300W 2L半導體等離子清洗設備

300W 2L半導體等離子清洗設備是一種小型化、非破壞性的清洗設備。300瓦 2L等離子清洗機采用低氣壓激發(fā)等離子體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。儀器配有一臺機械真空泵，在抽真空維持腔體真空度的同時也能將被等離子反應后的污染物通過真空泵抽走；因此短時間的清洗就可以使有機污染物被地清洗掉。

300W 2L半導體等離子清洗設備除了具有清洗功能外，在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能，在清洗過程中，小型等離子清洗機的輝光放電可以加強這些材料的粘附性、相容性和浸潤性。  

這款等離子清洗機適合于實驗室和小型生產。采用13.56Mhz的射頻電源，能夠用來匹配各種常用氣體的等離子體。射頻電源的功率從100W到1000W之間有多種常用規(guī)格可供選配，能夠滿足用戶的多樣化需求。  

2L等離子清洗機技術參數(shù)：  

2L等離子清洗機應用領域：  

金屬：去除金屬表面的油脂,油污等有機物及氧化層；
 汽車制造：用于汽車制造過程中的塑料和噴漆前處理；
 紡織品生產：用于紡織品,濾網和薄膜的親水性,疏水性和表面改性處理；
 生物醫(yī)療：培養(yǎng)皿提高活性，血管支架，注射器，導管和各種材料的親潤，交合涂覆前處理；
 航空航天：絕緣材料，電子元件等表面涂覆前處理；
 電子：線路板的清洗和蝕刻。膠片，PP等材料的無氧化和活化處理，改進可焊性；
 半導體行業(yè)：晶圓加工及處理去除光刻膠，封裝前預處理；
 LED：支架清洗封裝前預處理；
 塑料橡膠：提高PS，PE，PTFE，TPE，POM，AS和PP等材料表面活性，使其利于粘接，印刷。 

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