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舉報評價

Model 6020 全自動掩模曝光機

具體成交價以合同協(xié)議為準

公司名稱 德國韋氏納米系統(tǒng)有限公司
品牌 OAI
型號
產(chǎn)地美國
廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
更新時間 2025/7/4 11:06:15
訪問次數(shù) 93

產(chǎn)品標簽

OAI 光刻機掩膜曝光機

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FIRSTNANO成立于2012年，一家由三位材料學博士共同創(chuàng)辦的德國公司?；?/span> “Science is international”的想法，“全球協(xié)同實驗室”成為三位博士追逐的夢想。

公司愿景是從科學家到科學家，科學開創(chuàng)美好未來。

FIRSTNANO深耕于半導體技術、材料科學、生命科學等科研領域，始終秉承“前沿、專業(yè)、科學”的宗旨，將前沿技術引進到協(xié)同實驗室。我們的產(chǎn)品覆蓋了微納加工制程；材料科學的檢測、分析；生命科學成像，腦科學與行為認知等相關領域。作為全球科技前沿的儀器供應商，FIRSTNANO具有全球技術視野、優(yōu)質(zhì)供應體系、以及嚴格的質(zhì)量管控系統(tǒng)，能為客戶提供前沿的技術解決方案。

公司服務的客戶領域廣泛，其中包括消費電子、航空、航天、醫(yī)藥技術、半導體行業(yè)、光電子行業(yè)、高校和研究機構。

在成長的過程中，我們腳踏實地、奮勇向前。自2015年香港（中華區(qū)）公司成立以來，我們一相繼在香港、深圳、上海和武漢設立了分支機構。

我們真誠邀請業(yè)內(nèi)英才加入FIRSTNANO TEAM，一起為夢想揚帆起航！

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Model 6020 全自動掩模曝光機

Model 6020 全自動掩模曝光機

6020 型是一款針對先布線型面板級*封裝（PLP）及大尺寸玻璃面板曝光市場需求而設計的大面積全自動生產(chǎn)型掩模對準器或自動泛光曝光系統(tǒng)。該系統(tǒng)采用 OAI *的光束光學技術，配備 1KW-8KW 功率的紫外光源，光束尺寸覆蓋 12 英寸 ×12 英寸至 20 英寸 ×20 英寸，提供均勻度≤3%-5% 的光束。在掩模對準模式下，系統(tǒng)可實現(xiàn)≤2.0μm 的光刻分辨率。

頂面 / 底面對準

高吞吐量

1 千瓦–8 千瓦準直光束光源，光束尺寸從 12 平方英寸到 20 平方英寸

光源光束均勻性達 3-5%

用于自動對準的高速編碼器和電機

SECS/GEM 通信協(xié)議兼容性

多種面板處理能力

12 平方英寸到 20 平方英寸的面板

可選分步卡盤，用于子面板加工

14 平方英寸到 24 平方英寸的掩模插入件

楔形效應調(diào)平

工藝重復性

<2.0 微米的印刷分辨率

遠程診斷

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關鍵特性

高精度對準系統(tǒng)：可選配 Smart cam 高分辨率 CCD 相機系統(tǒng)，結合 OAI 圖案識別軟件，實現(xiàn)精確的頂面自動對準和便捷操作。
靈活的基板處理能力：支持從超薄到超厚及鍵合面板等多種基板厚度，基板卡盤具備 XYZ 軸及 θ 角運動功能，含步進功能，可處理整版或拼接在大面板上的子面板。
自動化集成方案：采用機器人上下料系統(tǒng)，可獨立運行或與光刻膠處理設備集成。
工藝穩(wěn)定性保障：OAI 6020 系列在性能、可靠性和重復性方面優(yōu)秀表現(xiàn)，是先布線型面板級封裝生產(chǎn)及大面積玻璃面板曝光的理想選擇。

Model 6020 全自動掩模曝光機