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UV-M10-S池田屋現(xiàn)貨ORC照度計紫外線輻照計
| 參考價: | ￥ 24798 |
| 訂貨量: | 1件 |
具體成交價以合同協(xié)議為準- UV-M10-S 產(chǎn)品型號
- ORC/日本 品牌
- 經(jīng)銷商 廠商性質(zhì)
- 深圳市 所在地
訪問次數(shù)：54更新時間：2025-07-13 17:17:58
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產(chǎn)品簡介
| 產(chǎn)地類別 | 進口 | 價格區(qū)間 | 2萬-5萬 |
|---|---|---|---|
| 應用領(lǐng)域 | 能源,電子/電池,汽車及零部件,電氣,綜合 |
ORC株式會社成立于?1968年2月?，總部位于日本東京都町田市，是專注于?光應用技術(shù)?的設(shè)備制造商。早期以工業(yè)用UV燈和曝光裝置起家，逐步拓展至光測量、檢測儀器領(lǐng)域，技術(shù)底蘊深厚?。
產(chǎn)品介紹
池田屋現(xiàn)貨ORC照度計紫外線輻照計
池田屋現(xiàn)貨ORC照度計紫外線輻照計
以下是關(guān)于日本?ORC株式會社?的專業(yè)介紹，整合公開信息及行業(yè)數(shù)據(jù)，涵蓋核心技術(shù)、產(chǎn)品矩陣、行業(yè)應用及市場地位：
? 一、企業(yè)概況與核心定位
?創(chuàng)立與發(fā)展?
ORC株式會社（ORC Manufacturing Co., Ltd.）成立于?1968年2月?，總部位于日本東京都町田市，是專注于?光應用技術(shù)?的設(shè)備制造商。早期以工業(yè)用UV燈和曝光裝置起家，逐步拓展至光測量、檢測儀器領(lǐng)域，技術(shù)底蘊深厚?。?技術(shù)積淀?
50余年持續(xù)研發(fā)，在?紫外光源技術(shù)?與?精密光學測量?領(lǐng)域形成核心競爭力，產(chǎn)品覆蓋半導體、PCB制造、液晶面板等高精產(chǎn)業(yè)，被日本經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)省認證為“支撐未來的300家創(chuàng)新制造企業(yè)"之一?。
二、核心產(chǎn)品與技術(shù)優(yōu)勢
1. ?紫外光應用設(shè)備?
?UV曝光裝置?：
全自動/半自動PCB曝光設(shè)備（如DiIMPACT Extra18）、液晶基板直寫曝光設(shè)備，支持微米級電路圖案精度?。
手動接觸式曝光機（DiIMPACT Mms60），適用于實驗室和小批量生產(chǎn)?。
?UV固化系統(tǒng)?：
冷風式超高壓UV燈、噴氣式UV干燥設(shè)備，用于印刷、涂裝、電子封裝等行業(yè)的快速固化?。
2. ?光測量儀器?
?紫外能量計系列?：
?UV-M03A?：便攜式設(shè)計（僅160g），支持320-390nm波長檢測，照度范圍0.001~50mW/cm2，適用于印刷、PCB、醫(yī)療滅菌等場景?。
?UV-M06?：專為?172nm準分子紫外燈?定制，可精準測量深紫外線能量，用于半導體光刻和醫(yī)用消毒?。
?UV-M10-P/S?：高精度分光光度儀，支持多波段紫外/可見光分析?。
?特色技術(shù)?：
接收器模塊化（如UV-25/35/42），適配不同光源與抗蝕劑靈敏度?；
RS-232C通訊輸出，實時傳輸測量數(shù)據(jù)?。
3. ?半導體與顯示制造設(shè)備?
?薄膜厚度測定儀?：用于晶圓鍍膜質(zhì)量監(jiān)控；
?雙折射測量設(shè)備?：保障液晶面板光學均一性；
?有機EL檢測設(shè)備?：支撐下一代顯示技術(shù)研發(fā)?。
三、應用領(lǐng)域與典型案例
四、全球布局與市場地位
?銷售網(wǎng)絡(luò)?
通過代理商體系覆蓋全球：?中國?：深圳京都玉崎電子（核心代理商）、北京中科匯儀?；
?歐美?：專業(yè)工業(yè)設(shè)備渠道分銷，滲透汽車電子、光伏產(chǎn)業(yè)鏈?。
?行業(yè)競爭力?
?優(yōu)勢?：測光精度（±1.5%）、耐高溫設(shè)計（100℃環(huán)境）、模塊化擴展性；
?挑戰(zhàn)?：定價高于美系品牌（如美國EIT）約50%，但工藝可靠性獲市場認可?。
總結(jié)
ORC株式會社以?紫外光技術(shù)?為核心，構(gòu)建了從光源設(shè)備到精密儀器的完整產(chǎn)業(yè)鏈，在半導體、電子制造領(lǐng)域具備不可替代性。其產(chǎn)品設(shè)計強調(diào)?高精度?（微米級控制）、?環(huán)境適應性?（高溫/腐蝕場景）及?數(shù)據(jù)可追溯性?（RS-232C輸出），是日本光學制造的企業(yè)。對于需嚴控光固化工藝或深紫外檢測的場景，ORC設(shè)備仍是優(yōu)先選擇?。
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