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Nikon S204B掃描式光刻機(jī)PX 1950
Nikon S203B掃描式光刻機(jī)PX 1950
Nikon EX14C步進(jìn)式光刻機(jī)PX 1950
Nikon EX12B步進(jìn)式光刻機(jī)PX 1950
Nikon SF120/130步進(jìn)式光刻機(jī)PX 1950
Nikon NSR 2205i14E步進(jìn)式光刻機(jī)PX 1950
Nikon NSR 2205i12D步進(jìn)式光刻機(jī)PX 1950
Nikon NSR 2205i11D步進(jìn)式光刻機(jī)PX 1950
Nikon NSR 2005i10C步進(jìn)式光刻機(jī)PX 1950
Nikon NSR 2005i9C步進(jìn)式光刻機(jī)PX 1950
Nikon NSR 1755/1505i7A/B步進(jìn)式光刻機(jī)PX 1950
Nikon NSRG線光刻機(jī)PX 1950
UV Litho-ACA無(wú)掩膜/激光直寫光刻機(jī)PX 1950
CG-MLC6實(shí)驗(yàn)室無(wú)掩膜曝光機(jī)PX 1800
臺(tái)式 無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)PX 3248
MKW-200直寫光刻機(jī)/無(wú)掩膜光刻機(jī)PX 1515
ACA系列科研版無(wú)掩模光刻機(jī)PX 0
TTT-UV Litho-S高速版無(wú)掩模光刻機(jī)PX 0
TTT-UV Litho-BIO生命科學(xué)無(wú)掩模光刻機(jī)PX 0
TTT-UV Litho-Y教育版無(wú)掩模光刻機(jī)PX 0
TTT-UV Litho-ACA高靈活性 科研版無(wú)掩模光刻機(jī)PX 0
無(wú)掩模光刻機(jī) 高階灰度光刻能力設(shè)備PX 0
無(wú)掩模光刻機(jī)PX 0
TTT-UV Litho-SSpeed系列無(wú)掩模光刻機(jī)PX 0
托托科技自主研發(fā)無(wú)掩模光刻機(jī)PX 0
TTT-UV Litho-BIO高深寬比 無(wú)掩模光刻機(jī)PX 0
SMAP-A1東洋研磨材TOYO 打磨機(jī)超微細(xì)形狀専用機(jī)PX 5449
SMAP-III東洋研磨材TOYO 出色平衡中型機(jī)器PX 5449
SMAP-II東洋研磨材TOYO 打磨機(jī)緊湊的通用機(jī)PX 5449
POLOS® BEAM Mk2 無(wú)掩模光刻機(jī)PX 3147
無(wú)掩膜/激光直寫光刻機(jī)PX 0
PALET DDB-701無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)PX 3467
日本桌面臺(tái)式無(wú)掩膜光刻機(jī) PALET DDB-701PX 3467
C-43型多點(diǎn)光源曝光頭高精度國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)PX 5882
C-33型 4英寸 國(guó)產(chǎn)高精度對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)PX 5882
C-33型 國(guó)產(chǎn)雙面光刻機(jī) 精密光刻設(shè)備PX 5882
C-31型 雙面國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)PX 5882
C-25XB型 4英寸/6英寸 高精度對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)PX 5882
C-25X型4英寸/6英寸單面光刻機(jī)精密光刻設(shè)備PX 5882
C-25XA型 4英寸/6英寸 高精度對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)PX 5882
薄膜生長(zhǎng)設(shè)備
工藝測(cè)量和檢測(cè)設(shè)備
集成電路測(cè)試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長(zhǎng)設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
自動(dòng)顯影機(jī)
臺(tái)式 無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)
桌面型 激光直寫系統(tǒng)
直寫光刻機(jī)
直寫光刻機(jī)/無(wú)掩膜光刻機(jī)
實(shí)驗(yàn)室無(wú)掩膜曝光機(jī)
POLOS® BEAM XL Mk2無(wú)掩模光刻機(jī)
日本無(wú)掩膜光刻機(jī) 研發(fā)及小批量訂單利器
國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質(zhì)譜
上海平軒科學(xué)儀器有限公司
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