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光刻膠烘箱的核心技術(shù)要求

來源：愛義信工業(yè)科技（上海）有限責任公司   2025年05月24日 10:49  

1. 溫度控制

  • 溫度范圍：室溫~250℃（根據(jù)光刻膠類型調(diào)整，如I線膠通常90~120℃，EUV膠需200℃以上）。

  • 均勻性：±0.5℃以內(nèi)（晶圓級烘箱需±0.1℃），避免膠膜厚度不均或顯影缺陷。

  • 升溫速率：1~5℃/秒（快速熱退火RTP型烘箱可達10℃/秒）。

2. 潔凈度

  • Class 10~100級（ISO 4~5級），需配置HEPA/ULPA過濾器（過濾效率≥99.995%）。

  • 無塵設(shè)計：內(nèi)腔為不銹鋼或陶瓷涂層，避免顆粒污染膠面。

3. 氣氛控制

  • 惰性氣體保護（N?、Ar）防止光刻膠氧化（氧含量≤10 ppm）。

  • 局部排風：排出揮發(fā)性有機物（VOCs），避免冷凝回流。

4. 工藝適配性

  • 真空烘箱：用于厚膠（SU-8）或避免氣泡的工藝，真空度可達10?3 mbar。

  • 紅外加熱：減少熱滯后，適合大尺寸基板（如面板顯示制程）。

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