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離子去膠機

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參考價 面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號 PR-3
  • 品牌 其他品牌
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 所在地 濟寧市
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更新時間：2023-07-31 11:26:13瀏覽次數(shù)：547

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產(chǎn)品簡介

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保
范圍 0.3?～3?m/s
離子去膠機 型號：PR-3

通過等離子體方法，對陶瓷片、硅片等襯底材料圖形上的光刻膠進行干法去除。設(shè)備為單室真空系統(tǒng)，主要由真空系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、電氣系統(tǒng)、射頻電源系統(tǒng)

詳細介紹

離子去膠機 型號：PR-3

離子去膠機 

通過等離子體方法，對陶瓷片、硅片等襯底材料圖形上的光刻膠進行干法去除。設(shè)備為單室真空系統(tǒng)，主要由真空系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、電氣系統(tǒng)、射頻電源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、報警系統(tǒng)等部分組成。 
射頻電源采用RF500W電源控制。 
氣路系統(tǒng)采用兩臺浮子流量計控制氣體進氣。
  腔室結(jié)構(gòu)：臥式、純石英
  真空室規(guī)格：F210′300mm
  限真空：1Pa（環(huán)境濕度≤55%）
  真空系統(tǒng):機械泵
  大裝片直徑: F4英寸
   大裝片容量：4英寸 25片/爐
  去膠速率: ～500A/min
  去膠不均勻性：≤±5％ (φ4吋范圍內(nèi))
  操作方式:手動方式
用戶可選配全自動控制方式

通過等離子體方法，對陶瓷片、硅片等襯底材料圖形上的光刻膠進行干法去除。設(shè)備為單室真空系統(tǒng)，主要由真空系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、電氣系統(tǒng)、射頻電源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、報警系統(tǒng)等部分組成。 
射頻電源采用RF500W電源控制。 
氣路系統(tǒng)采用兩臺浮子流量計控制氣體進氣。
  腔室結(jié)構(gòu)：臥式、純石英
  真空室規(guī)格：F210′300mm
  限真空：1Pa（環(huán)境濕度≤55%）
  真空系統(tǒng):機械泵
  大裝片直徑: F4英寸
   大裝片容量：4英寸 25片/爐
  去膠速率: ～500A/min
  去膠不均勻性：≤±5％ (φ4吋范圍內(nèi))
  操作方式:手動方式
用戶可選配全自動控制方式


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