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customized 分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)MBE

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實(shí)驗(yàn)室整體服務(wù)。

公司目前已授實(shí)用新型權(quán)利 29 項(xiàng)，軟件著作權(quán) 14 項(xiàng)，是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。










冷熱臺(tái)，快速退火爐，光刻機(jī)，納米壓印、磁控濺射，電子束蒸發(fā)

1. 產(chǎn)品概述

分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)MBE 是在超高真空系統(tǒng)中把所需要的結(jié)晶材料放入到噴射爐中，將噴射爐加熱。使結(jié)晶材料形成分子束，從爐中噴出后，沉積在高溫的單晶基片上。如果設(shè)置幾個(gè)噴射爐，就可以制取多元半導(dǎo)體混晶，又可以同時(shí)進(jìn)行摻雜?？梢跃_地控制結(jié)晶生長，進(jìn)行沉積系統(tǒng)中結(jié)晶生長過程的研究。

2. 設(shè)備特點(diǎn)

分子束外延，是在超高真空系統(tǒng)中把所需要的結(jié)晶材料放入到噴射爐中，將噴射爐加熱。使結(jié)晶材料形成分子束，從爐中噴出后，沉積在溫度保持在100°以上的單晶基片上。如果設(shè)置幾個(gè)噴射爐，就可以制取多元半導(dǎo)體混晶，又可以同時(shí)進(jìn)行摻雜。可以精確地控制結(jié)晶生長，進(jìn)行沉積系統(tǒng)中結(jié)晶生長過程的研究。

12個(gè)源爐：鎵、銦、鋁、砷、銻、磷、鉍、硅、鎂、摻雜等；

襯底：大4inch ；

高溫度：1000°C 溫度均勻性：≤±3°C（4inch）；

超高真空下全自動(dòng)樣品轉(zhuǎn)移；

用于過程控制和分析的所有現(xiàn)代現(xiàn)場監(jiān)控功能；

一個(gè)集群上多7個(gè)超高真空功能單元：裝載、儲(chǔ)存、翻轉(zhuǎn)、處理、排氣、生長，外部腔室；

可連接其他分析設(shè)備或其他：ALD、PLD、PVD、金屬化、STM。

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