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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導體行業(yè)專用儀器>光刻及涂膠顯影設備>有掩模光刻機>MA200 Gen3 掩模對準光刻機

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MA200 Gen3 掩模對準光刻機

具體成交價以合同協(xié)議為準
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半導體光刻有掩膜

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術(shù)服務的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權(quán)利 29 項，軟件著作權(quán) 14 項，是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。










冷熱臺，快速退火爐，光刻機，納米壓印、磁控濺射，電子束蒸發(fā)

MA200 3代提供適應眾多生產(chǎn)過程的智能化解決方案。多樣化的對準方案、靈活可調(diào)的鏡頭系統(tǒng)和特殊附加選項使本系統(tǒng)成為處理各種不同工藝的全能設備。

高度自動化且切實節(jié)省寶貴的處理時間。這也體現(xiàn)在細節(jié)方面，例如選擇自動更換濾光片，以便維持低運營成本。

MA200 3 代在設計方面著重凸出用戶友好性。如可調(diào)節(jié)高度的顯示器、符合人體工程學的I / O接口、連續(xù)運行期間更換晶圓盒和直接觀看曝光模塊等特性大大簡化了設備操作，即使是在高負荷工作時。

憑借其廣泛的附加選項，第 3 代 MA200 很容易就能達到特種光刻工藝的要求。




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