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EIS-200ERP ELIONIX離子束刻蝕機(jī)

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上海麥科威半導(dǎo)體技術(shù)有限公司(Shanghai Makeway Semiconductor LTD)是一家專(zhuān)業(yè)的微納材料、半導(dǎo)體和微電子材料及器件研發(fā)儀器及設(shè)備的供應(yīng)商,所銷(xiāo)售的儀器設(shè)備廣泛用于高校、研究所、以及半導(dǎo)體和微電子領(lǐng)域的高科技企業(yè)。目前總部在上海,香港、南通、深圳、北京分別設(shè)立分公司和辦事處,快速響應(yīng)客戶(hù)需求。同時(shí)上海麥科威在快速擴(kuò)展海外市場(chǎng),并設(shè)立新加坡分公司,輻射東南亞市場(chǎng)。

      上海麥科威半導(dǎo)體技術(shù)有限公司主要銷(xiāo)售產(chǎn)品包括:  - 霍爾效應(yīng)測(cè)試儀;  - 快速退火爐;  - 回流焊爐,共晶爐,釬焊爐,真空燒結(jié)爐;  - 電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī),熱蒸發(fā)鍍膜機(jī);  - 探針臺(tái),低溫探針臺(tái),微探針臺(tái);  - 金剛石劃片機(jī); - 球焊機(jī),鍥焊機(jī);  - 磁控濺射鍍膜機(jī);  - 原子層沉積系統(tǒng),等離子增強(qiáng)原子層沉積設(shè)備;  - 電化學(xué)C-V剖面濃度分析儀(ECV Profiler); - 掃描開(kāi)爾文探針系統(tǒng); - 光學(xué)膜厚儀; -貼片機(jī)-PECVD\CVD;-脈沖激光沉積系統(tǒng)-PLD-納米壓印;-等離子清洗機(jī)、去膠機(jī);-反應(yīng)離子刻蝕RIE; - 光刻機(jī)、無(wú)掩膜光刻機(jī); - 勻膠機(jī); - 熱板,烤膠板; -少子壽命、太陽(yáng)能模擬器;-NMR-瞬態(tài)能譜儀-外延沉積-等離子清洗機(jī)-離子注入-劃片機(jī)、裂片機(jī)光刻機(jī)(針尖/電子束光刻機(jī)EBL,紫外光刻機(jī),激光直寫(xiě)光刻機(jī)),鍍膜機(jī)(磁控濺射機(jī),電子束蒸發(fā)機(jī),化學(xué)沉積機(jī),微波等離子沉積機(jī),原子層沉積機(jī)  等等…

企業(yè)客戶(hù):華為技術(shù)有限公司, 深圳市鵬芯微集成電路制造, 深圳清力技術(shù), 安徽格恩半導(dǎo)體, 蘇州稀晶半導(dǎo)體科技, 矽品半導(dǎo)體, 廈門(mén)海辰新能源科科, 中核同創(chuàng)(成都)科技, 洛瑪瑞芯片技術(shù)(常州),偉創(chuàng)力科技, 奧普科星河北科技,廣東五星太陽(yáng)能,廣東萬(wàn)和集團(tuán),西安西測(cè)股份, 普源精電科技, 普源精電科技股份, 上海蔚來(lái)汽車(chē), 北京華脈泰科, 廣醫(yī)東金灣高景太陽(yáng)能科技, 深圳匯佳成電子, 深圳市化訊半導(dǎo)體材料, 珠海珍迎機(jī)電, 合肥鼎材科技, 山東金晶節(jié)能玻璃, 江蘇云意電氣股份, 廣東風(fēng)華技股份, 浙江中能合控股集團(tuán),固安維信諾,淮安天合光能,浙江老鷹半導(dǎo)體, 四川信通電子科技等。


科研院所/高等院校: 北京航空航天大學(xué), 汕頭大學(xué), 南方醫(yī)科大學(xué), 清華大學(xué), 北京大學(xué), 復(fù)旦大學(xué), 西北工業(yè)大學(xué), 南京醫(yī)科大學(xué), 香港中文大學(xué), 香港城市大學(xué), 蘇州大學(xué), 深圳職業(yè)技術(shù)學(xué)院, 南京大學(xué)合肥國(guó)家試驗(yàn)室, 上海交通大學(xué)醫(yī)學(xué)院, 華南理工大學(xué),華東師范大學(xué),江南大學(xué),重慶26所, 深圳大學(xué), 南方科技大學(xué), 深圳技術(shù)大學(xué), 理化技術(shù)研究所, 中國(guó)工程物理研究院激光聚變研究中心, 廣東粵港澳大灣區(qū)黃埔材料研究院, 桂林電子科技大學(xué), 上海硅酸鹽研究所, 中國(guó)航天五院,中科合肥智慧農(nóng)業(yè)協(xié)同創(chuàng)新研究院等。

 

 

 

 

 

 

 

 

半導(dǎo)體設(shè)備,快速退火爐,原子層沉積,鍵合機(jī),光刻機(jī)

產(chǎn)品概述:

   離子束刻蝕設(shè)備是一種高精度的材料加工設(shè)備,它利用經(jīng)過(guò)電場(chǎng)加速的高能離子束對(duì)樣品表面進(jìn)行物理轟擊,從而實(shí)現(xiàn)材料的精細(xì)刻蝕。這種設(shè)備廣泛應(yīng)用于物理學(xué)、工程與技術(shù)科學(xué)基礎(chǔ)學(xué)科、測(cè)繪科學(xué)技術(shù)、航空、航天科學(xué)技術(shù)等多個(gè)領(lǐng)域,成為現(xiàn)代微納米加工技術(shù)中的重要工具。

設(shè)備用途:

  1. 材料加工:離子束刻蝕設(shè)備可以對(duì)多種材料進(jìn)行精細(xì)加工,包括硅、石英、半導(dǎo)體、金屬、非金屬硬質(zhì)薄膜等。通過(guò)控制離子束的能量、束流密度和刻蝕時(shí)間等參數(shù),可以精確控制刻蝕深度和形貌,實(shí)現(xiàn)微米甚至納米量級(jí)的加工精度。

  2. 微結(jié)構(gòu)制作:該設(shè)備具有制作微結(jié)構(gòu)圖形的能力,如光柵、微透鏡陣列等。在光學(xué)、電子學(xué)等領(lǐng)域中,這些微結(jié)構(gòu)對(duì)于提高器件性能具有關(guān)鍵作用。

  3. 樣品表面處理:離子束刻蝕還可以用于清洗材料表面有機(jī)物、氧化物等污染物,提升材料表面的親水性、粘接力和附著力。這對(duì)于提高樣品的質(zhì)量和分析精度具有重要意義。

設(shè)備特點(diǎn)

  高精度:離子束刻蝕設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)高精度的材料加工和微結(jié)構(gòu)制作。通過(guò)精確控制離子束的參數(shù),可以實(shí)現(xiàn)微米甚至納米量級(jí)的加工精度。

  多材料適應(yīng)性:該設(shè)備可以處理多種材料,包括硅、石英、半導(dǎo)體、金屬、非金屬硬質(zhì)薄膜等。這種廣泛的材料適應(yīng)性使得離子束刻蝕設(shè)備在多個(gè)領(lǐng)域中得到廣泛應(yīng)用。

  高靈活性:離子束刻蝕設(shè)備通常配備有先進(jìn)的控制系統(tǒng)和樣品臺(tái),可以實(shí)現(xiàn)多種加工模式和工藝參數(shù)的靈活調(diào)整。這為用戶(hù)提供了更多的選擇和便利。

  高穩(wěn)定性:設(shè)備在長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)行過(guò)程中能夠保持較高的穩(wěn)定性和可靠性。這有助于確保加工質(zhì)量和生產(chǎn)效率的穩(wěn)定。
技術(shù)參數(shù)和特點(diǎn):

離子槍

ECR型離子槍

電離氣體

ArXe等、惰性離子種類(lèi)的氣體 

N2、O2、C3F8等、活性離子種類(lèi)的氣體

加速電壓

100 ~ 3000 V 連續(xù)可變

離子流密度

Ar: 1.5 mA/cm2 以上 (2kV加速時(shí))

O2: 2.0 mA/cm2 以上 (2kV加速時(shí))

離子束有效直徑

Φ 20 mm (FWHM 35 mm)

離子流穩(wěn)定性

±5  / 2 H

大試樣尺寸

Φ 4英寸


相關(guān)分類(lèi)

干法清洗設(shè)備


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