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技術(shù)文章

VCD高真空箱的主要技術(shù)指標(biāo)

點擊次數(shù)：202 發(fā)布時間：2025-2-14

一、簡介：VCD高真空箱主要應(yīng)用于航空、航天、軍事、電子、通訊、光電等科研及生產(chǎn)單位。集公司多年在真空設(shè)備成功經(jīng)驗，通過不斷潛心研究，突破傳統(tǒng)技術(shù)創(chuàng)造性解決了精密高真空設(shè)備的控制難點，能精準(zhǔn)控制133Pa以下的真空度。

0.5pa真空烤箱.jpg


二、主要技術(shù)指標(biāo)：

規(guī)格型號： HE-WD-300 HE-WD-400 HE-WD-500 HE-WD-600

內(nèi)箱尺寸(mm)： 300×300×300 400×400×400 500×500×500 600×600×600

外形尺寸(mm)： 700×550×1250 700×660×1450 780×770×1550 900×860×1650

真空度范圍： 100000Pa～1Pa

控制方式： 真空計顯示或PLC觸摸屏控制

結(jié)構(gòu)： 一體式結(jié)構(gòu)（內(nèi)置真空泵）或分體式（外置真空泵）

內(nèi)箱材質(zhì)： SUS304#不銹鋼

外箱材質(zhì)： SECC鋼板高級烤漆處理

使用電源： AC 單相 三線 220V 50HZ或AC 三相 五線 380V 50HZ

選加功能： 加熱功能（RT+10℃～200℃）

真空泵： 另購（可用戶自備）


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