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化工儀器網>產品展廳>半導體行業(yè)專用儀器>掩模版和中間掩模版制造設備>掩模光刻膠處理及清洗設備>mr-NIL212FC 德國納米壓印光刻膠

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mr-NIL212FC 德國納米壓印光刻膠

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 邁可諾技術有限公司
  • 品牌 Micro Resist
  • 型號 mr-NIL212FC
  • 產地 德國
  • 廠商性質 代理商
  • 更新時間 2025/7/2 15:14:59
  • 訪問次數 173

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半導體化工領域專業(yè)實驗設備供應商:邁可諾是一家富有創(chuàng)新精神的高科技公司,專業(yè)提供光電半導體化工實驗室所需設備耗材的全套解決方案提供商,邁可諾從事開發(fā)、設計、生產并營銷質量可靠的、安全易用的技術產品及優(yōu)質專業(yè)的服務,幫助我們的客戶和合作伙伴取得成功。我們成功的基礎是幫助客戶做出更好的選擇和決定,尊重他們的決定,并協(xié)助他們實現高效率的科研成果,追求豐富有意義的生活。




勻膠機,光刻機,顯影機,等離子清洗機,紫外臭氧清洗機,紫外固化箱,壓片機,等離子去膠機,刻蝕機,加熱板

納米壓印光刻 (NIL) 解決方案——高性能光刻膠,助力納米制造革命

——來自德國 micro resist technology,納米壓印光刻材料的行業(yè)先驅



核心優(yōu)勢

? Excellence的薄膜質量 | ? 高保真圖案復制 | ? 優(yōu)異的干法刻蝕性能
? 廣泛的印章兼容性 | ? 定制化解決方案 | ? 符合工業(yè)級安全標準(ISO 9001 & 14001)

應用領域

l光子學(超表面、光柵、AR/VR)

l下一代電子器件(納米線、MEMS)

l生命科學與傳感器(微流控芯片、生物傳感器)


明星產品系列

1. UV-NIL 光刻膠

產品型號

核心特性

適用場景

mr-NIL210

專為 PDMS 類柔性印章優(yōu)化,極薄殘膠控制(<10nm),高均勻性

柔性基底、曲面壓印、快速量產

mr-NIL212FC

兼容低強度光源(<40>2(SiO?),適合精密金屬蝕刻

納米電子、金屬納米結構制造

mr-NIL200

自粘附配方,無需底涂,專為硬質印章(石英/OrmoStamp®)設計

高精度光學元件、硬質基底壓印

mr-UVCuF26SF

溶劑型噴墨專用,低自發(fā)熒光,生物相容性佳

生物芯片、醫(yī)療器件

2.



2.



熱壓印(T-NIL)光刻膠

| mr-I 9000M | 熱固性樹脂,無玻璃化轉變溫度(Tg),耐高溫 260°C,yongjiu光學透明 | 高溫環(huán)境應用(如封裝、光學透鏡) |
| mr-I T85 | 基于 COC 材料,耐酸堿/有機溶劑,超高紫外透過率 | 微流控芯片、透明器件 |

3. 創(chuàng)新工藝方案

NIL + 剝離工藝:結合 mr-NIL212FC/LOR 實現復雜金屬納米結構(如 200nm 金屬網格)。

NIL + 深度刻蝕:通過含硅光刻膠 SiPOL 或硬掩模(SiO?)實現高深寬比結構放大。





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