官方微信|手機版

產品展廳

產品求購企業(yè)資訊會展

發(fā)布詢價單

化工儀器網>產品展廳>半導體行業(yè)專用儀器>薄膜生長設備>化學氣相沉積設備>PD-220NL 化學氣相沉積 (PECVD) 系統(tǒng)

分享
舉報 評價

PD-220NL 化學氣相沉積 (PECVD) 系統(tǒng)

具體成交價以合同協(xié)議為準

聯(lián)系方式:謝澤雨查看聯(lián)系方式

聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網上看到的信息,謝謝!




深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業(yè)。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養(yǎng)、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。










冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

1. 產品概述

PD-220NL 是一種負載鎖定等離子體增強化學氣相沉積 (PECVD) 系統(tǒng),能夠沉積硅基薄膜(氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅)。該系統(tǒng)以非常緊湊的占地面積提供了PECVD的所有標準功能??稍谥睆?20毫米的區(qū)域內沉積具有優(yōu)異厚度均勻性和應力控制的薄膜,并具有優(yōu)異的穩(wěn)定性和可重復性。用戶友好的觸摸屏界面,用于參數控制和配方存儲。該系統(tǒng)是研發(fā)用薄膜沉積以及試生產的理想選擇。

2. 設備用途/原理

SiH4-SiNxSiH4-SiO2。液體驅體(SN-2)SiNx。TEOS-SiO2。

3. 設備特點

大加工范圍:?220 mm (?3" x 5, ?4" x 3, ?8" x 1)優(yōu)異的均勻性和應力控制。工藝穩(wěn)定性和可重復性。堅固的系統(tǒng),低的運行/維護成本用戶友好的觸摸屏界面,用于參數控制和配方存儲。PD-220NL設計時尚、緊湊,只需小的潔凈室空間。雙頻(13.56 MHz + 400 kHz)PECVD,用于過程控制。




化工儀器網

采購商登錄
記住賬號    找回密碼
沒有賬號?免費注冊

提示

×

*您想獲取產品的資料:

以上可多選,勾選其他,可自行輸入要求

個人信息:

溫馨提示

該企業(yè)已關閉在線交流功能