振光譜儀，廣泛適用于大學(xué)教學(xué)和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域，具有很高的性價(jià)比，為一款普及型的光譜測(cè)試儀器。 主要技術(shù)參數(shù)：波長 650nm 光源 半導(dǎo)體激光器 入射角范圍 20-90度 測(cè)量模式 反射 測(cè)量方式 旋轉(zhuǎn)起偏和檢偏器，自動(dòng)完成信號(hào)測(cè)量 實(shí)測(cè)光學(xué)常數(shù)種類 復(fù)折射率 復(fù)介電常數(shù) 吸收系數(shù) 反射率 膜厚精度 ±1nm 系統(tǒng)定標(biāo)方式 自洽、定標(biāo) 　 主要用途： 1.各種功能材料的光學(xué)常數(shù)測(cè)量和光譜學(xué)特性分析； 2.測(cè)量薄膜材料的折射率和厚度； 測(cè)量對(duì)象包括：金屬、半導(dǎo)體、超導(dǎo)體、絕緣體、非晶體、超晶格、磁性材料、光電材料、非線性材料；測(cè)量光學(xué)常數(shù)：復(fù)折射率的實(shí)虛部、復(fù)介電常數(shù)的實(shí)虛部、吸收系數(shù)a、反射率R.