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腦機接口微針

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       探真納米科技成立于2016年4月,國內首家專注于全品類原子力顯微鏡(AFM)探針研發(fā)、生產與銷售 的高科技企業(yè)。公司同時致力于為客戶提供更優(yōu)質的微納加工工藝咨詢與服務,在多個微納領域積極布局,開展前沿產品的研發(fā)工作。

       公司的百級超凈間內建立了完全自主可控的全流程AFM探針研發(fā)、生產、檢測的產線,配備了專業(yè)微納加工與檢測設備20余臺,為產品的研發(fā)與生產提供了堅實的設備保障。

        自成立以來,探真納米科技憑借強大的研發(fā)實力,已自主開發(fā)及代研二十多項產品和項目,累計獲得7項技術專利(專利號:CN113371677B、CN112158794B、CN112162115B、CN207396531U、CN105189821B、CN113049853A、CN115308826A等),成功的填補國內微納加工領域多項技術空白。公司的AFM探針產品已經獲得ISO9001認證,探針成像效果出色,不僅性能上優(yōu)于進口同類產品,更以高性價比成為國產替代理想選擇。

原子力顯微鏡探針

公司為海內外多家單位,在微針、AR斜齒/閃耀光柵、超構透鏡(單晶硅、非晶硅、氮化硅)、硅光機構、深硅/體硅結構等等器件與機構方面,提供過代工代研服務。


工藝能力:電子束曝光,納米壓印,激光直寫(無掩膜光刻),真空鍍膜,濺射鍍膜,PECVD,LPCVD,ICP-RIE,深硅刻蝕,金屬刻蝕,介質刻蝕,離子束刻蝕,反應離子束刻蝕,晶圓鍵合,劃片,等等。


常做器件/結構:微針,AR斜齒閃耀光柵,超構透鏡(單晶硅,非晶硅,氮化硅),硅光結構,深硅/體硅結構,等等。


Process capabilities: electron beam exposure, nanoimprinting, laser direct writing (maskless lithography), vacuum coating, sputtering Coating, PECVD, LPCVD, ICP-RIE, deep silicon etching, metal etching, dielectric etching, ion beam etching,Reactive ion beam etching, wafer bonding, scribing, and more.

Commonly used devices/structures: microneedles, AR oblique tooth blazed gratings, superlenses (monocrystalline silicon, amorphous silicon, silicon nitride),Silicon optical structure, deep silicon/bulk silicon structure, etc.

 


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