Ganister™ A 系列 8英寸離子束沉積（IBD）設(shè)備

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱 深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
品牌魯汶
型號(hào) Ganister™ A 系列
產(chǎn)地
廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
更新時(shí)間 2025/6/5 21:17:21
訪問(wèn)次數(shù) 678

產(chǎn)品標(biāo)簽

離子束沉積離子束刻蝕

在線交流發(fā)送詢價(jià) 進(jìn)入商鋪同類產(chǎn)品

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公司介紹 主營(yíng)產(chǎn)品

深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測(cè)試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測(cè)試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實(shí)驗(yàn)室整體服務(wù)。

公司目前已授實(shí)用新型權(quán)利 29 項(xiàng)，軟件著作權(quán) 14 項(xiàng)，是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

展開(kāi)

冷熱臺(tái)，快速退火爐，光刻機(jī)，納米壓印、磁控濺射，電子束蒸發(fā)

Ganister™ A離子束沉積設(shè)備，是針對(duì)低溫、高致密、高均勻性薄膜沉積工藝所開(kāi)發(fā)的專用產(chǎn)品，在硬盤(pán)磁頭、硬磁偏置層、布拉格反射鏡等器件的制備中有著重要的應(yīng)用。該設(shè)備采用濺射成膜，靶材選擇范圍廣。而其采用的四槽旋轉(zhuǎn)靶材基座，更可處理多達(dá)四種靶材。選配的輔助離子源，可以實(shí)現(xiàn)原位預(yù)清洗、優(yōu)化膜層致密性等功能。此外，Ganister™ A的輔助離子源也可進(jìn)行離子束刻蝕，一個(gè)腔室內(nèi)兼?zhèn)鋬煞N工藝，顯著提高了該設(shè)備的功能。

2. 系統(tǒng)特性

在低溫、超低壓工藝模式下，形成高致密優(yōu)質(zhì)膜層

雙離子源結(jié)構(gòu)（濺射+輔助離子源），輔助源用于清洗與輔助濺射

可高精度控制沉積過(guò)程，并能保障批次間的膜層重復(fù)性

實(shí)時(shí)光控設(shè)備，用來(lái)監(jiān)控、分析、調(diào)整膜層光譜

選配：可在一個(gè)腔室內(nèi)同時(shí)實(shí)現(xiàn)IBD和離子束刻蝕（IBE）功能

適用于8英寸晶圓