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Tebaank® Pishow® P 8英寸硅刻蝕設(shè)備

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
產(chǎn)品標(biāo)簽

深硅刻蝕

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實驗室整體服務(wù)。

公司目前已授實用新型權(quán)利 29 項,軟件著作權(quán) 14 項,是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。










冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

1. 產(chǎn)品概述:

Tebaank® Pishow® P 硅刻蝕設(shè)備是面向8英寸集成電路制造的量產(chǎn)型設(shè)備設(shè)備由電感耦合等離子體刻蝕腔(ICP etch chamber)以及傳輸模塊(transfer module)構(gòu)成

適用于0.11微米及其它技術(shù)代的多晶硅柵(poly gate)、側(cè)墻(spacer)、淺溝槽隔離(STI)工藝

2. 工藝數(shù)據(jù)

3 μm Trench

0.4 μm Trench

0.25 μm Trench

2 μm Poly

0.18 μm Poly

3. 詳細介紹

Tebaank®  Pishow® P 硅刻蝕設(shè)備,為8英寸IC產(chǎn)線上柵工藝的多腔式量產(chǎn)型設(shè)備,擁有自主開發(fā)的優(yōu)化設(shè)計, 保證了優(yōu)異的刻蝕均勻性(片內(nèi)<5%,片間<5%)和顆??刂?。提供AA、gate、STI、spacer、W recess等各項工藝的刻蝕解決方案。該設(shè)備高性價比的解決方案和優(yōu)秀的空間利用率,可為客戶產(chǎn)能升提供幫助。 



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