LAB SPAKR 1000型 精密火花直讀光譜儀

　　>>儀器介紹
　　
　　廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機(jī)械、金屬加工等領(lǐng)域的生產(chǎn)工藝控制，爐前化驗(yàn)，中心實(shí)驗(yàn)室成品檢驗(yàn)，可用于Fe、Al、Cu、Ni、Co、Mg、Ti、Zn、Pb、Sn、Ag等多種金屬及其合金樣品分析，穩(wěn)定性好、檢測(cè)限低、分析速度快、運(yùn)行成本低、方便維護(hù)、抗*力強(qiáng)。
　　
　　>>儀器參數(shù)
　　
　　•帕邢—龍格架法，高發(fā)光全息光柵。
　　
　　•光柵焦距750mm，刻線為2400條/mm，譜線范圍：120-800nm。
　　
　　•色散率：一級(jí)色散率：0.55nm/mm，二級(jí)色散率：0.275nm/mm。
　　
　　•分辨率：優(yōu)于0.01nm。
　　
　　•整體出射狹縫調(diào)試方便、快捷、便于用戶增加更改通道，節(jié)約成本。
　　
　　•光柵、光電倍增管等核心部件全部進(jìn)口。
　　
　　•真空度由真空泵和真空控制設(shè)備控制。
　　
　　•鑄造光室，熱膨脹系數(shù)低，保證真空度的要求。
　　
　　>>其他參數(shù)
　　
　　•采用納克公司*的金屬原位分析儀的核心關(guān)鍵技術(shù)—單次放電采集解析技術(shù)（SingleDischargeAnalysis，SDA）。
　　
　　•世界*的多通道同步描跡提高儀器穩(wěn)定性。
　　
　　•延時(shí)積分技術(shù)，*、世界，不同的通道采用不同的積分起始時(shí)間。
　　
　　•內(nèi)部恒溫系統(tǒng)，不同的部位采用不同的恒溫條件，大大的減少了外部環(huán)境變化對(duì)儀器的影響（控制精度±0.1℃）。
　　
　　•連續(xù)可調(diào)光源，對(duì)不同的材質(zhì)可以匹配不同的光源實(shí)現(xiàn)*的分析結(jié)果。
　　
　　•模塊化的電路設(shè)計(jì)，維修方便快捷，為遠(yuǎn)程診斷做好了準(zhǔn)備。
　　
　　•軟件可調(diào)獨(dú)立高精度負(fù)高壓模塊，負(fù)高壓精度＜0.05%。
　　
　　•負(fù)高壓可由分析程序控制，提高分析程序的分析精度，擴(kuò)展元素的分析范圍。
　　
　　>>儀器特點(diǎn)
　　
　　•激發(fā)能量、頻率連續(xù)可調(diào)全數(shù)字固態(tài)光源，適應(yīng)各種不同材料。
　　
　　•*的恒溫式火花臺(tái)設(shè)計(jì)，環(huán)狀氬氣流方式，保證連續(xù)激發(fā)狀態(tài)下儀器的穩(wěn)定性，避免使用水冷帶來(lái)的不利影響。
　　
　　•安全防護(hù)設(shè)備阻止不安全激發(fā)。
　　
　　•銅基座火花臺(tái)，火花臺(tái)易于拆卸，便于清潔。
　　
　　•帶有特殊配件，易于檢測(cè)多種形狀的分析對(duì)象（餅狀、棒狀、線狀）。
　　
　　•一體式透鏡隔離閥，可防止因日常維護(hù)導(dǎo)致的光室污染影響強(qiáng)度下降，透鏡易于更換。
　　
　　•放電室設(shè)計(jì)*，保證放電在*條件下進(jìn)行。
　　
　　•激發(fā)電極為鎢電極。