分辨率的革命:為何電子能超越光的極限?
談論顯微鏡時,人們常聚焦 “放大倍率",但真正決定觀測能力的核心是分辨率—— 即區(qū)分兩個相鄰點的最小距離。就像在夜色中辨認汽車,最初只能看到一團光暈,直到距離足夠近,才能分清兩個獨立的車燈,這個 “分清" 的臨界點,便是分辨率的體現(xiàn)。

圖 光譜示意圖
1873 年,物理學家恩斯特?阿貝提出,光學顯微鏡的分辨率受限于光的波長和物鏡數(shù)值孔徑。這意味著,成像 “工具" 的波長越短,能觀測的結構就越精細。而可見光 400-700 納米的波長,讓光學顯微鏡的分辨率難以突破 200 納米,面對病毒(約 10-300 納米)、納米顆粒等微觀物體時,只能 “霧里看花"。
電子的出現(xiàn),打破了這一局限。根據(jù)德布羅意物質(zhì)波理論,運動的電子具有波的特性,其波長與加速電壓密切相關 —— 在 100kV 的加速電壓下,電子波長僅為 0.0037 納米,比可見光短約十萬倍。這相當于把 “粗尺" 換成了 “納米級游標卡尺",讓電子顯微鏡能輕松觀測納米甚至亞納米級結構,直接 “看見" 原子的排列成為可能。
電子顯微鏡的 “核心骨架":三大系統(tǒng)缺一不可

圖 不同的顯微鏡觀測的波長范圍
無論何種類型的電子顯微鏡,其能穩(wěn)定觀測微觀世界,都依賴三大核心系統(tǒng)的協(xié)同工作,它們?nèi)缤@微鏡的 “心臟"“眼睛" 和 “呼吸通道",共同構建起觀測納米世界的平臺。
1. 電子槍:電子束的 “發(fā)源地"
電子槍是產(chǎn)生高能量、高亮度電子束的核心部件,相當于光學顯微鏡的 “光源",主要由燈絲(陰極)、韋氏筒和陽極組成。根據(jù)燈絲材料和工作原理,電子槍分為三類,適配不同的觀測需求:
鎢燈絲:成本低、維護方便,是普及型掃描電鏡的。例如澤攸科技 ZEM10、ZEM18 系列臺式掃描電鏡,采用預對中鎢燈絲設計,大幅簡化了操作流程,讓新手也能輕松維護。
單晶燈絲:以 LaB?(六硼化鑭)為代表,亮度更高、壽命更長,能提供更優(yōu)的信噪比和分辨率,適合對性能有更高要求的場景。如澤攸科技 ZEM20 Pro,憑借單晶 LaB?燈絲,分辨率可達 3 納米。
場發(fā)射電子槍:亮度最高、電子束能量最集中,是實現(xiàn)原子級分辨率的關鍵。澤攸科技 ZEM Ultra 系列場發(fā)射掃描電鏡,采用肖特基場發(fā)射電子源,分辨率優(yōu)于 2.5 納米,能捕捉到原子級別的細微結構。
2. 電磁透鏡:電子束的 “導航儀"
與光學顯微鏡用玻璃透鏡折射光線不同,電子顯微鏡依靠電磁透鏡控制電子束 —— 通過精確調(diào)節(jié)線圈中的電流,改變磁場強度,實現(xiàn)電子束的聚焦、縮放和引導。如果說電子槍產(chǎn)生了 “觀測光束",電磁透鏡就是 “調(diào)整鏡頭焦距" 的核心,確保電子束能精準聚焦在樣品上,或把攜帶樣品信息的電子束傳遞到探測器。

圖 不同透射強度會聚點也不同
3. 真空系統(tǒng):電子束的 “保護罩"
電子在空氣中會與氣體分子碰撞散射,導致電子束發(fā)散、成像模糊。因此,電子顯微鏡的整個光路(從電子槍到探測器)必須處于高真空環(huán)境中,這也是電子顯微鏡無法直接觀測活體、含水樣品的重要原因 —— 真空環(huán)境會讓樣品中的水分快速蒸發(fā),破壞其原始結構。
兩大核心技術:TEM 與 SEM 的 “分工協(xié)作"

圖 TEM與SEM原理
電子顯微鏡主要分為透射電子顯微鏡(TEM)和掃描電子顯微鏡(SEM)兩類,它們的工作原理、樣品要求和觀測重點截然不同,卻共同覆蓋了從 “內(nèi)部結構" 到 “表面形貌" 的微觀觀測需求。
1. TEM:穿透樣品,看清 “內(nèi)部構造"
TEM 是最早發(fā)明的電子顯微鏡,工作原理類似傳統(tǒng)光學幻燈機:高能電子束穿透極薄的樣品,由于樣品不同區(qū)域的密度、厚度存在差異,對電子的散射能力也不同 —— 致密區(qū)域(如原子核、晶界)會強烈散射電子,導致穿過的電子減少;疏松區(qū)域則散射較弱,穿過的電子更多。這些攜帶樣品內(nèi)部信息的電子束,經(jīng)多級電磁透鏡放大后,在熒光屏或探測器上形成二維明暗襯度像(即 “明場像"),暗區(qū)對應致密結構,亮區(qū)對應疏松結構。
核心優(yōu)勢:分辨率,能直接觀察材料的晶體結構、原子排布、位錯等內(nèi)部精細特征,比如看清病毒的內(nèi)部核酸分布、納米顆粒的原子構型。核心挑戰(zhàn):樣品制備嚴苛。生物樣品需經(jīng)過固定、脫水、包埋、切片等復雜流程,最終切成 50-100 納米的超薄切片;材料樣品則需通過減薄或聚焦離子束(FIB)技術,制成電子束可穿透的薄膜。
2. SEM:掃描表面,捕捉 “微觀形貌"
與 TEM 讓電子束 “穿過" 樣品不同,SEM 的核心是 “掃描"—— 一束極細的聚焦電子束在樣品表面逐點、逐行進行光柵式掃描,當高能入射電子與樣品表面原子相互作用時,會激發(fā)出二次電子、背散射電子、特征 X 射線等多種信號,SEM 通過探測這些信號,實現(xiàn)成像與分析。
二次電子(SE):入射電子 “敲出" 樣品原子核外層電子形成,能量低(通常 < 50eV),僅來自樣品表層幾納米到十幾納米深度,對表面形貌極為敏感。我們常見的、具有強烈立體感的微觀圖像(如昆蟲復眼的六邊形結構、金屬表面的細微劃痕),大多由二次電子信號構成。
背散射電子(BSE):入射電子與樣品原子性碰撞后 “反彈" 形成,能量高,其信號強度與樣品表面原子序數(shù)(Z)正相關 —— 原子序數(shù)越大(如金、鉑),BSE 信號越強,圖像中對應區(qū)域越亮。這種 “成分襯度" 能直觀反映樣品表面的化學成分分布,比如區(qū)分樣品中的金屬雜質(zhì)與基體材料。像澤攸科技 ZEM 系列掃描電鏡,標配四分割背散射電子探測器,還能通過組合不同象限信號獲取形貌信息,與 SE 信號混合成像,讓圖像信息更豐富。
特征 X 射線:入射電子擊出原子內(nèi)層電子后,外層電子躍遷填補空位時釋放的特定能量 X 射線,每種元素的特征 X 射線能量,如同 “元素指紋"。通過能譜儀(EDS)分析這些 X 射線,可對樣品表面微區(qū)進行元素定性和半定量分析。澤攸科技 ZEM 系列預留了牛津儀器、布魯克等主流 EDS 廠商的接口,實現(xiàn)了 “形貌觀察 + 成分分析" 一體化。
技術革新:讓電子顯微鏡更 “易用"“強大"
隨著技術發(fā)展,尤其是臺式掃描電鏡的興起,電子顯微鏡不再是少數(shù)頂尖實驗室的 “奢侈品",而是通過三大革新,變得更易操作、適用范圍更廣。
 圖 澤攸科技ZEM系列掃描電鏡可同時采集SE及BSE圖像
圖 澤攸科技ZEM系列掃描電鏡可同時采集SE及BSE圖像
1. 低真空 / 環(huán)境掃描模式:不導電樣品的 “福音"
傳統(tǒng) SEM 要求樣品導電,否則電子束轟擊會導致樣品表面電荷積累,引發(fā)圖像扭曲、漂移。對于生物組織、陶瓷、高分子等不導電樣品,通常需要 “噴金" 或 “噴碳" 處理,這不僅耗時,還可能破壞樣品原始形貌。低真空模式(如澤攸科技 ZEM20 可在 1-60Pa 范圍內(nèi)調(diào)節(jié))通過在樣品室引入少量特定氣體,氣體分子被電離后中和樣品表面多余電荷,實現(xiàn)了不導電樣品 “不噴涂直接觀測",保全了樣品的原始狀態(tài) —— 比如觀察蛋糕表面的奶油結構、陶瓷的孔隙分布時,無需擔心涂層掩蓋細節(jié)。
 圖 低真空與高真空對比
圖 低真空與高真空對比
2. 自動化與易用性:新手也能 “上手即會"
以往操作 SEM 需要經(jīng)驗豐富的工程師調(diào)節(jié)光路對中、優(yōu)化參數(shù),門檻高。而現(xiàn)代臺式 SEM(如澤攸科技 ZEM 系列)配備全中文圖形化操作界面、光學相機導航,還支持一鍵式自動亮度 / 對比度 / 聚焦,即使是初次接觸的科研人員,也能在短時間內(nèi)獲得高質(zhì)量圖像。
3. 原位分析:從 “靜態(tài)觀察" 到 “動態(tài)實驗"
通過集成特殊樣品臺,SEM 已從單純的 “微觀觀測工具",升級為 “動態(tài)實驗平臺":配備 TEC 冷臺,可對含水樣品(如生物組織、食品)進行冷凍觀察,研究其在低溫下的真實結構(如 - 20℃下香蕉的細胞形態(tài));配備原位拉伸臺,能在納米尺度下實時觀察材料受力時的裂紋萌生與擴展,助力研究金屬、復合材料的失效機理。
 圖 澤攸科技TEC冷臺案例圖
圖 澤攸科技TEC冷臺案例圖
微觀探索的 “不止步"
選擇 TEM 還是 SEM,本質(zhì)是選擇觀測目標:想看清病毒內(nèi)部結構、材料晶格缺陷,TEM 是選;想觀察昆蟲復眼形貌、分析樣品表面污染物成分,SEM 則更合適。從揭示物質(zhì)的原子構造,到推動半導體芯片工藝迭代,電子顯微鏡始終是人類探索微觀世界的 “火眼金睛"。
如今,隨著澤攸科技等企業(yè)對臺式電鏡的研發(fā)突破,電子顯微鏡正變得更智能、更易獲取 —— 它們不再是實驗室的 “稀缺資源",而是逐漸成為科研人員、工程師手中的 “常規(guī)工具"。未來,隨著分辨率的進一步提升、原位分析功能的拓展,電子顯微鏡必將帶領我們揭開更多微觀世界的奧秘,為材料科學、生命科學、半導體工業(yè)的創(chuàng)新注入源源不斷的動力。
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