目錄:鄭州成越科學(xué)儀器有限公司>>熱蒸發(fā)鍍膜儀>> CY-EVZ254-II-HH-SS桌面型不銹鋼腔體熱蒸發(fā)鍍膜儀
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 5萬-10萬 | 
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件 | 
本產(chǎn)品為專為高真空設(shè)計的桌面型不銹鋼腔體熱蒸發(fā)鍍膜儀,可提供最大100A的鍍膜電流,大蒸發(fā)溫度可達(dá)1800℃,能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍及部分非金屬蒸鍍。真空腔體采用不不銹鋼制作,出廠經(jīng)過除氣處理,配合分子泵組可達(dá)到5x10-5Pa極限真空,能夠滿足絕大部分材料蒸發(fā)所需的真空環(huán)境。真空腔體采用前開門開啟方式,便于取放樣,腔體上配置有帶擋板的適應(yīng)觀察窗,用于觀察鍍膜過程,擋板則可以有效防止觀察窗被膜料污染.
高純度薄膜:由于在高真空條件下進(jìn)行,減少了氣體分子與蒸發(fā)材料的碰撞,從而能夠制備出高純度的薄膜。
精確控制:蒸發(fā)鍍膜技術(shù)允許對薄膜的厚度、成分和結(jié)構(gòu)進(jìn)行精確控制,這在許多高精度應(yīng)用中至關(guān)重要。
 適用多種材料:蒸發(fā)鍍膜技術(shù)可以用于多種材料,包括金屬、合金、氧化物、碳化物、氮化物以及有機(jī)材料等。
 高沉積速率:特別是使用電子束蒸發(fā)時,由于高能量的電子束能夠快速加熱材料,可以實(shí)現(xiàn)高沉積速率。
 均勻性:通過適當(dāng)?shù)墓に噮?shù)調(diào)整,可以在大面積基底上獲得均勻的薄膜。
 低損傷:由于加熱主要集中在蒸發(fā)材料上,對基底的熱影響較小,適用于熱敏材料的薄膜沉積。 
| 參數(shù)名稱 | 參數(shù)說明 | ||
| 產(chǎn)品名稱 | 前開門臺式蒸發(fā)鍍膜儀 | ||
| 產(chǎn)品型號 | CY-EVZ254-I-H-SS | CY-EVZ254-II-HH-SS | |
| 真空腔體 | 腔體材質(zhì) | 304不銹鋼焊接而成,表面做拋光處理 | |
| 取放模式 | 前開門方式取放樣品和蒸鍍材料 | ||
| 觀察窗 | 直徑80mm真空窗口,配有磁力擋板,防止污染 | ||
| 樣品臺 | 樣品尺寸 | 直徑≦100mm的平面樣品均可 | |
| 旋轉(zhuǎn)速度 | 分不旋轉(zhuǎn)和旋轉(zhuǎn)型(0-20RPM) | ||
| 加熱溫度 | ≦1800℃ | ||
| 蒸發(fā)系統(tǒng) | 蒸發(fā)源 | 鎢絲籃或塢舟 1個 | |
| 樣品臺蒸發(fā)源距離 | 60-100mm 可調(diào) | ||
| 鍍膜方式 | 熱蒸發(fā)鍍膜 | ||
| 真空系統(tǒng) | 抽氣接口:KF25/40, 排氣接口: KF16 | ||
| 復(fù)合真空計,電阻規(guī)+電離規(guī) | |||
| 前級泵 | 旋片泵 抽速: 1.1L/S | ||
| 分子泵 | 抽速: 62L/S (大阪分子泵) | ||
| 膜厚測量 | 通常配CYKY膜厚測量儀 (可選) | ||
| 也可選配進(jìn)口品牌,價格額外計算 | |||
| 供電電壓 | AC220V,50Hz | ||
| 整機(jī)功率 | 2KW | ||
| 外形尺寸 | 750mm X 450mm X750mm | ||
| 包裝重量 | 70 KG | ||
  
(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)