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上海爾迪儀器科技有限公司

5
  • 2025

    07-10

    等離子去膠機(jī)的工作原理與性能優(yōu)化

    等離子去膠機(jī)是一種利用等離子體技術(shù)去除材料表面膠層或有機(jī)污染物的設(shè)備,廣泛應(yīng)用于電子、半導(dǎo)體、光學(xué)、汽車制造等領(lǐng)域。等離子體技術(shù)的核心優(yōu)勢(shì)在于其能夠在不接觸材料表面的情況下,精確地去除污染物,且不損傷基材,適用于各種精密加工和表面處理。一、工作原理等離子去膠機(jī)通過高電壓或高頻電場(chǎng)激發(fā)氣體分子,使其電離形成等離子體。等離子體中含有大量的帶電離子、自由基和中性粒子,它們能夠與膠層表面的有機(jī)物發(fā)生反應(yīng),打破分子鍵,從而去除膠層或污染物。工作過程通常包括以下幾個(gè)步驟:1、氣體激發(fā):內(nèi)部的氣體通過高電壓或
  • 2025

    07-07

    進(jìn)口等離子清洗機(jī)在半導(dǎo)體行業(yè)中的應(yīng)用

    隨著半導(dǎo)體制造工藝的不斷發(fā)展,對(duì)工藝設(shè)備和清洗技術(shù)的要求越來越高,尤其是在微電子和納米技術(shù)領(lǐng)域。進(jìn)口等離子清洗機(jī)作為一種高效、精密的表面清潔設(shè)備,已廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)中,尤其在晶圓處理、芯片封裝、以及電子元器件的制造過程中起到了關(guān)鍵作用。進(jìn)口等離子清洗機(jī)在半導(dǎo)體行業(yè)中的應(yīng)用,主要包括以下幾個(gè)方面:(1)晶圓清洗晶圓是半導(dǎo)體生產(chǎn)中的關(guān)鍵原材料,任何微小的污染都會(huì)影響后續(xù)的制造工藝,如光刻、刻蝕、薄膜沉積等。在晶圓的各個(gè)生產(chǎn)階段,用于去除晶圓表面可能附著的微粒、氧化物、有機(jī)污染物等。等離子清洗具有
  • 2025

    06-26

    介紹下手持式等離子清洗機(jī)的簡(jiǎn)易日常維護(hù)指南

    一、核心維護(hù)原則等離子清洗機(jī)通過高頻電場(chǎng)使氣體電離產(chǎn)生等離子體,日常維護(hù)需圍繞電極清潔、氣路暢通、設(shè)備散熱、安全防護(hù)四大核心展開,以確保電離效率與設(shè)備壽命。二、日常維護(hù)步驟與要點(diǎn)1.電極與噴嘴清潔(每日/每次使用后)電極積碳處理:等離子體反應(yīng)可能在電極表面形成碳化物或氧化物(尤其處理有機(jī)污染物時(shí)),需用無水乙醇+無塵布擦拭電極尖端及周邊,若積碳嚴(yán)重,可用細(xì)砂紙(800目以上)輕磨表面,避免劃傷電極。噴嘴堵塞清理:若噴嘴內(nèi)殘留顆粒物或聚合物,可用細(xì)針(如針灸針)輕挑內(nèi)部雜物,或用壓縮空氣(≤0.5
  • 2025

    06-10

    產(chǎn)品介紹|Bruker M4 TORNADO PLUS XRF成像光譜儀

    BrukerM4TORNADOPLUS用于超輕元素分析的微區(qū)XRF成像光譜儀更多產(chǎn)品資料,聯(lián)系上海爾迪儀器科技有限公司M4TORNADOPLUS能夠檢測(cè)、分析從碳(C)到镅(Am)全元素的微區(qū)XRF成像光譜儀。作為久經(jīng)驗(yàn)證、市場(chǎng)的M4TORNADO微區(qū)XRF分析儀系列的成員,M4TORNADOPLUS還具備多項(xiàng)創(chuàng)新功能,例如:創(chuàng)新的孔徑管理系統(tǒng)、超高通量脈沖處理器以及靈活的快速更換樣品臺(tái)。產(chǎn)品特點(diǎn)·兩個(gè)大面積硅漂移探測(cè)器(SDD),配備超輕元素窗口·高性能X射線管,增強(qiáng)低能量激發(fā)·超高通量脈沖處
  • 2025

    06-06

    等離子清洗機(jī)在牙科領(lǐng)域有哪些應(yīng)用?

    以下材料均可以使用等離子體進(jìn)行活化、消毒和蝕刻:PEEK、PEKK、Acetal(POM)、PE、PA、或PMMA、金屬(EM,NEM,Titan)、鋯和陶瓷。在牙科工作中使用低壓等離子體進(jìn)行表面處理的優(yōu)勢(shì):活化和蝕刻以獲得更好的附著力?等離子體可以根據(jù)形狀將高性能塑料(例如:PEEK/PEKK)與其他材料無縫組合。?通過使用離子化的氧氣-氬氣-混合氣對(duì)表面進(jìn)行活化和蝕刻,在諸多情況下均可省去底漆的使用。?氧自由基會(huì)增加表面張力,并且用氬原子轟擊會(huì)產(chǎn)生微噴沙效果,從而在形貌上改變納米級(jí)表面并形成
  • 2025

    05-20

    等離子清洗機(jī)在不同行業(yè)的作用

    diener等離子清洗機(jī),聯(lián)系上海爾迪儀器科技有限公司等離子清潔機(jī)也稱為等離子表面處理機(jī)。它的主要功能是清潔表面處理,但不同行業(yè)的作用不同。今天,上海爾迪儀器科技有限公司將為大家總結(jié)幾種常見的等離子清洗機(jī)行業(yè),并了解它們?cè)谛袠I(yè)中的作用。1.等離子清洗機(jī)在LED行業(yè)中的作用(1)清除基板上的污染物,這些污染物有利于銀膠平鋪及芯片粘貼。(2)提高引線,芯片與基板之間的粘接力,提高粘接強(qiáng)度。(3)清潔氧化層或污垢,使芯片和基板更好地粘合膠體。(4)提高膠體與支架結(jié)合的緊密度,防止因空氣滲透而引起的缺陷
  • 2025

    05-14

    diener Parylene表面涂層設(shè)備產(chǎn)品介紹

    聚對(duì)二甲苯(Poly-p-xylene),商品名帕里綸(Parylene),是通過化學(xué)氣相沉積法制備的具有聚二甲撐苯撐結(jié)構(gòu)的聚合物薄膜的統(tǒng)稱,它有極其優(yōu)良的電性能、耐熱性、耐候性和化學(xué)穩(wěn)定性,主要有ParyleneN(聚對(duì)二甲苯)、ParyleneC(聚一氯對(duì)二甲苯)和ParyleneD(聚二氯對(duì)二甲苯)三種。它是采用真空熱解氣相堆積工藝制備,可制成極薄的薄膜,主要用作薄膜和涂層,用于電子元器件的電絕緣介質(zhì)、保護(hù)性涂料和包封材料等工作原理將該二聚體進(jìn)行高溫裂解產(chǎn)生雙自由基,再導(dǎo)入成膜室在成膜物體
  • 2025

    05-09

    Bruker D8 ADVANCE x射線衍射儀xrd購(gòu)買,找爾迪儀器

    BrukerD8ADVANCEx射線衍射儀xrd購(gòu)買,找爾迪儀器BrukerD8ADVANCE規(guī)格:功能規(guī)格優(yōu)勢(shì)TRIO光路和TWIN光路軟件按鈕切換:馬達(dá)驅(qū)動(dòng)發(fā)散狹縫(BB幾何)高強(qiáng)度Ka1,2平行光束高分辨率Ka1平行光束可在多達(dá)6種不同的光束幾何之間進(jìn)行全自動(dòng)化電動(dòng)切換,無需人工干預(yù)是所有類型的樣品分析的理想之選,包括粉末、塊狀材料、纖維、片材和薄膜(非晶、多晶和外延)動(dòng)態(tài)光束優(yōu)化動(dòng)態(tài)同步:馬達(dá)驅(qū)動(dòng)發(fā)散狹縫馬達(dá)驅(qū)動(dòng)防散射屏可變探測(cè)器窗口2?角度范圍:小于1度至大于150度數(shù)據(jù)幾乎不受空氣、
  • 2025

    04-29

    kashiyama MU系列真空泵產(chǎn)品介紹

    新品|介紹kashiyamaMU系列真空泵產(chǎn)品介紹有需要購(gòu)買kashiyamaMU系列真空泵,可聯(lián)系上海爾迪儀器科技有限公司!kashiyamaMU系列優(yōu)點(diǎn):·在蝕刻等中等負(fù)載工藝中實(shí)現(xiàn)低功耗表現(xiàn)·占地面積較同類20,000L/min泵縮小約35%·增強(qiáng)工藝耐久性并提高能源效率·符合各種標(biāo)準(zhǔn)的規(guī)范產(chǎn)品規(guī)格·升級(jí)的工藝耐久性與節(jié)能性能有需要購(gòu)買kashiyamaMU系列真空泵,可聯(lián)系上海爾迪儀器科技有限公司!kashiyamaMU系列產(chǎn)品規(guī)格產(chǎn)品型號(hào):MUP600E/MUP1200E/MUP180
  • 2025

    02-12

    bruker原子力顯微鏡Dimension FastScan,可在爾迪儀器購(gòu)買!

    bruker原子力顯微鏡DimensionFastScan,爾迪儀器有售掃描速度的全新詮釋,擁有高的掃描分辨率,儀器檢測(cè)性能DimensionFastScanTM原子力顯微鏡(AtomicForceMicroscope,AFM),在不損失DimensionIcon超高的分辨率的儀器性能前提下,大限度的提高了成像速度。這項(xiàng)突破性的技術(shù)創(chuàng)新,從根本上解決了AFM成像速度慢的難題,大大縮短了各技術(shù)水平的AFM用戶獲得數(shù)據(jù)的時(shí)間。為滿足AFM使用者對(duì)提高AFM使用效率的需求,Bruker開發(fā)了這套快速掃
  • 2025

    01-13

    bruker Dektak Pro臺(tái)階儀介紹

    BrukerDektakPro布魯克臺(tái)階儀DektakPro™以其多功能,使用的便捷性和在薄膜厚度、臺(tái)階高度、應(yīng)力、表面粗糙度和晶圓翹曲測(cè)量方面廣受贊許。第十一代Dektak®系統(tǒng),具有4?重復(fù)性的表現(xiàn),并提供200毫米平臺(tái)選項(xiàng),在科研以及工業(yè)領(lǐng)域中可以為材料的表面形貌提供各種分析。DektakPro在表面測(cè)量方面設(shè)立了新的目標(biāo),是微電子技術(shù)、薄膜與涂層和生命科學(xué)應(yīng)用的理想選擇。DektakPro可提供:?測(cè)量和分析功能,確保每次都能獲得準(zhǔn)確、嚴(yán)謹(jǐn)?shù)臄?shù)據(jù)?多功能性和便捷性,精簡(jiǎn)的軟件和簡(jiǎn)便的探針
  • 2024

    12-19

    bruker納米壓痕儀應(yīng)用范圍

    bruker納米壓痕儀主要用于微納米尺度薄膜材料的硬度與楊氏模量測(cè)試,測(cè)試結(jié)果通過力與壓入深度的曲線計(jì)算得出,無需通過顯微鏡觀察壓痕面積.主要應(yīng)用納米壓痕儀主要用于測(cè)量納米尺度的硬度與彈性模量,可以用于研究或測(cè)試薄膜等納米材料的接觸剛度、蠕變、彈性功、塑性功、斷裂韌性、應(yīng)力-應(yīng)變曲線、疲勞、存儲(chǔ)模量及損耗模量等特性。可適用于有機(jī)或無機(jī)、軟質(zhì)或硬質(zhì)材料的檢測(cè)分析,包括PVD、CVD、PECVD薄膜,感光薄膜,彩繪釉漆,光學(xué)薄膜,微電子鍍膜,保護(hù)性薄膜,裝飾性薄膜等等?;w可以為軟質(zhì)或硬質(zhì)材料,包括
  • 2024

    12-16

    Bruker Hysitron TI 980納米壓痕儀介紹

    布魯克的納米壓痕儀HysitronTI980TriboIndenter同時(shí)具有大性能、靈活性、可靠性、可用性和速度。這臺(tái)行業(yè)的系統(tǒng)以數(shù)十年的Hysitron技術(shù)創(chuàng)新為基礎(chǔ),在納米力學(xué)特性測(cè)試方面提供更高水平的非凡性能、增強(qiáng)的功能的多功能性。HysitronTI980納米壓痕儀是在準(zhǔn)確控制、測(cè)試帶寬、測(cè)試靈活性、適用性、測(cè)量可靠性和系統(tǒng)模塊化方面都取得了顯著進(jìn)步。簡(jiǎn)易高速的自動(dòng)化BrukerTI980提供了高通量表征所需的快速、多樣品和多技術(shù)自動(dòng)測(cè)試能力。它可以按照設(shè)定時(shí)間間隔自動(dòng)驗(yàn)證針尖形狀,還
  • 2024

    12-06

    bruker輪廓儀主要由哪些部件構(gòu)成?

    bruker輪廓儀是一種高精度的表面形貌測(cè)量?jī)x器,主要用于測(cè)量各種材料的表面形貌特征,包括表面粗糙度、曲率、平整度等參數(shù)。它由多個(gè)部件組成,每個(gè)部件都起著重要的作用,下面將詳細(xì)介紹bruker輪廓儀的主要部件構(gòu)成。1、光學(xué)系統(tǒng):光學(xué)系統(tǒng)是其核心部件之一,主要包括光源、物鏡、干涉儀、探測(cè)器等。光源產(chǎn)生光束,物鏡用于聚焦光束到待測(cè)樣品表面,干涉儀用于測(cè)量光束的干涉信號(hào),探測(cè)器用于接收干涉信號(hào)并將其轉(zhuǎn)換為電信號(hào)。光學(xué)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)和精度直接影響了測(cè)量結(jié)果的準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性。2、機(jī)械系統(tǒng):機(jī)械系統(tǒng)包括樣品臺(tái)、
  • 2024

    12-02

    Yamato滅菌器在滅菌過程中需要注意哪些事項(xiàng)?

    Yamato滅菌器是一種能殺滅或清除傳播媒介上一切微生物的儀器,廣泛應(yīng)用于醫(yī)療衛(wèi)生、科研實(shí)驗(yàn)、食品加工等領(lǐng)域,以確保器械、設(shè)備、物品等的無菌狀態(tài)。在使用Yamato滅菌器進(jìn)行滅菌過程中,需要注意以下事項(xiàng):1、選擇合適的滅菌方法:根據(jù)待滅菌物品的性質(zhì)、材質(zhì)和對(duì)溫度的耐受程度,選擇合適的滅菌方法。例如,對(duì)于耐高溫的物品,可以選擇高壓蒸汽滅菌;對(duì)于不耐高溫的物品,可以選擇干熱滅菌或者化學(xué)氣體滅菌。2、檢查工作狀態(tài):在使用前,應(yīng)檢查其工作狀態(tài),確保正常運(yùn)行。如有異常,應(yīng)及時(shí)聯(lián)系維修人員進(jìn)行處理。3、裝載
  • 2024

    12-02

    Yamato滅菌器:高效、可靠的消毒解決方案

    Yamato滅菌器是一種先進(jìn)的設(shè)備,專為實(shí)現(xiàn)高效、可靠的消毒解決方案而設(shè)計(jì)。該滅菌器采用先進(jìn)的技術(shù)和創(chuàng)新的設(shè)計(jì),能夠廣泛應(yīng)用于醫(yī)療、實(shí)驗(yàn)室、制藥和食品行業(yè)等領(lǐng)域,為用戶提供安全可靠的滅菌解決方案。一、高效性能:Yamato滅菌器具有的性能,能夠在短時(shí)間內(nèi)進(jìn)行高效的滅菌。其高溫高壓的工作原理能夠有效地殺滅細(xì)菌、真菌、病毒和其他微生物,確保物品消毒。無論是固體物品、液體介質(zhì)還是空氣中的微生物,都能提供的殺菌效果,確保消毒的可靠性。二、多樣化應(yīng)用:適用于各種不同類型的物品和設(shè)備的消毒。無論是醫(yī)院中的手
  • 2024

    11-20

    等離子表面處理儀在改善粘合行業(yè)上的應(yīng)用

    diener等離子清洗機(jī)、diener等離子蝕刻機(jī)、TDK手持式等離子PZ3等多種等離子設(shè)備在上海爾迪儀器科技有限公司有售。---------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------當(dāng)在膠接前使用等離子體對(duì)表面進(jìn)行功能化時(shí),所產(chǎn)生的膠接將表現(xiàn)出強(qiáng)有力的
  • 2024

    11-20

    爾迪儀器|低壓等離子技術(shù)介紹

    對(duì)于低壓等離子技術(shù),氣體在真空中通過獲取能量從而被激發(fā)。等離子由高能離子、高能電子以及其它反應(yīng)粒子組成。由此,等離子材料表面可以被有效的改變。其diener等離子清洗機(jī)效應(yīng)可以分為以下三類-·微砂噴射:材料表面通過離子轟擊被消減·化學(xué)反應(yīng):材料表面與離子化的氣體產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)·紫外線放射:紫外射線將長(zhǎng)鏈破化合物分解通過改變工藝參數(shù),如:壓力、發(fā)生器功率、工藝時(shí)間、氣體流量和氣體組成,可以獲得不同的等離子效果。如此便可在一道工序內(nèi)完成多種工藝效果。低壓等離子技術(shù)特點(diǎn)特別適用于處理2D或3D部件用于處
  • 2024

    11-12

    簡(jiǎn)述BRUKER納米壓痕儀的基本組成部件

    BRUKER納米壓痕儀是一種用于研究材料力學(xué)性能和納米結(jié)構(gòu)表征的儀器。它通過在材料表面施加控制的壓力,同時(shí)測(cè)量材料的變形和硬度等參數(shù),從而獲得材料的力學(xué)性能數(shù)據(jù)。BRUKER納米壓痕儀的基本組成部件包括以下幾個(gè)方面:1、壓頭系統(tǒng):壓頭系統(tǒng)是其核心部件,用于施加壓力到樣品表面。通常由控制器、壓頭和傳感器組成。壓頭可根據(jù)實(shí)驗(yàn)需求選擇不同形狀和尺寸的壓頭,如金字塔形、球形等。傳感器用于測(cè)量壓頭的位移和樣品的變形,從而計(jì)算出樣品的硬度等力學(xué)性能參數(shù)。2、樣品臺(tái):樣品臺(tái)是用于固定和支撐待測(cè)試樣品的平臺(tái)。樣
  • 2024

    11-06

    plasma清洗機(jī)在半導(dǎo)體制造中的應(yīng)用

    在半導(dǎo)體制造中,plasma清洗機(jī)是一種非常重要的設(shè)備,用于清潔和處理半導(dǎo)體器件表面,以確保器件的質(zhì)量和性能。利用高能離子和活性氣體來去除表面的有機(jī)和無機(jī)雜質(zhì),同時(shí)可以改變表面的化學(xué)性質(zhì),從而提高器件的性能。在半導(dǎo)體制造中,plasma清洗機(jī)主要用于以下幾個(gè)方面:1、清洗表面:在半導(dǎo)體器件的制造過程中,表面往往會(huì)被污染或覆蓋有氧化物等雜質(zhì)。這些雜質(zhì)會(huì)影響器件的性能和可靠性。通過高能離子和活性氣體的作用,可以去除表面的雜質(zhì)和氧化物,使器件表面更加干凈。2、去除光刻膠:在半導(dǎo)體制造過程中,光刻膠是重
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