勻膠旋涂儀通過高速旋轉(zhuǎn)基片,利用離心力將滴加在基片表面的膠液均勻鋪展,形成納米至微米級厚度的薄膜。 
  勻膠旋涂儀的構(gòu)成:
  1、旋轉(zhuǎn)平臺:放置基底的核心部件,通常采用真空吸附或機械夾持固定基底,材質(zhì)多為耐腐蝕金屬或陶瓷。
  2、驅(qū)動系統(tǒng):由高精度電機驅(qū)動,可準確控制旋轉(zhuǎn)速度和加速度,確保轉(zhuǎn)速穩(wěn)定。
  3、控制系統(tǒng):通過微處理器或 PLC 實現(xiàn)自動化控制,可預設(shè)旋轉(zhuǎn)程序,部分機型支持觸摸屏操作和數(shù)據(jù)存儲。
  4、防護裝置:包括透明防護罩、廢液收集槽,部分機型配備通風系統(tǒng)。
  5、滴膠輔助裝置:部分設(shè)備集成自動滴膠系統(tǒng),可精準控制滴膠量和滴膠位置,減少人為操作誤差。
  關(guān)鍵參數(shù):
  1、轉(zhuǎn)速范圍:通常為 100-10000 rpm,部分設(shè)備可達 20000 rpm 以上,轉(zhuǎn)速精度直接影響薄膜均勻性。
  2、旋轉(zhuǎn)時間:可設(shè)置 0.1 秒至數(shù)分鐘,多段時間 - 轉(zhuǎn)速組合滿足復雜涂覆需求。
  3、加速度/減速度:控制轉(zhuǎn)速變化的快慢,避免液體因劇烈加速而飛濺或分布不均。
  4、基底尺寸:支持圓形或方形,不同機型適配范圍不同。
  5、真空吸附力:確?;自诟咚傩D(zhuǎn)時不位移,吸附力需根據(jù)基底材質(zhì)和厚度調(diào)整。
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