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半導(dǎo)體封裝必看:基于推拉力測試機(jī)的晶圓鍵合強(qiáng)度檢測標(biāo)準(zhǔn)全解析

時間:2025/6/18閱讀:38
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隨著半導(dǎo)體技術(shù)節(jié)點(diǎn)不斷逼近物理極限,三維集成與先進(jìn)封裝技術(shù)已成為延續(xù)摩爾定律的重要途徑。晶圓鍵合作為實(shí)現(xiàn)3D封裝的核心工藝,其可靠性直接決定了最終器件的性能與良率。然而,由于異質(zhì)材料間的熱失配、晶格失配以及工藝參數(shù)復(fù)雜等因素,鍵合界面的可靠性面臨嚴(yán)峻挑戰(zhàn)。 

本文科準(zhǔn)測控小編將從鍵合原理出發(fā),詳細(xì)介紹晶圓鍵合可靠性的評價(jià)標(biāo)準(zhǔn)、測試方法及關(guān)鍵儀器應(yīng)用,為行業(yè)提供一套完整的工藝可靠性分析方案,助力國內(nèi)半導(dǎo)體企業(yè)突破先進(jìn)封裝技術(shù)瓶頸。

 

一、晶圓鍵合可靠性分析原理

1鍵合界面力學(xué)特性

晶圓鍵合可靠性本質(zhì)上取決于界面原子或分子間的結(jié)合強(qiáng)度。根據(jù)鍵合類型不同,界面作用力可分為:

化學(xué)鍵合力:共價(jià)鍵(熔融鍵合)、離子鍵(陽極鍵合)和金屬鍵(銅-銅鍵合)

物理吸附力:范德華力(臨時鍵合膠)和氫鍵

機(jī)械互鎖力:共晶鍵合和熱壓鍵合中的微觀機(jī)械錨定效應(yīng)

鍵合強(qiáng)度通常用界面斷裂能(Gc)表示,定義為分離單位面積鍵合界面所需能量,單位為J/m2。高質(zhì)量永jiu鍵合的Gc應(yīng)接近材料本體斷裂能(硅約為2.5 J/m2)。

2可靠性失效機(jī)制

鍵合工藝常見的失效模式包括:

界面分層:由表面污染、活化不足或熱應(yīng)力引起

空洞缺陷:鍵合過程中氣體滯留形成

熱機(jī)械失效:CTE失配導(dǎo)致循環(huán)應(yīng)力積累

電遷移:混合鍵合中銅互連的電流密度問題

3、可靠性評價(jià)維度

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二、晶圓鍵合可靠性測試標(biāo)準(zhǔn)

MIL-STD-883:方法2019.7規(guī)定芯片剪切測試方法

JESD22-B109:晶圓級鍵合剪切強(qiáng)度測試標(biāo)準(zhǔn)

SEMI G86:臨時鍵合/解鍵合工藝指南

DIN EN ISO 19095:塑料-金屬界面粘附力評估

2關(guān)鍵測試項(xiàng)目及標(biāo)準(zhǔn)

A、剪切強(qiáng)度測試(依據(jù)JESD22-B109

測試目的:評估鍵合界面抗剪切應(yīng)力能力

合格標(biāo)準(zhǔn):

-硅直接鍵合:≥15 MPa

銅混合鍵合:≥50 MPa

臨時鍵合膠:5-15 MPa

B、拉伸強(qiáng)度測試(依據(jù)ASTM F692

測試方法:使用圓柱形夾具垂直分離鍵合對

典型要求:≥5 MPa(永jiu鍵合)

C、熱循環(huán)測試(依據(jù)JESD22-A104

條件:-55~125℃,1000次循環(huán)

判定標(biāo)準(zhǔn):強(qiáng)度衰減<20%

 

三、檢測設(shè)備(剪切強(qiáng)度測試)

1Beta S100推拉力測試機(jī)

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1、設(shè)備介紹

Beta S100推拉力測試機(jī)是一種專為微電子領(lǐng)域設(shè)計(jì)的動態(tài)測試設(shè)備,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體封裝、LED封裝、光電子器件封裝等多個行業(yè)。該設(shè)備采用先進(jìn)的傳感技術(shù),能夠精確測量材料或組件在推力、拉力和剪切力作用下的強(qiáng)度和耐久性。其主要特點(diǎn)包括:

a、高精度:全量程采用自主研發(fā)的高精度數(shù)據(jù)采集系統(tǒng),確保測試數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性。

b、多功能性:支持多種測試模式,如晶片推力測試、金球推力測試、金線拉力測試以及剪切力測試等。

c、操作便捷:配備專用軟件,操作簡單,支持多種數(shù)據(jù)輸出格式,能夠wan美匹配工廠的SPC網(wǎng)絡(luò)系統(tǒng)。

2、產(chǎn)品特點(diǎn)

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3、常用工裝夾具

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4、實(shí)測案例

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四、可靠性測試流程

步驟一、測試前準(zhǔn)備

1、樣品制備

鍵合對切割為10×10mm2測試單元

標(biāo)記測試位置(避開劃片道)

2、設(shè)備校準(zhǔn)

力傳感器歸零

光學(xué)系統(tǒng)焦距校準(zhǔn)

溫度平臺驗(yàn)證(如適用)

步驟二、標(biāo)準(zhǔn)測試流程

1、非破壞性篩查

使用聲學(xué)顯微鏡(SAM)檢測界面空洞

合格標(biāo)準(zhǔn):空洞面積<5%

2、剪切強(qiáng)度測試

將樣品固定在加熱平臺(根據(jù)測試要求)

刀頭以50μm/s速度接近樣品

接觸后自動檢測初始接觸力(閾值0.01N

以設(shè)定速度(通常100μm/s)施加剪切力

記錄最大斷裂力和失效模式

3、數(shù)據(jù)分析

計(jì)算平均強(qiáng)度及Weibull分布

失效模式分類:

界面斷裂(粘附失效)

內(nèi)聚斷裂(材料本身破壞)

混合失效

4、加速老化測試

高溫高濕存儲(85/85%RH96h

熱沖擊測試(-65~150℃,100次)

測試后重復(fù)步驟2-3

步驟三、典型測試報(bào)告內(nèi)容

樣品信息(材料、工藝參數(shù))

測試條件(溫度、濕度、速度)

原始數(shù)據(jù)及統(tǒng)計(jì)結(jié)果

失效模式顯微照片

Weibull分布曲線

與工藝規(guī)范的符合性判定

 

五、案例研究:銅混合鍵合可靠性分析

1測試條件

樣品:12英寸晶圓,5μm銅凸點(diǎn)

鍵合參數(shù):300/40kN/30min

對比組:不同CMP粗糙度(Ra=1nm vs 3nm

2、測試結(jié)果

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5.3、結(jié)論

表面粗糙度對鍵合可靠性影響顯著:

Ra=1nm組表現(xiàn)出更高強(qiáng)度及一致性

粗糙表面導(dǎo)致應(yīng)力集中,降低界面結(jié)合

優(yōu)化CMP工藝可提高可靠性30%以上

 

以上就是小編介紹的有關(guān)于晶圓鍵合工藝可靠性測試相關(guān)內(nèi)容了,希望可以給大家?guī)韼椭?!如果您還想了解更多關(guān)于推拉力測試機(jī)廠家、怎么使用視頻和圖解,品使用步驟及注意事項(xiàng)、作業(yè)指導(dǎo)書,原理、怎么校準(zhǔn)和使用方法視頻,推拉力測試儀操作規(guī)范、使用方法和測試視頻 ,焊接強(qiáng)度測試儀使用方法和鍵合拉力測試儀等問題,歡迎您關(guān)注我們,也可以給我們私信和留言,【科準(zhǔn)測控】小編將持續(xù)為大家分享推拉力測試機(jī)在鋰電池電阻、晶圓、硅晶片、IC半導(dǎo)體、BGA元件焊點(diǎn)、ALMP封裝、微電子封裝、LED封裝、TO封裝等領(lǐng)域應(yīng)用中可能遇到的問題及解決方案。

 


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