桌面型三源蒸發(fā)鍍膜儀

熱蒸發(fā)鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發(fā)、氣態(tài)粒子的輸運(yùn)以及在基底上的沉積成膜。在蒸發(fā)過程中，材料需要獲得足夠的熱能以克服分子間的結(jié)合能，從而轉(zhuǎn)變?yōu)闅鈶B(tài)分子并從蒸發(fā)源表面逸出 。這些氣態(tài)粒子在輸運(yùn)過程中基本上無碰撞地直線飛行到基底表面，并在那里凝聚形核生長成固相薄膜

本產(chǎn)品為專為高真空設(shè)計的桌面型小型蒸發(fā)鍍膜儀，可提供*大150A的鍍膜電流，*大蒸發(fā)溫度可達(dá)1800℃，能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍及部分非金屬蒸鍍。真空腔體采用不不銹鋼制作，出廠經(jīng)過除氣處理，配合分子泵組可達(dá)到5x10-5Pa極限真空，能夠滿足絕大部分材料蒸發(fā)所需的真空環(huán)境。真空腔體采用前開門開啟方式，便于取放樣，腔體上配置有帶擋板的適應(yīng)觀察窗，用于觀察鍍膜過程，擋板則可以有效防止觀察窗被膜料污染.

桌面型三源蒸發(fā)鍍膜儀產(chǎn)品特點：

高純度薄膜：由于在高真空條件下進(jìn)行，減少了氣體分子與蒸發(fā)材料的碰撞，從而能夠制備出高純度的薄膜。
**控制：蒸發(fā)鍍膜技術(shù)允許對薄膜的厚度、成分和結(jié)構(gòu)進(jìn)行**控制，這在許多高精度應(yīng)用中至關(guān)重要。
適用多種材料：蒸發(fā)鍍膜技術(shù)可以用于多種材料，包括金屬、合金、氧化物、碳化物、氮化物以及有機(jī)材料等。
高沉積速率：特別是使用電子束蒸發(fā)時，由于高能量的電子束能夠快速加熱材料，可以實現(xiàn)高沉積速率。
均勻性：通過適當(dāng)?shù)墓に噮?shù)調(diào)整，可以在大面積基底上獲得均勻的薄膜。
低損傷：由于加熱主要集中在蒸發(fā)材料上，對基底的熱影響較小，適用于熱敏材料的薄膜沉積。

技術(shù)參數(shù)：