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VP-Q10微波等離子去膠機(jī)PX 4460
PA PM DIN APC瑞士diamond光刻機(jī)接頭PX 5579
臺(tái)式光刻機(jī)_百科_江蘇雷博供應(yīng)杭州/上海等地PX 2402
HP100-PA充氮型程控烤膠機(jī)PX 1350
SYSC-300高精度程控勻膠機(jī) 旋.PX 3195
L-858DSEKONIC/日本世光原裝全新攝影曝光機(jī)PX 3907
HK ilv027瑞士diamond光刻機(jī)接頭PX 2394
超大型勻膠機(jī)PX 3345
Model 6020 全自動(dòng)掩模曝光機(jī)PX 3889
LSC4000 半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備PX 2849
PLUTO-T-MHz小型等離子清洗機(jī)PX 4983
mr-NIL200-100nm納米壓印光刻膠 mr-NIL200 系列PX 3436
自動(dòng)顯影機(jī)PX 3683
SC-H-I-II-III北京賽德凱斯烘膠機(jī)/烤膠機(jī)PX 3708
customized去膠清洗機(jī)PX 1950
JW-A88寸程控觸屏臺(tái)式勻膠機(jī)旋涂?jī)xPX 3704
VTC-50A旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)PX 4505
ED-1200MIKASA米卡薩 顯影和蝕刻設(shè)備PX 5208
定制納米壓印模具PX 2446
AS-11SUGIYAMA杉山電機(jī)振動(dòng)傳感器PX 3564
全柜式涂膠顯影機(jī)PX 1800
EVG770 NT分步重復(fù)納米壓印光刻機(jī)PX 7157
KWD臺(tái)式勻膠機(jī)PX 2600
納米壓印系統(tǒng)PX 3248
H17929GB/T 4985潤(rùn)滑脂和石油脂錐入度測(cè)定儀PX 4999
SC1CIF勻膠機(jī)PX 4261
MicroWriter ML3直寫(xiě)光刻機(jī)PX 1515
HAKW-4A勻膠機(jī)PX 3566
ABN-MLM-001無(wú)掩膜光刻機(jī)PX 7964
涂膠顯影PX 2233
HMS-901HS晶圓烤膠機(jī)(光刻)PX 2833
HC300SE安賽斯12寸可編程勻膠機(jī)PX 2330
型號(hào):ZRX-16298土壤溫度記錄儀PX 4307
MHY-26228恒溫勻膠機(jī)PX 2952
UV-Writer無(wú)掩膜光刻機(jī), 激光直寫(xiě)系統(tǒng)PX 2947
SMAP-ⅡF東洋研磨材TOYO 打磨機(jī)光澤出專(zhuān)用機(jī)PX 5449
CUL-PS350德國(guó)SUMET實(shí)驗(yàn)室雙面施膠機(jī)PX 4005
plasma等離子去膠機(jī) 清洗活化改性設(shè)備PX 1954
KT-S2DQX小型等離子去膠機(jī)清洗機(jī)PX 4323
POLOS® BEAM XL Mk2無(wú)掩模光刻機(jī)PX 3147
薄膜生長(zhǎng)設(shè)備
工藝測(cè)量和檢測(cè)設(shè)備
集成電路測(cè)試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長(zhǎng)設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
美國(guó)Nordson EFD諾信
Model 6020 全自動(dòng)掩模曝光機(jī)
Model 6000 生產(chǎn)型掩膜曝光機(jī)
Model 2000 邊緣去膠紫外泛光曝光機(jī)
Model 800E 增強(qiáng)型半自動(dòng)紫外掩膜曝光機(jī)
Model 212 紫外掩膜曝光機(jī)
Model 200 紫外掩膜曝光機(jī)
自動(dòng)顯影機(jī)
微波等離子去膠機(jī)
自動(dòng)顯影勻膠機(jī)
小型等離子清洗機(jī)
臺(tái)式納米壓印機(jī)
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質(zhì)譜
上海平軒科學(xué)儀器有限公司
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