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Model 6000 生產(chǎn)型掩膜曝光機

具體成交價以合同協(xié)議為準

公司名稱 德國韋氏納米系統(tǒng)有限公司
品牌 OAI
型號
產(chǎn)地美國
廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
更新時間 2025/7/4 10:46:38
訪問次數(shù) 75

產(chǎn)品標簽

OAI 光刻機掩膜曝光機

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公司介紹 主營產(chǎn)品

FIRSTNANO成立于2012年，一家由三位材料學博士共同創(chuàng)辦的德國公司?；?/span> “Science is international”的想法，“全球協(xié)同實驗室”成為三位博士追逐的夢想。

公司愿景是從科學家到科學家，科學開創(chuàng)美好未來。

FIRSTNANO深耕于半導體技術、材料科學、生命科學等科研領域，始終秉承“前沿、專業(yè)、科學”的宗旨，將前沿技術引進到協(xié)同實驗室。我們的產(chǎn)品覆蓋了微納加工制程；材料科學的檢測、分析；生命科學成像，腦科學與行為認知等相關領域。作為全球科技前沿的儀器供應商，FIRSTNANO具有全球技術視野、優(yōu)質(zhì)供應體系、以及嚴格的質(zhì)量管控系統(tǒng)，能為客戶提供前沿的技術解決方案。

公司服務的客戶領域廣泛，其中包括消費電子、航空、航天、醫(yī)藥技術、半導體行業(yè)、光電子行業(yè)、高校和研究機構。

在成長的過程中，我們腳踏實地、奮勇向前。自2015年香港（中華區(qū)）公司成立以來，我們一相繼在香港、深圳、上海和武漢設立了分支機構。

我們真誠邀請業(yè)內(nèi)英才加入FIRSTNANO TEAM，一起為夢想揚帆起航！

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Model 6000 生產(chǎn)型掩膜曝光機

Model 6000 生產(chǎn)型掩膜曝光機

在半導體行業(yè)擁有超過 40 年的制造經(jīng)驗，OAI 憑借全新精英級生產(chǎn)型光刻設備，從容應對瞬息萬變的市場所帶來的日益嚴峻的挑戰(zhàn)。6000 系列基于經(jīng)過驗證的 OAI 模塊化平臺打造而成，是一套全自動盒對盒系統(tǒng)，具備亞微米分辨率，其性能在同價位設備中很高。

該對準器配備優(yōu)良的光束光學系統(tǒng)，均勻性優(yōu)于 ±3%，且在首掩模模式下的吞吐量可達 200 片晶圓 / 小時，從而顯著提高良率。

6000 型設備能夠處理多種類型的晶圓，包括厚基板、鍵合基板（厚度可達 7000 微米）、翹曲晶圓（翹曲度可達 7 毫米 - 10 毫米）、薄基板（厚度低至 100 微米）以及厚光刻膠。

憑借工藝重復性，6000 型設備成為各類生產(chǎn)環(huán)境的理想解決方案?？蛇x擇正面對準，或選裝背面對準 —— 背面對準采用康耐視（Cognex™）M 圖案識別軟件與 OAI 的圖案輔助軟件，這款軟件能進一步提升整體吞吐量。在整個光刻流程中，6000 型設備可與集群工具實現(xiàn)無縫集成。OAI 全新的生產(chǎn)型掩模對準器堪稱一站式解決方案。

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高度優(yōu)化的產(chǎn)能
首掩模模式下可達 200 片 / 小時（WPH）

優(yōu)良的光束光學系統(tǒng)
均勻性優(yōu)于 ±3%

豐富的晶圓處理能力
包括厚基板、鍵合基板及翹曲基板

楔效應調(diào)平

工藝重復性

亞微米分辨率

遠程診斷功能

Model 6000 生產(chǎn)型掩膜曝光機