16
其他視頻
多參數(shù) 2099pro 分析儀：二次供水泵房專用，結(jié)構(gòu)、安裝與維護解析
2025/09/26
25次播放
半導(dǎo)體行業(yè)對水質(zhì)要求嚴(yán)苛，超純水作為生產(chǎn)核心耗材，其品質(zhì)直接影響芯片良品率。半導(dǎo)體超純水需滿足多維度指標(biāo)：電阻率需達 18.2MΩ.cm（25℃）以上，確保離子含量極低；TOC（總有機碳）控制在 0.5ppb 以下，避免影響光刻精度；大于 0.05 微米的顆粒物每升不超過 100 個，防止光刻缺陷；溶解氧低于 1ppb，抑制細菌滋生與氧化層形成。
超純水應(yīng)用貫穿半導(dǎo)體全生產(chǎn)流程：晶圓制備環(huán)節(jié)用于清潔除雜，保障表面結(jié)晶度；光刻工藝中洗凈模板與晶圓，確保圖案精準(zhǔn)；刻蝕、機械拋光環(huán)節(jié)起冷卻清洗作用，維持工藝一致性；電子化學(xué)沉積階段清潔金屬薄膜，保障沉積準(zhǔn)確性；還可用于設(shè)備冷卻與實驗室實驗，確保數(shù)據(jù)可靠。
超純水源自自來水，需經(jīng)多工藝深度處理：前端通過 ACF、UF、RO、EDI 等工藝，將 TOC 從自來水的 1-3ppm 降至 10-30ppb；再經(jīng) TOC-UV 燈裝置進一步降至≤0.5ppb，最終達標(biāo)。檢測方面，微粒子用液體粒子計數(shù)器監(jiān)測，TOC、電阻率、溶解氧、pH 等指標(biāo)通過在線監(jiān)測儀（如電化學(xué)儀器）實時檢測，部分場景需集成系統(tǒng)實現(xiàn)水質(zhì)動態(tài)管控。
監(jiān)測周期需結(jié)合工況與水質(zhì)變化設(shè)定，定期采樣分析，及時發(fā)現(xiàn)水質(zhì)問題，避免因總有機碳超標(biāo)、溶解氧過高、顆粒物過多等導(dǎo)致芯片質(zhì)量下降或生產(chǎn)損耗。隨著半導(dǎo)體元器件尺寸縮小、精度提升，超純水監(jiān)測需持續(xù)升級檢測精度與技術(shù)（如遠程監(jiān)控），以適配行業(yè)日益嚴(yán)苛的水質(zhì)需求。
