半導體行業(yè)電子廠超純水設備

半導體行業(yè)電子廠超純水設備

半導體(semiconductor)，指常溫下導電性能介于導體與絕緣體之間的材料。半導體材料很多，按化學成分可分為元素半導體和化合物半導體兩大類。鍺和硅是***常用的元素半導體;化合物半導體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：砷化鎵、磷化鎵等;Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化鎘、硫化鋅等;氧化物：錳、鉻、鐵、銅的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體：鎵鋁砷、鎵砷磷等。除上述晶態(tài)半導體外，還有非晶態(tài)的玻璃半導體、有機半導體等。

半導體行業(yè)電子廠超純水設備簡介：

1、無需酸堿再生：在混床中樹脂需要用化學藥品酸堿再生，而EDI則消除了這些有害物質(zhì)的處理和繁重的工作，保護了環(huán)境。

　　2、連續(xù)、簡單的操作：在混床中由于每次再生和水質(zhì)量的變化，使操作過程變得復雜，而EDI的產(chǎn)水過程是穩(wěn)定的連續(xù)的，產(chǎn)水水質(zhì)是恒定的，沒有復雜的操作程序，操作大大簡便化。

　　3、降低了安裝的要求：EDI系統(tǒng)與相當處理水量的混床相比，有較不的體積，電子半導體用超純水設備采用積木式結(jié)構(gòu)，可依據(jù)場地的高度和靈活地構(gòu)造，模塊化的設計，使EDI在生產(chǎn)工作時能方便維護。

工藝流程

1、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點(≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)。

2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥18MΩ.CM)(工藝)。

3、預處理→一級反滲透→加藥機(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥17MΩ.CM)(工藝)。

4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥15MΩ.CM)(工藝)。

5、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水點 (≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)。

應用流程

1、電廠化學水處理

2、電子、半導體、精密機械行業(yè)超純水

3、食品、飲料、飲用水的制備

4、小型純水站，團體飲用純水

5、精細化工、精尖學科用水

6、其他行業(yè)所需的高純水制備

7、制藥工業(yè)工藝用水

8、海水、苦咸水的淡化