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化工儀器網(wǎng)>產品展廳>半導體行業(yè)專用儀器>薄膜生長設備>化學氣相沉積設備>ICP-500D 薄膜沉積CVD

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ICP-500D 薄膜沉積CVD

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 北京亞科晨旭科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 ICP-500D
  • 產地 德
  • 廠商性質 生產廠家
  • 更新時間 2024/10/12 15:04:52
  • 訪問次數(shù) 392

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公司自成立以來就一直專注于半導體、微組裝和電子裝配等領域的設備集成和技術服務；目前公司擁有一支在半導體制造、微組裝及電子裝配等領域經(jīng)驗豐富的專業(yè)技術團隊，專業(yè)服務于混合電路、光電模塊、MEMS、先進封裝（TSV、Fan-out等）、化合物半導體、微波器件、功率器件、紅外探測、聲波器件、集成電路、分立器件、微納等領域。我們不僅能為客戶提供整套性能可靠的設備，還能根據(jù)客戶的實際生產需求制訂可行的工藝技術方案。
目前亞科電子已與眾多微電子封裝和半導體制造設備企業(yè)建立了良好的合作關系（如：BRUKER、EVG、TRYMAX、CAMTEK、CENTROTHERM、SENTECH、ENGIS、ADT、SONOSCAN、ASYMTEK、MARCH、PANASONIC、HYBOND、OKI、KEKO等），為向客戶提供先進的設備和專業(yè)的技術服務打下了堅實基礎。

 

半導體設備，微組裝設備，LTCC設備，化工檢測設備

SENTECH ICP等離子沉積系統(tǒng)-SI 500D

 

是主流的半導體設備商，研發(fā)、制造和銷售良好的薄膜測量儀器（反射儀、橢偏儀、光譜橢偏儀）和等離子工藝設備（等離子刻蝕機、等離子沉積系統(tǒng)、用戶定制系統(tǒng)）。

SI 500D等離子沉積系統(tǒng)是ICP-PECVD設備，利用ICP高密度等離子源來沉積電介質薄膜?？稍跇O低溫度下(< 100ºC)沉積高質量SiO2, Si3N4, 和SiOxNy薄膜?？梢詫崿F(xiàn)沉積薄膜厚度、折射率、應力的連續(xù)調節(jié)。

 

 

SI 500 D主要特點：

  • 適用于8寸以及以下晶片

  • 低溫沉積高質量電介質膜：80°C~350°C

  • 高速率沉積

  • 低損傷

  • 薄膜特性 (厚度、折射率、應力) 連續(xù)可調

  • 平板三螺旋天線式PTSA等離子源 (Planar Triple Spiral Antenna)

  • SENTECH高級等離子設備操作軟件

  • 穿墻式安裝方式

 

系統(tǒng)配置：

 

 



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