Herent® Chimera® A 12英寸硬掩膜刻蝕設(shè)備

具體成交價以合同協(xié)議為準

公司名稱 深圳市矢量科學儀器有限公司
品牌魯汶
型號 Herent® Chimera® A
產(chǎn)地
廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
更新時間 2025/6/5 21:19:45
訪問次數(shù) 491

產(chǎn)品標簽

離子束刻蝕

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公司介紹 主營產(chǎn)品

深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設(shè)備、半導體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實驗室整體服務(wù)。

公司目前已授實用新型權(quán)利 29 項，軟件著作權(quán) 14 項，是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

展開

冷熱臺，快速退火爐，光刻機，納米壓印、磁控濺射，電子束蒸發(fā)

Herent® Chimera® A 金屬硬掩膜刻蝕設(shè)備，為針對 12 英寸 IC 產(chǎn)業(yè)的后道銅互連中氮化鈦（TiN）金屬硬掩膜刻蝕（metal hardmask open）這一重復(fù)道次高的工藝所開發(fā)的專用產(chǎn)品，以滿足 12 英寸產(chǎn)線的各種硬質(zhì)掩膜刻蝕需求。此外，Chimera® A 硬掩?？涛g腔可作為 LMEC-300™ 設(shè)備的選配模塊，實現(xiàn)從金屬硬掩?？涛g到器件功能層刻蝕的一體化工藝。

12英寸硬掩膜刻蝕設(shè)備

2. Herent® Chimera® A系統(tǒng)特性

Herent® Chimera® A 金屬硬掩膜刻蝕設(shè)備是面向 12 英寸集成電路制造的量產(chǎn)型設(shè)備

設(shè)備由電感耦合等離子體刻蝕腔（ICP etch chamber）及傳輸模塊（transfer module）構(gòu)成

適用于 55 納米及其它技術(shù)代的 TiN 等硬掩膜刻蝕工藝

為針對 12 英寸 IC 產(chǎn)業(yè)的后道銅互連中氮化鈦（TiN）金屬硬掩膜刻蝕（metal hardmask open）這一重復(fù)道次高的工藝所開發(fā)的專用產(chǎn)品，以滿足 12 英寸產(chǎn)線的各種硬質(zhì)掩膜刻蝕需求。此外，Chimera® A 硬掩?？涛g腔可作為 LMEC-300™ 設(shè)備的選配模塊，實現(xiàn)從金屬硬掩?？涛g到器件功能層刻蝕的一體化工藝。