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DOE掩膜,衍射光學(xué)元件掩膜
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DOE掩膜,主要用于精密的控制大功率激光的孔徑,它的結(jié)構(gòu)是在玻璃基板上鍍有一層很?。▇1μm)的圖案反射涂層。DOE掩膜,衍射光學(xué)元件掩膜

DOE掩膜,可消除不需要的高衍射級(jí)次光學(xué)

DOE掩膜,衍射光學(xué)元件掩膜

DOE掩膜,主要用于精密的控制大功率激光的孔徑,它的結(jié)構(gòu)是在玻璃基板上鍍有一層很?。?span style=";padding: 0px">~1μm)的圖案反射涂層。

DOE掩膜的典型參數(shù)

1.png

衍射高級(jí)次消去膜通常分為兩種不同類(lèi)型的掩膜

一種是電介質(zhì)反射掩膜

電介質(zhì)反射掩模,英文名為Dielectric Reflective Mask,是在熔融石英的基底上,鍍一層由非常?。?1um)的反射涂層圖案。涂層部分反射入射光束,而未涂層部分透射光束。

電介質(zhì)反射掩膜的特性:

針對(duì)單波長(zhǎng)設(shè)計(jì),高損傷閾值,低吸收率

反射部分,> 99%的高反射率

透明部分,> 95%的高透射率

很薄的掩膜層(~1um)

另一種是透射成像掩模

透射成像掩膜,英文名為Transmissive Imaging Mask,透射式掩模的特點(diǎn)是透射全部入射光,沒(méi)有任何阻擋,透射掩模使用衍射圖案以大角度漫射不需要的波段。

它的工作原理如下:

      中心有一個(gè)和反射式掩膜類(lèi)似的透明區(qū)域,光線(xiàn)直接透過(guò),周?chē)鷧^(qū)域具有衍射圖案,使不需要的入射光以大角度出射。配合聚焦鏡后焦平面放置的小孔,就可以阻擋大部分漫射光,從而達(dá)到阻擋多余激光的效果。

透射掩膜的特點(diǎn):

不會(huì)有反射光的風(fēng)險(xiǎn),導(dǎo)致?lián)p壞光學(xué)系統(tǒng)

~100%傳輸效率

比反射式掩模更高的激光損傷閾值

價(jià)格實(shí)惠

DOE掩膜的應(yīng)用領(lǐng)域:

縮減傳輸區(qū)域,設(shè)置一個(gè)很小的傳輸區(qū)域

控制激光衍射圖案的大小

DOE掩膜的型號(hào)規(guī)格:

2.png

DOE掩膜,衍射光學(xué)元件掩膜


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