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12-07利用掃描電鏡觀察氫氧化鉀蝕刻制備的硅微觀結(jié)構(gòu)
氫氧化鉀蝕刻(KOH)是制造微型器件的一個重要工藝,用于從硅片上去除材料。選擇性地蝕刻硅片的某些部分,用一層二氧化硅或掩膜來保護(hù)剩下的部分。然而,殘留物的存在成為這種技術(shù)的一個缺點,因為它會對器件的制...2017
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