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2025
05-22層流壓差式氣體質(zhì)量流量控制器在生物發(fā)酵罐中的應(yīng)用
層流壓差式氣體質(zhì)量流量控制器(LaminarDifferentialPressureGasMassFlowController,簡稱MFC)在生物發(fā)酵罐中的應(yīng)用至關(guān)重要,尤其是在需要高精度氣體流量控制的場景中。其通過精準(zhǔn)調(diào)節(jié)氧氣(O?)、氮氣(N?)、二氧化碳(CO?)等氣體的流量,直接影響微生物的生長代謝、產(chǎn)物合成效率和發(fā)酵過程穩(wěn)定性。工作原理與核心優(yōu)勢層流壓差原理氣體通過層流元件(如毛細(xì)管或?qū)恿髌r形成穩(wěn)定的層流狀態(tài),壓差(ΔP)與質(zhì)量流量(Q)呈線性關(guān)系。通過測量壓差、溫度和壓力,結(jié)合氣2025
05-21層流壓差式質(zhì)量流量控制器在呼吸機生產(chǎn)線上的應(yīng)用
層流壓差式質(zhì)量流量控制器(MassFlowController)在呼吸機生產(chǎn)線中扮演著關(guān)鍵角色,主要用于高精度氣體流量測量與控制。其核心原理基于層流狀態(tài)下流體壓差與體積流量的線性關(guān)系,結(jié)合溫度、壓力補償,實現(xiàn)對氣體質(zhì)量流量的精準(zhǔn)調(diào)控。呼吸機生產(chǎn)中的核心應(yīng)用場景氣體混合與比例控制呼吸機需精確混合氧氣和空氣(如21%-100%氧濃度),層流壓差式控制器通過閉環(huán)反饋實時調(diào)整比例,確?;旌蠚怏w濃度誤差≤±1%,滿足醫(yī)療標(biāo)準(zhǔn)(ISO80601-2-12)。關(guān)鍵部件測試與校準(zhǔn)流量傳感器標(biāo)定:在生產(chǎn)線上,使用2025
05-202025
05-19配氣系統(tǒng)如何通過質(zhì)量流量控制器按照比例精準(zhǔn)混氣
在工業(yè)氣體混合、半導(dǎo)體制造、環(huán)境監(jiān)測及化工生產(chǎn)等領(lǐng)域,配氣系統(tǒng)的核心任務(wù)是將多種氣體按預(yù)設(shè)比例精確混合。其中,層流壓差式質(zhì)量流量控制器(MassFlowController,MFC)因其高精度、快速響應(yīng)和穩(wěn)定性,成為實現(xiàn)氣體精準(zhǔn)配比的關(guān)鍵設(shè)備。層流壓差式質(zhì)量流量控制器的工作原理1.基于層流流動的流量檢測層流壓差式MFC的核心原理基于流體力學(xué)中的層流特性。當(dāng)氣體流經(jīng)一段精密加工的毛細(xì)管或?qū)恿髟r,在低流速下會形成穩(wěn)定的層流狀態(tài)。2.閉環(huán)控制實現(xiàn)精準(zhǔn)調(diào)節(jié)層流壓差式MFC采用閉環(huán)反饋控制系統(tǒng):傳感器2025
05-16手持便攜式數(shù)顯氣體質(zhì)量流量計在大氣環(huán)保監(jiān)測中的應(yīng)用
層流壓差式流量計的核心原理手持便攜式數(shù)顯氣體質(zhì)量流量計的核心技術(shù)基于層流壓差式原理,其物理基礎(chǔ)是哈根-泊肅葉定律。該定律描述了流體在層流狀態(tài)下,體積流量與壓差、粘度之間的線性關(guān)系。手持便攜式層流壓差流量計憑借其高精度與便攜性,在大氣環(huán)保監(jiān)測中發(fā)揮重要作用:痕量污染物采樣需求:可測量16.7升的體積流量,監(jiān)測PM2.5、SO?、NOx等污染物時,流量穩(wěn)定性需控制在±1%以內(nèi),以避免數(shù)據(jù)偏差。應(yīng)用:通過內(nèi)置溫度補償算法(適應(yīng)-20℃~60℃環(huán)境),確保采樣泵流量穩(wěn)定,例如某城市環(huán)境監(jiān)測站采用該技術(shù)后2025
05-15氣體質(zhì)量流量控制器在MPCVD設(shè)備上的應(yīng)用詳解
氣體質(zhì)量流量控制器(MFC)在微波等離子體化學(xué)氣相沉積(MPCVD)設(shè)備中扮演著關(guān)鍵角色,其核心功能是實現(xiàn)對反應(yīng)氣體流量的高精度控制,從而確保薄膜沉積的質(zhì)量和工藝穩(wěn)定性。MPCVD工藝流程中的關(guān)鍵控制需求?反應(yīng)氣體精準(zhǔn)調(diào)控?需精確控制硅烷(SiH?)、甲烷(CH?)、氫氣(H?)等氣體流量,誤差需≤±1%F.S.,以保障金剛石薄膜的均勻沉積速率和結(jié)晶質(zhì)量46。例如,硅烷流量波動超過閾值會導(dǎo)致晶格缺陷率上升。?高純度氣體處理?對氣體純度要求可達6N級(99.9999%),流量控制器需具備耐腐蝕流道2025
05-14緊湊型小尺寸層流壓差式質(zhì)量流量控制器的應(yīng)用場景詳解
緊湊型小尺寸層流壓差式質(zhì)量流量控制器(MFC)憑借其高精度、快速響應(yīng)和適應(yīng)性強等特點,在多個工業(yè)與科研領(lǐng)域中成為關(guān)鍵設(shè)備。半導(dǎo)體制造在半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)過程中,氣體流量控制的精度直接影響薄膜沉積、刻蝕等工藝的穩(wěn)定性。緊湊型層流壓差式MFC因其小尺寸優(yōu)勢,可集成于高密度設(shè)備布局的潔凈室中,例如:化學(xué)氣相沉積(CVD):精準(zhǔn)控制硅烷(SiH?)、氨氣(NH?)等反應(yīng)氣體,確保納米級薄膜均勻性,精度可達±0.5%讀數(shù),滿足高效電池(如TOPCon、HJT)的制造需求。等離子刻蝕:通過毫秒級響應(yīng)速度動態(tài)調(diào)節(jié)2025
05-13層流壓差式IIC防爆型質(zhì)量流量控制器的應(yīng)用場景
在工業(yè)自動化控制領(lǐng)域,層流壓差式質(zhì)量流量控制器(MassFlowController,MFC)是精確測量和控制氣體流量的核心設(shè)備。而在易燃易爆的危險環(huán)境中,IIC防爆型質(zhì)量流量控制器憑借其高安全性和技術(shù)優(yōu)勢,占據(jù)了石油化工、窯爐、半導(dǎo)體制造、新能源等領(lǐng)域的核心市場。層流壓差原理是質(zhì)量流量控制器實現(xiàn)高精度流量控制的基礎(chǔ)。其核心在于當(dāng)氣體通過層流元件時,流體會處于層流狀態(tài)(雷諾數(shù)較低),此時流體內(nèi)部的速度分布呈拋物線形,壓差與體積流量呈線性關(guān)系。通過測量層流元件兩端的壓差,結(jié)合流體的溫度、壓力補償,2025
05-092025
05-07MFC質(zhì)量流量控制器在ALD設(shè)備中的應(yīng)用詳解
質(zhì)量流量控制器(MassFlowController,MFC)在原子層沉積(AtomicLayerDeposition,ALD)設(shè)備中扮演著關(guān)鍵角色,其高精度、快速響應(yīng)和穩(wěn)定性對實現(xiàn)ALD工藝的高質(zhì)量薄膜沉積至關(guān)重要。前驅(qū)體氣體的精確控制脈沖式氣體注入:ALD工藝基于交替的前驅(qū)體氣體脈沖注入(如金屬有機化合物、反應(yīng)氣體等)。MFC需在極短時間內(nèi)(毫秒級)精確控制氣體流量,確保每個脈沖的氣體量一致,從而實現(xiàn)單原子層的逐層沉積。流量穩(wěn)定性:MFC通過閉環(huán)反饋系統(tǒng)實時調(diào)節(jié)流量,避免因壓力波動或溫度變化2025
05-06耐腐蝕型層流壓差式質(zhì)量流量控制器的應(yīng)用解析與技術(shù)優(yōu)勢
在工業(yè)自動化與精密流體控制領(lǐng)域,耐腐蝕型質(zhì)量流量控制器(MFC)是保障生產(chǎn)安全與效率的關(guān)鍵設(shè)備。針對腐蝕性介質(zhì)的嚴(yán)苛工況,基于層流壓差原理設(shè)計的耐腐蝕型MFC通過材料優(yōu)化與結(jié)構(gòu)創(chuàng)新,在半導(dǎo)體、化工、環(huán)保等領(lǐng)域展現(xiàn)價值。產(chǎn)品概述:層流壓差式MFC的耐腐蝕設(shè)計層流壓差式MFC基于流體層流狀態(tài)下的壓差-流量線性關(guān)系,通過高精度傳感器與算法實現(xiàn)流量精準(zhǔn)控制。在耐腐蝕性能方面,其核心技術(shù)體現(xiàn)在三方面:材料選擇:核心流道與接觸部件采用316L不銹鋼,其低碳含量與鉬元素顯著提升抗點蝕、晶間腐蝕能力,適用于含C2025
04-282025
04-27VOCs的在線監(jiān)測與質(zhì)量流量控制器的緊密關(guān)系
揮發(fā)性有機物(VOCs)的在線監(jiān)測是環(huán)保治理的關(guān)鍵環(huán)節(jié),尤其在工業(yè)廢氣處理、大氣污染防控等領(lǐng)域。而層流壓差式質(zhì)量流量控制器(MassFlowController,簡稱MFC)憑借其高精度、抗吸附性及耐腐蝕等特點,成為VOCs在線監(jiān)測系統(tǒng)中的核心組件。層流壓差式MFC的技術(shù)原理與VOCs監(jiān)測的適配性層流壓差式MFC基于哈根-泊肅葉定律,通過層流元件強制氣體進入層流狀態(tài)(雷諾數(shù)Re技術(shù)特性與VOCs監(jiān)測的適配性:高精度與穩(wěn)定性:精度可達±0.5%讀數(shù),重復(fù)性±0.1%滿量程,滿足VOCs監(jiān)測中痕量氣2025
04-252025
04-25質(zhì)量流量控制器在半導(dǎo)體CMP設(shè)備中的詳細(xì)應(yīng)用
化學(xué)機械拋光(ChemicalMechanicalPolishing,CMP)是半導(dǎo)體制造中實現(xiàn)晶圓表面納米級平坦化的關(guān)鍵工藝,其核心設(shè)備CMP機臺通過化學(xué)腐蝕與機械研磨的協(xié)同作用,確保芯片多層結(jié)構(gòu)的精確加工。質(zhì)量流量控制器(MassFlowController,MFC)作為高精度氣體流量控制的核心部件,在CMP設(shè)備中扮演了重要角色。CMP工藝對氣體控制的嚴(yán)苛需求CMP工藝的核心是通過拋光液與晶圓表面的化學(xué)反應(yīng)及機械摩擦實現(xiàn)材料去除。在此過程中,多種工藝氣體(如氧氣、氮氣、氬氣)需精確控制,以滿2025
04-242025
04-23層流壓差式質(zhì)量流量控制器在特氣柜中的應(yīng)用實例分析
層流壓差式質(zhì)量流量控制器(LaminarDifferentialPressureMassFlowController,簡稱層流壓差式MFC)憑借其高精度、快速響應(yīng)、耐腐蝕等特性,已成為特種氣體輸送與控制系統(tǒng)中的核心組件。尤其在特氣柜(特種氣體控制柜)中,其應(yīng)用場景覆蓋半導(dǎo)體、光伏、環(huán)保監(jiān)測等多個領(lǐng)域,通過精準(zhǔn)的流量控制確保氣體供應(yīng)的安全性與工藝穩(wěn)定性。一、半導(dǎo)體制造:高純特氣輸送與工藝優(yōu)化在半導(dǎo)體晶圓制造中,特氣柜需安全存儲并輸送高純度、高腐蝕性氣體(如SiH?、Cl?、HF等),而層流壓差式M2025
04-22層流壓差式質(zhì)量流量控制器在環(huán)保領(lǐng)域的應(yīng)用方案及技術(shù)優(yōu)勢
層流壓差式質(zhì)量流量控制器(MassFlowControllerMFC)在環(huán)保領(lǐng)域(如大氣監(jiān)測、流量校準(zhǔn)、VOCs在線監(jiān)測系統(tǒng)等)的應(yīng)用廣泛,小編將結(jié)合實際案例并分析其技術(shù)優(yōu)勢。一、在環(huán)保領(lǐng)域的典型應(yīng)用場景及案例1.大氣監(jiān)測中的氣體采樣與流量控制應(yīng)用需求:大氣監(jiān)測需對痕量污染物(如PM2.5、SO?、NOx等)進行高精度采樣,流量穩(wěn)定性直接影響數(shù)據(jù)準(zhǔn)確性。例如,在環(huán)境空氣質(zhì)量監(jiān)測站中,需確保氣體采樣流量誤差小于±1%,且需適應(yīng)戶外復(fù)雜溫濕度環(huán)境。實際案例:某城市環(huán)境監(jiān)測站采用層流壓差式MFC控制氣2025
04-21層流壓差式質(zhì)量流量控制器在光伏行業(yè)的應(yīng)用
在光伏制造領(lǐng)域,氣體流量的精準(zhǔn)控制是提升工藝質(zhì)量和生產(chǎn)效率的核心需求之一。隨著光伏技術(shù)向高效化、精密化方向發(fā)展,層流壓差式質(zhì)量流量控制器(LaminarDifferentialPressureMassFlowController,簡稱層流壓差式MFC)憑借其測量原理和性能,逐漸成為光伏行業(yè)氣體流量控制的關(guān)鍵設(shè)備。層流壓差式MFC基于流體力學(xué)中的哈根-泊肅葉定律(Hagen-PoiseuilleLaw),通過層流元件強制氣體進入層流狀態(tài)(雷諾數(shù)Re光伏行業(yè)中的應(yīng)用場景薄膜沉積工藝在化學(xué)氣相沉積(C2025
04-18層流壓差質(zhì)量流量計在真空行業(yè)的方案應(yīng)用
隨著真空技術(shù)在半導(dǎo)體、材料科學(xué)、光學(xué)鍍膜等領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用,對氣體流量的精準(zhǔn)控制需求日益凸顯。層流壓差式流量計憑借其高精度、快速響應(yīng)及低壓損特性,成為真空工藝中氣體流量測控的核心工具。一、真空行業(yè)的工藝需求在真空工藝中,氣體流量控制需滿足以下特殊要求:微流量精準(zhǔn)控制:如真空鍍膜工藝中,氬氣、氮氣等工藝氣體的流量需穩(wěn)定在mL/min級,微小偏差會導(dǎo)致鍍膜厚度不均或成分異常。快速動態(tài)響應(yīng):等離子體刻蝕等工藝需毫秒級氣體切換,傳統(tǒng)流量計因響應(yīng)延遲易造成工藝波動。低壓損適應(yīng)性:真空環(huán)境下氣源壓力極低(甚至以上信息由企業(yè)自行提供,信息內(nèi)容的真實性、準(zhǔn)確性和合法性由相關(guān)企業(yè)負(fù)責(zé),化工儀器網(wǎng)對此不承擔(dān)任何保證責(zé)任。
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