目錄:鄭州成越科學儀器有限公司>>培育鉆石>> CY-MC-H2超高純氫氣發(fā)生器用于培育鉆石
超高純氫氣發(fā)生器運用且 **擁有的99% 鈦金屬質(zhì)子交換膜(PEM) 技術， 將去離子水中的氫氣分離并提純，為CVD設備提 供超高純的氫氣氣源。
的設計讓運行更加穩(wěn)定可靠，并保證更長的 使用壽命。發(fā)生器可24小時連續(xù)穩(wěn)定地工作，開 機時自動檢查內(nèi)部泄漏，自動控制裝置的運行參 數(shù)，保證**啟動。
觸摸屏LCD界面提供簡單且清晰可見的運行信息， 讓用戶便捷地掌控和管理發(fā)生器。
鈀催化劑降低O2＜0.01ppm，水分＜1ppm，氫氣純度可達99.99999%（7N）
**冷雙動態(tài)再生干燥器：去除水分和氧 氣，無需監(jiān)控、更換和購買干燥劑筒，無需 加熱
通過USB進行遠程PC監(jiān)控和診斷分析，將設備與客戶的PC軟件連接（需要通過遠程連接，才能有效地進行檢查和維護）壓力高達11bar(160psi)
顯示水質(zhì)狀態(tài)：當水質(zhì)變“**＂時及時出現(xiàn)報警提示
聯(lián)機產(chǎn)氫：可以通過軟件控制實現(xiàn)多臺發(fā)生 器并聯(lián)產(chǎn)氫(集中供氣)，提供穩(wěn)定的流量和壓力、自動分配氫氣，無需外接繁多的氣體 控制機件，為您降低投入成本
對部分重要部件具有獨立跟蹤檢測功能并及時提示，在確保正常運行的同時將零部件使 用時間*大化
型號 流速 cc/min 純度 H2干燥系統(tǒng) 壓力 尺寸 (W x H x D) 應用 MF.H2.110 110 > 99.99999 % (O2< 0.1 ppm, 露點< -75°C ) 自動再生干燥柱 （免維護） 11 bar (160psi) 27 x 44 x 38 cm GC載氣以及檢測器燃燒氣； GC-MS 載氣 MF.H2.170 170 MF.H2.260 260 MF.H2.300 300 MF.H2.400 400 MF.H2.500 500 MF.H2.600 600 MF.H2.1000 1000 MF.H2.1200 1200 MF.H2.1350 1350 MD.H2.110 110 >99.9996 % (O2<1 ppm, 露點< -55°C) 干燥劑筒 （手動更換） 7 bar (101 psi) 27 x 44 x 38 cm GC檢測器燃燒氣 MD.H2.170 170 MD.H2.260 260 MD.H2.300 300 MD.H2.400 400 MD.H2.500 500 MD.H2.600 600 MB.H2.110 110 >99.9996 % (O2<1 ppm, 露點<-20°C) 特殊干燥膜 （免維護） 7 bar (101psi) 27 x 44 x 38 cm GC檢測器燃燒氣
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