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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
| 保修期限 | 1年 | 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)品成色 | 9成新 | 出廠年份 | 2022 |
| 使用年限 | 1年以內(nèi) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 能源,建材/家具,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,綜合 |
詳細(xì)介紹
二手日立 SU-8230 冷場(chǎng)超高分辨掃描電鏡儀器簡(jiǎn)介：
SU8200 系列冷場(chǎng)掃描是日立高新經(jīng)過多年潛心鉆研，巨額投入而研發(fā)出來的新一代革新性冷場(chǎng)電鏡，其不僅*秉承以往冷場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡全部?jī)?yōu)點(diǎn)，還大幅提高了探針電流，并極大增強(qiáng)了電流的穩(wěn)定性。這些優(yōu)點(diǎn)使得在低加速電壓下，可長(zhǎng)時(shí)間連續(xù)實(shí)現(xiàn)高分辨觀察和分析功能。此系列掃描電鏡在*秉承以往冷場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡全部?jī)?yōu)點(diǎn)的同時(shí)，將探針電流進(jìn)行了大幅提高，電流穩(wěn)定性得到了極大增強(qiáng)，同時(shí)避免了燈絲Flash 后的采圖等待時(shí)間，可以說其彌補(bǔ)了以往冷場(chǎng)電鏡的所有弱勢(shì)，成為一款真正的超高分辨分析型冷場(chǎng)掃描電鏡，上演了一部現(xiàn)實(shí)版的*歸來!
日立高新場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡SU8200系列主要特點(diǎn)：
日立高新新研發(fā)的冷場(chǎng)電子槍
1.利用電子槍轟擊后的高亮度穩(wěn)定期，束流更大更穩(wěn)定，高分辨觀察和分析兼顧
2.大幅提高分辨率(1.1nm/1kV、0.8nm/15kV)
3.減輕污染的高真空樣品倉
4.通過頂部過濾器(選配項(xiàng))實(shí)現(xiàn)多種材料對(duì)比度可視化
二手日立 SU-8230 冷場(chǎng)超高分辨掃描電鏡系列技術(shù)參數(shù)：
分辨率
二次電子像（SEI）：
15kV 時(shí)達(dá)到0.6nm（工作距離 4mm），低電壓（1kV）下仍保持0.7nm分辨率（工作距離 1.5mm，減速模式）。
得益于冷場(chǎng)發(fā)射電子槍（CFEG）的低色差設(shè)計(jì)（色差系數(shù)約 0.2eV），在低電壓條件下可實(shí)現(xiàn)高分辨率觀察，避免樣品熱損傷。
背散射電子像（BSEI）：15kV 時(shí)分辨率為3nm。
透射掃描模式（STEM）：30kV 時(shí)分辨率達(dá)0.8nm，支持 BF/DF/HAADF 成像。
放大倍數(shù)
覆蓋20 倍至 200 萬倍，可滿足從宏觀到原子級(jí)結(jié)構(gòu)的觀察需求。
加速電壓
常規(guī)模式：0.5~30kV 連續(xù)可調(diào)，支持高電壓下的高穿透性觀察。
減速模式：著陸電壓可達(dá)0.01kV（10V），適用于非導(dǎo)電樣品（如高分子、生物材料）的低損傷成像。
二、探測(cè)器與分析功能
多探頭檢測(cè)系統(tǒng)
標(biāo)配Top/Upper/Lower 二次電子探頭及YAG 背散射電子探頭，可靈活組合獲取表面形貌、成分襯度等信息。
支持能量過濾功能（選配），可分離特征能量電子，提升成分分析對(duì)比度。
能譜分析（EDS）
配備牛津無窗型斜插電制冷探測(cè)器，能量分辨率≤127eV（Mn Kα），可檢測(cè)元素范圍從 Be?到 Cf??，檢測(cè)下限低至 Li?。
支持線掃、面掃及點(diǎn)分析，在低電壓（1.5kV）下仍能實(shí)現(xiàn)高空間分辨率元素分布 Mapping。
電子背散射衍射（EBSD）
集成高速 EBSD 探測(cè)器，幀率可達(dá)3000 幀 / 秒，適用于晶體取向、織構(gòu)分析及動(dòng)態(tài)過程研究。
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