ABN-MLM-002 有掩膜光刻機

具體成交價以合同協(xié)議為準

公司名稱 艾博納微納米科技（江蘇）有限責任公司
品牌 ABNER/艾博納
型號 ABN-MLM-002
產(chǎn)地 淮安市清江浦區(qū)清浦工業(yè)園枚皋路7號
廠商性質 生產(chǎn)廠家
更新時間 2025/8/1 8:49:10
訪問次數(shù) 70

產(chǎn)品標簽

光刻機

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公司介紹 主營產(chǎn)品

艾博納微納米科技(江蘇)有限公司致力于科研器材的研發(fā)與生產(chǎn)，以國際科研單位力量為支點，凝聚社會力量共同謀求推動全“人類科學發(fā)展與進步”。艾博納微納米科技（江蘇）有限公司創(chuàng)立于中國江蘇，用戶群體分布于世界各國以及國內(nèi)大陸大部分地區(qū)。公司主營業(yè)務有物理科研器材、二維材料轉移裝置、二維材料微納加工設備、微納米光學系統(tǒng)包括遠場以及近場全波段光學顯微系統(tǒng)研發(fā)、國產(chǎn)原子力顯微鏡、耗材（包含氮化硼國產(chǎn)高質量生長等各種晶體、硅片、超干凈藍膜膠帶等）、其他二維材料制備相關設備如等離子處理儀、顯像設備等。所有經(jīng)由我司售賣的產(chǎn)品均享受售后保障，用戶可放心購買。

展開

探針臺，二維材料轉移臺，金相顯微鏡，步進電機，步進電機控制器，原子力顯微鏡，拉曼光譜儀

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ABN-MLM-002 有掩膜光刻機是艾博納自主研發(fā)的一款高精度微納圖案轉印設備，采用高穩(wěn)定性紫外光源與優(yōu)良光學系統(tǒng)，支持接觸式和近接式多模式曝光，適用于微米及亞微米級圖案的高保真轉印。該設備廣泛應用于科研院所及中小批量半導體制造、MEMS 微機電系統(tǒng)、光電子器件等微納制造領域。

有掩膜光刻機整機配置高強度汞燈或i-line/LED光源，光強密度≥50 mW/cm2，均勻性≥90%，光強穩(wěn)定性±2%，確保圖案曝光穩(wěn)定一致。光學系統(tǒng)采用準直透鏡聯(lián)合均勻化裝置和高分辨率曝光物鏡，具備≤2 μm接觸式、≤5 μm近接式的分辨能力，1:1 等倍投影精度滿足高精制程要求。

集成高倍率CCD成像系統(tǒng)與十字線疊加輔助對準功能，對位精度可達 ≤2 μm；搭配高精度X/Y/Z電動平臺，重復精度優(yōu)于1 μm。控制系統(tǒng)支持軟件和觸摸屏雙模式控制，曝光參數(shù)可編程設定，具備USB、RS232、Ethernet等通信接口，提升操作便捷性與系統(tǒng)兼容性。

此外，ABN-MLM-002 支持多種可選模塊，如自動掩膜更換系統(tǒng)、自動對位識別系統(tǒng)、真空吸附樣品臺、伺服納米級電控平臺等，為高效精密光刻工藝提供全面保障，是科研與產(chǎn)業(yè)橋接的重要裝備之一。