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沈陽科晶自動(dòng)化設(shè)備有限公司

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當(dāng)前位置：沈陽科晶自動(dòng)化設(shè)備有限公司>>技術(shù)文章展示

  • 2024

    09-19

    金屬熔煉爐可以用于生產(chǎn)各種合金材料

    金屬熔煉爐是一種用于將金屬材料熔化成液態(tài)的工業(yè)設(shè)備，廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機(jī)械加工等領(lǐng)域。它通過加熱使金屬材料達(dá)到熔點(diǎn)，從而實(shí)現(xiàn)金屬材料的熔化、精煉、合金化等工藝過程，在工業(yè)生產(chǎn)中具有重要的作用，不僅能夠提高金屬材料的質(zhì)量和性能，還能降低生產(chǎn)成本，提高生產(chǎn)效率。金屬熔煉爐的種類有很多，根據(jù)加熱方式的不同，可以分為電弧爐、感應(yīng)爐、電阻爐、燃?xì)鉅t等。不同類型的熔煉爐在結(jié)構(gòu)和工作原理上有所差異，但它們的基本功能和作用是相同的。1.熔化金屬材料：主要作用是將固態(tài)金屬材料熔化成液態(tài)。在電弧爐中，通過電極與

  • 2024

    08-27

    金相拋光機(jī)的使用過程中，需要注意以下幾點(diǎn)

    金相拋光機(jī)以其穩(wěn)定的性能、低噪音、高耐久度、便捷的維護(hù)以及優(yōu)良的拋光效果在金相試樣制備過程中占有重要的地位。從用戶的角度出發(fā)，合理選擇經(jīng)濟(jì)、易操作和維護(hù)的拋光機(jī)對(duì)于提升工作效率和降低成本至關(guān)重要，優(yōu)勢(shì)特點(diǎn)主要體現(xiàn)在其結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、操作性能以及維護(hù)保養(yǎng)方面。這些設(shè)備在材料分析領(lǐng)域中扮演著重要角色，它們用于樣品的研磨和拋光，以達(dá)到微觀分析所要求的光滑表面。具體特點(diǎn)闡述：-轉(zhuǎn)動(dòng)平穩(wěn)：其設(shè)計(jì)注重轉(zhuǎn)動(dòng)的穩(wěn)定性，這是確保樣品表面處理質(zhì)量的關(guān)鍵因素。-噪音低：在實(shí)驗(yàn)室等對(duì)環(huán)境要求較高的場所，降低噪音污染是這類設(shè)備

  • 2024

    08-20

    金相拋光機(jī)主要由以下幾個(gè)部分組成

    金相拋光機(jī)是用于制備金相試樣的設(shè)備，主要用于對(duì)試樣的磨光和拋光。它通過電動(dòng)機(jī)帶動(dòng)拋光盤或拋光織物，在拋光液的配合下，使試樣表面達(dá)到光亮如鏡的效果，從而便于在顯微鏡下觀察材料的真實(shí)組織。金相拋光機(jī)的工作原理是通過電動(dòng)機(jī)帶動(dòng)拋光盤或拋光織物高速旋轉(zhuǎn)，使試樣與拋光盤或拋光織物產(chǎn)生摩擦，從而達(dá)到去除試樣表面雜質(zhì)和劃痕的目的。在拋光過程中，需要添加適量的拋光液，以降低試樣與拋光盤或拋光織物之間的摩擦力，減少試樣表面的熱損傷，并帶走研磨產(chǎn)生的碎屑和金屬微粒，提高拋光效果。金相拋光機(jī)主要由以下幾個(gè)部分組成：1

  • 2024

    08-15

    提拉涂膜機(jī)是為液相制備薄膜材料而設(shè)計(jì)的儀器

    提拉涂膜機(jī)可以在不同液體中通過浸漬提拉的方式生長薄膜。?這種設(shè)備具有高精度速度控制系統(tǒng)和觸摸屏參數(shù)輸入端，?能夠?qū)崿F(xiàn)多個(gè)樣件提拉涂膜的全自動(dòng)控制。?提拉涂膜機(jī)的應(yīng)用范圍廣泛，?主要用于大專院校、?科研院所等研究領(lǐng)域，?適用于硅片、?晶片、?玻璃、?陶瓷、?金屬等所有固體材料表面的涂覆工藝。?該設(shè)備對(duì)鍍膜基質(zhì)無特殊要求，?運(yùn)行穩(wěn)定，?可大的提高實(shí)驗(yàn)精度與實(shí)驗(yàn)效率。?提拉涂膜機(jī)的設(shè)計(jì)特點(diǎn)包括進(jìn)口直線運(yùn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)、?高行程精度、?提拉速率可調(diào)、?提拉過程液面無振動(dòng)、?可選配溫控系統(tǒng)、?點(diǎn)陣式液晶顯示屏

  • 2024

    07-26

    了解雙面拋光機(jī)優(yōu)勢(shì)特點(diǎn)能夠幫助您更好的使用它

    雙面拋光機(jī)是一種專門用于對(duì)硬脆材料進(jìn)行高精度、高效拋光的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體硅片、磁性材料、藍(lán)寶石、光學(xué)玻璃、金屬材料等的加工。雙面拋光機(jī)的優(yōu)勢(shì)特點(diǎn)主要體現(xiàn)在以下幾個(gè)方面：1、提高對(duì)準(zhǔn)精度(1)準(zhǔn)確控制：它能夠?qū)?duì)準(zhǔn)精度提高多達(dá)20倍，這對(duì)于精密加工領(lǐng)域具有重要意義。(2)快速對(duì)齊：設(shè)備使目標(biāo)表面與表面快速、準(zhǔn)確、可重復(fù)地平行對(duì)齊，提高了加工效率和質(zhì)量。2、適用性廣泛(1)多材料適用：適用于多種硬脆材料的拋光，包括半導(dǎo)體硅片、磁性材料、藍(lán)寶石、光學(xué)玻璃、金屬材料等。(2)多工藝兼容：適合頂部和

  • 2024

    07-22

    雙面拋光機(jī)的工作原理及操作方法介紹

    雙面拋光機(jī)是一種專門用于對(duì)材料兩面進(jìn)行拋光處理的機(jī)械設(shè)備，廣泛應(yīng)用于金屬、塑料、陶瓷等材料的加工過程中，以提高產(chǎn)品的表面光潔度和精度。下面將介紹雙面拋光機(jī)的相關(guān)知識(shí)點(diǎn)：1.工作原理：該設(shè)備主要由上下兩個(gè)拋光盤組成，通過電機(jī)驅(qū)動(dòng)，使拋光盤以一定的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)。在拋光過程中，工件被夾持在上下拋光盤之間，通過拋光盤與工件之間的摩擦力和磨料的作用，去除工件表面的毛刺、氧化層等雜質(zhì)，達(dá)到拋光的目的。2.設(shè)備結(jié)構(gòu)：它主要由主機(jī)、電氣控制系統(tǒng)、液壓系統(tǒng)、氣動(dòng)系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)等部分組成。主機(jī)包括拋光盤、主軸、軸承、傳

  • 2024

    07-01

    磁控濺射儀的儀器特點(diǎn)你了解多少

    磁控濺射儀(MagnetronSputteringInstrument)是一種通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對(duì)帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率的物理氣相沉積儀器。磁控濺射技術(shù)隨著其核心裝備磁控濺射設(shè)備的不斷發(fā)展，已經(jīng)應(yīng)用于復(fù)合材料、電子元器件，金屬表面處理等領(lǐng)域。對(duì)于壓制硬度、提高耐磨性，增加電子元器件的性能等方面，都有著重要的應(yīng)用。磁控反應(yīng)濺射。就是用金屬靶，加入氬氣和反應(yīng)氣體如氨氣或氧氣。當(dāng)金屬靶材撞向零件時(shí)由于能量轉(zhuǎn)化，與反應(yīng)氣體化合生成氮化物或氧化物。若磁鐵靜止，其場特性

  • 2024

    06-25

    蒸發(fā)鍍膜儀定期保養(yǎng)維護(hù)很有必要

    蒸發(fā)鍍膜儀的真空腔室為蒸發(fā)過程提供必要的真空環(huán)境，以確保膜材料的粒子能夠在沒有空氣干擾的情況下飛至基片表面；真空抽氣泵組用于抽出腔室內(nèi)的氣體，保持高真空狀態(tài)，這對(duì)于蒸發(fā)過程至關(guān)重要；基片及基片架用于固定和支撐待鍍膜的基片，確保膜材料能夠均勻地沉積在基片上。監(jiān)測(cè)裝置用于實(shí)時(shí)監(jiān)控鍍膜過程中的各種參數(shù)，如膜厚、速率等，以保證鍍膜質(zhì)量；水冷系統(tǒng)用于冷卻腔室內(nèi)的某些部件，防止在高溫蒸發(fā)過程中過熱，保護(hù)設(shè)備的穩(wěn)定性和使用壽命；它負(fù)責(zé)加熱膜材料并使其蒸發(fā)氣化。蒸發(fā)源的設(shè)計(jì)和加熱方式直接影響到膜材料的蒸發(fā)效率和

  • 2024

    06-20

    從基本開始認(rèn)識(shí)蒸發(fā)鍍膜儀

    蒸發(fā)鍍膜儀是利用物理或化學(xué)方法將材料從固體或液體狀態(tài)轉(zhuǎn)化為氣態(tài)，然后在真空環(huán)境中沉積到基片上形成薄膜的設(shè)備。這種技術(shù)廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光學(xué)、電子、磁性材料等領(lǐng)域，用于制備各種功能薄膜。蒸發(fā)鍍膜儀的原理主要包括以下幾個(gè)方面：1.真空原理：工作需要在高真空環(huán)境下進(jìn)行，以減少氣體分子對(duì)蒸發(fā)材料的阻礙和對(duì)薄膜質(zhì)量的影響。真空環(huán)境可以通過機(jī)械泵、分子泵等設(shè)備實(shí)現(xiàn)。在真空條件下，氣體分子的數(shù)量大大減少，有利于材料的蒸發(fā)和薄膜的生長。2.蒸發(fā)原理：蒸發(fā)是指物質(zhì)從液態(tài)或固態(tài)轉(zhuǎn)化為氣態(tài)的過程。通常采用加熱的方式使

  • 2024

    05-30

    關(guān)于金相拋光機(jī)的組成部分介紹

    金相拋光機(jī)是一種用于金屬材料表面制備的專業(yè)儀器，主要用于金屬材料檢測(cè)、研究和分析等方面。它可以通過旋轉(zhuǎn)砂輪和帶有磨料的拋光液將金屬材料表面磨光，去除其表面粗糙度和劃痕，使其表面平整度更高，從而更方便進(jìn)行觀察和分析。結(jié)構(gòu)特征概述拋光機(jī)由底座、拋盤、拋光織物、拋光罩及蓋等基本元件組成。電動(dòng)機(jī)固定在底座上，固定拋光盤用的錐套通過螺釘與電動(dòng)機(jī)軸相連。拋光織物通過套圈緊固在拋光盤上，電動(dòng)機(jī)通過底座上的開關(guān)接通電源起動(dòng)后，便可用手對(duì)試樣施加壓力在轉(zhuǎn)動(dòng)的拋光盤上進(jìn)行拋光。拋光過程中加入的拋光液可通過固定在底座

  • 2024

    05-28

    在選擇旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)時(shí)，您可以考慮以下幾個(gè)關(guān)鍵因素

    隨著科技的不斷進(jìn)步和工藝要求的不斷提高，旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)也在不斷發(fā)展和創(chuàng)新。未來，將向以下幾個(gè)方面發(fā)展：高精度化：通過引入更控制系統(tǒng)和傳感器技術(shù)，進(jìn)一步提高涂覆精度和均勻性。智能化：實(shí)現(xiàn)智能化控制和自適應(yīng)調(diào)整功能，以適應(yīng)不同材料和工藝要求的變化。環(huán)保節(jié)能：采用環(huán)保型材料和節(jié)能技術(shù)，降低生產(chǎn)過程中的能耗和排放。多功能化：集成更多的功能模塊和工藝步驟，實(shí)現(xiàn)一站式涂覆解決方案。在選擇旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)時(shí)，您可以考慮以下幾個(gè)關(guān)鍵因素：1.精度和一致性：旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)能夠通過旋轉(zhuǎn)的離心力和表面張力在基材表面上形成非常均勻的

  • 2024

    05-22

    旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)：精密涂覆技術(shù)的探索與應(yīng)用

    在材料科學(xué)、半導(dǎo)體制造、光學(xué)器件和生物器械等領(lǐng)域，旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)以其涂覆技術(shù)和高精度控制，成為了不可少的工藝設(shè)備。基于離心力作用和精密控制。當(dāng)機(jī)器啟動(dòng)時(shí)，基片(通常為平坦且光滑的目標(biāo)表面)開始高速旋轉(zhuǎn)。同時(shí)，在基片的中心位置滴加各類膠體或溶液。由于離心力的作用，膠體或溶液在基片上均勻展開，形成一層薄膜。這一過程中，通過調(diào)整旋轉(zhuǎn)速度、膠體或溶液的粘稠度以及旋涂時(shí)間等參數(shù)，可以控制涂層的厚度和均勻性。旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)的主要特點(diǎn)：高精度控制：通過控制系統(tǒng)和傳感器技術(shù)，實(shí)現(xiàn)對(duì)旋轉(zhuǎn)速度、膠體或溶液的粘稠度以及旋涂時(shí)

  • 2024

    04-01

    冷等靜壓機(jī)是什么呢

    冷等靜壓機(jī)在現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)中起到了重要的作用。通過微米級(jí)的高精度操作，它可以制造出各種高精度金屬鑄件、紡織品以及復(fù)合材料等高品質(zhì)產(chǎn)品。隨著科技的不斷進(jìn)步，冷等靜壓機(jī)的應(yīng)用領(lǐng)域?qū)?huì)越來越廣泛。冷等靜壓機(jī)是一種工業(yè)生產(chǎn)中常用的壓縮機(jī)，它是通過壓縮機(jī)的工作原理，將氣體壓縮成高溫高壓的狀態(tài)，再通過冷卻系統(tǒng)使之冷卻，達(dá)到制冷或低溫的效果的一種設(shè)備。冷等靜壓機(jī)是將裝入密封、彈性模具中的物料，置于盛裝液體或氣體的容器中，用液體或氣體對(duì)其施加以一定的壓力，將物料壓制成實(shí)體，得到原始形狀的坯體。壓力釋放后，將模具從

  • 2023

    10-31

    醫(yī)學(xué)硬組織切片成套制備方案

    1、新鮮硬組織取材固定(以牙齒為例):根據(jù)材料尺寸/性質(zhì),通過切割機(jī)獲得所需樣本,再使用4%多聚甲醛或10%福爾馬林溶液固定至少24小時(shí);2、脫水浸潤:酒精上行脫水:無水乙醇:7200=1:1;無水乙醇:7200=3:7;7200原液I、II;3、樣本包埋光聚合法包埋:7200原液+固體包埋顆粒(12小時(shí));配合真空冷鑲嵌機(jī)進(jìn)行抽真空,放置模具自動(dòng)灌膠,去除氣泡,修復(fù)包埋樣本CXQ-2500真空冷鑲嵌機(jī)4、粘接樣本塊至載玻片采用T4000樹脂粘接,并注意液體比例,配合壓合臺(tái)確保粘樣均勻YT-08

  • 2023

    07-26

    【沈陽科晶小課堂】陶瓷基板的異形切割

    大家好，本期我們?yōu)榇蠹規(guī)淼氖恰柑沾苫宓漠愋吻懈睢梗凑?qǐng)觀看！▼/前情提要/本期沈陽科晶小課堂為您講解陶瓷基板的異形切割！使用設(shè)備：STX-100QX金剛石曲線切割機(jī)▼/點(diǎn)擊觀看視頻/▼/小結(jié)/氧化鋁陶瓷基板切割取圓（直徑10/12.7mm），可編輯任意圖形，并可通過樣品疊層的方式大幅提高加工效率，同時(shí)滿足科研和生產(chǎn)兩大要求，歡迎各位客戶蒞臨或郵寄樣品到科晶實(shí)驗(yàn)室體驗(yàn)測(cè)試！歡迎后臺(tái)區(qū)留言！

  • 2023

    02-08

    【科晶小課堂】冷等靜壓機(jī)粉末成型

    /前情提要/本期科晶小課堂為您講解冷等靜壓機(jī)粉末成型使用設(shè)備：CIP-50MA電動(dòng)冷等靜壓機(jī)/點(diǎn)擊觀看視頻//小結(jié)/我公司有多種尺寸的壓片機(jī)以及冷等靜壓機(jī)，歡迎各位客戶蒞臨或郵寄樣品到科晶實(shí)驗(yàn)室體驗(yàn)測(cè)試！歡迎后臺(tái)區(qū)留言！沈陽科晶自動(dòng)化設(shè)備有限公司于2000年5月創(chuàng)建。自第一臺(tái)SYJ-150低速金剛石切割機(jī)誕生以來，沈陽科晶便開始了以趕超國外同行、材料分析設(shè)備潮流為目標(biāo)的發(fā)展歷程。時(shí)至今日，已經(jīng)擁有涵蓋材料切割、研磨、拋光、涂膜、鍍膜、混合、壓軋、燒結(jié)、分析等領(lǐng)域以及相關(guān)耗材的上百種產(chǎn)品，可以滿足

  • 2023

    01-17

    用流延涂覆機(jī)在銅箔表面涂硅膠

    實(shí)驗(yàn)設(shè)備：MSK-AFA-I流延涂覆機(jī)、ZKC-250真空樣品貯存器、DZF-6020真空干燥箱MSK-AFA-I流延涂覆機(jī)ZKC-250真空樣品儲(chǔ)藏罐D(zhuǎn)ZF-6020真空干燥箱圖1實(shí)驗(yàn)所用設(shè)備圖實(shí)驗(yàn)材料：液態(tài)硅膠、銅箔實(shí)驗(yàn)?zāi)康模菏褂昧餮油扛矙C(jī)將液態(tài)硅膠均勻涂覆在銅箔表面，用真空干燥箱在90℃的環(huán)境下將薄膜烘干，而后使用數(shù)顯千分尺測(cè)量烘干后薄膜的厚度和均勻性。實(shí)驗(yàn)過程：①原料混合：首先，將液態(tài)硅膠原料按1:1的比例混合好，混合后的液態(tài)硅膠內(nèi)充滿氣泡，將充滿氣泡的液態(tài)硅膠放入到ZKC-250真空樣

  • 2022

    10-20

    【科晶小課堂】電弧熔煉爐制備鈦鋁合金

    【科晶小課堂】電弧熔煉爐制備鈦鋁合金/前情提要/本期科晶小課堂為您講解用電弧熔煉爐制備鈦鋁合金！實(shí)驗(yàn)材料：鈦、鋁使用設(shè)備：MSM20-7(非自耗)電弧熔煉爐/點(diǎn)擊觀看視頻//小結(jié)/MSM20-7(非自耗)電弧熔煉爐制備鈦鋁合金錠可定制不同尺寸、形狀坩堝，最大約200g（鈦)；并可選配吸鑄套件（直徑1～10mm）；真空封管套件（直徑5～30mm）；歡迎各位客戶蒞臨或郵寄樣品到科晶實(shí)驗(yàn)室體驗(yàn)測(cè)試！歡迎后臺(tái)區(qū)留言！/相關(guān)設(shè)備點(diǎn)擊查看/MSM20-7(非自耗)電弧熔煉爐SP-MSM36032工位高通量電

  • 2022

    06-28

    馬氏體鋼EBSD樣品的制備

    背散射電子衍射（EBSD）只發(fā)生在試樣表層幾十個(gè)納米的深度范圍,所以試樣表面的殘余應(yīng)變層(或稱變形層、擾亂層)、氧化膜以及腐蝕坑等缺陷都會(huì)影響甚至*抑制EBSD的發(fā)生,因此試樣表面的制備質(zhì)量很大程度上決定著EBSD測(cè)試結(jié)果的質(zhì)量。與一般的金相試樣相比，一個(gè)合格的EBSD樣品，要求試樣表面無應(yīng)力層、無氧化層、無連續(xù)的腐蝕坑、表面起伏不能過大、表面清潔無污染。EBSD試樣的典型尺寸是10mm×10mm到7mm×7mm之間,厚度不宜過厚，一般在1-3mm之間?？筛鶕?jù)實(shí)際情況，如銅鋅鋁等不耐磨的材料厚度

  • 2022

    06-07

    用VTC-100真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)對(duì)陶瓷基片鍍膜

    實(shí)驗(yàn)材料：尺寸為21×21㎜的陶瓷基片，基片形貌如圖1所示；該種陶瓷基片有一定的硬度，可用真空吸附的方式進(jìn)行固定。薄膜材料為用有機(jī)溶膠調(diào)和的具有一定粘度和流動(dòng)性的金屬粉末。圖1實(shí)驗(yàn)所用基片圖實(shí)驗(yàn)?zāi)康模簩⒔饘俜勰┠z溶劑均勻涂敷到陶瓷片表面。實(shí)驗(yàn)設(shè)備：由沈陽科晶自動(dòng)化設(shè)備有限公司制造的VTC-100真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)和PCE-6等離子清洗機(jī)。圖2實(shí)驗(yàn)所用設(shè)備圖實(shí)驗(yàn)設(shè)備選用原因：VTC-100真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)操作簡單、清理方便，體積小巧。設(shè)備標(biāo)配3個(gè)不同大小的真空吸盤，可根據(jù)樣品尺寸不同選擇不同的真空吸盤。
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