化學(xué)拋光 量產(chǎn)型機械化學(xué)研磨拋光機

^{精密磨拋機 平坦化 半導(dǎo)體研磨拋光機}

【技術(shù)應(yīng)用】

適用材料  廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體材料、金屬薄膜、光電材料等平面、端面及角度拋光，主要加工材料包括:氮化鎵、金剛石、氧化鎵、鈮酸鋰、多晶碳化硅、光纖。

應(yīng)用領(lǐng)域  廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體材料襯底減薄拋光、器件制備、封裝及MEMS等相

^{精密磨拋機 平坦化 半導(dǎo)體研磨拋光機}

【設(shè)備特點】

□ 整機防腐，適應(yīng)常規(guī)化學(xué)機械拋光耐腐蝕要求；

□ 樣片去除厚度在線實時監(jiān)測，精度1μm；

□ 可實現(xiàn)端面及角度研磨拋光工藝；

【技術(shù)應(yīng)用】

○ 適用材料：主要針對碳化硅、氮化鎵、藍(lán)寶石、金剛石等硬性材料進行研磨和拋光工藝。

○ 應(yīng)用領(lǐng)域：選擇不同的工位數(shù)量和備件配置，機臺可適應(yīng)研發(fā)及多種規(guī)格量產(chǎn)。

^{精密磨拋機 平坦化 半導(dǎo)體研磨拋光機}

【設(shè)備說明】

○ 填料系統(tǒng)自動控制，滴料速度可調(diào)；

○ 夾具擺幅及速度可精確控制，且擺幅范圍：0－100；

○ 夾具壓力可調(diào)，可調(diào)范圍可達(dá)50kg；

○ 樣品去除厚度可控，去除量精度1μm；

○ 配有獨立真空單元，樣片通過真空吸附固定到夾具上面；

○ 可選配盤溫監(jiān)控功能，監(jiān)測精度1℃；

○ 整機全防腐處理，可通過觸摸屏交互界面設(shè)置工藝參數(shù)，系統(tǒng)可儲存多達(dá)200條工藝菜單；

○ 自動化程度高，整機操作便捷，運行穩(wěn)定，維護方便，可靠性強；

○ 可通過配置不同的硬件及耗材，實現(xiàn)多種配置及工藝方案以滿足用戶對不同材料及尺寸等的多種技術(shù)要求；

○ 研磨拋光盤轉(zhuǎn)速可自主設(shè)定，轉(zhuǎn)速范圍為0-200rpm；

○ 工作時間可自主設(shè)定，連續(xù)運轉(zhuǎn)時間可達(dá)10個小時；

○ 可獨立顯示并指示實際工作時長，在完成既定工藝程序后自動關(guān)機。