OHKURA大倉 化學(xué)清洗裝置 SP4200C3110
OHKURA大倉 化學(xué)清洗裝置 SP4200C3110
該裝置采用化學(xué)方法去除pH電極上積聚的水垢，專為超聲波清洗或水射流清洗無效的場合而開發(fā)。它實(shí)現(xiàn)了以往手動(dòng)進(jìn)行的化學(xué)清洗的 自動(dòng)化，包括定期注入化學(xué)藥劑、通過鼓泡進(jìn)行清洗以及化學(xué)藥劑的回收。尤其適用于測量煙氣脫硫設(shè)備的pH值。該裝置由控制面板、清洗裝置（含電極支架）、化學(xué)藥劑罐和保持放大器（選配）組成。
特征
■控制面板
包含確定測量和清洗周期的順序電路和電磁閥。
■化學(xué)槽
由槽體、支架、電磁閥等組成。
■清洗裝置
根據(jù)控制面板的信號，電極支架上升，在電極附近形成空間，以便注入和回收化學(xué)溶液。
■滯留裝置（可選）
該裝置在整個(gè)清洗過程中保持清洗前的pH值，并根據(jù)控制面板的信號維持pH值。
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NS日本科學(xué)、DRY-CABI東利繁、TOKISANGYO東機(jī)
SIBATA柴田、SUGIYAMA杉山、Kakuhunt寫真化學(xué)、NIPPON GEAR日本齒輪
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