石英清洗機(jī)

石英清洗機(jī)是專為半導(dǎo)體、光伏、光學(xué)及化工領(lǐng)域設(shè)計(jì)的高精度清洗設(shè)備，用于去除石英材料表面的金屬污染（如Fe、Cu、Ni）、有機(jī)物殘留（如光刻膠、切削液）及氧化層，同時(shí)避免對石英的脆性結(jié)構(gòu)造成損傷。其核心功能包括高效去污、無損傷處理、納米級顆粒控制（>0.1μm過濾）及工藝可編程性，適用于石英坩堝、舟托盤、石英管、光學(xué)透鏡等多種部件的清洗需求。

核心功能與技術(shù)特點(diǎn)

高效去污能力

濕法化學(xué)清洗：采用HF/HNO?混合酸去除金屬污染，H?SO?/H?O?溶液分解有機(jī)物，搭配去離子水（DIW）多級沖洗，確保無化學(xué)殘留。

超聲波/兆聲波輔助：通過空化效應(yīng)剝離頑固污染物，提升清洗均勻性，適用于復(fù)雜幾何結(jié)構(gòu)的石英件（如舟托盤）。

等離子清洗（可選）：用于去除有機(jī)殘留或表面活化，增強(qiáng)后續(xù)工藝附著力。

無損傷處理技術(shù)

低應(yīng)力清洗：采用柔和水流、常溫~100℃可調(diào)溫度及短時(shí)工藝（5~30分鐘），避免機(jī)械力或熱應(yīng)力導(dǎo)致石英開裂。

機(jī)械手柔性控制：在臥式或槽式設(shè)備中，通過機(jī)械手帶動石英件進(jìn)行振動或滾動清洗，確保均勻受力。

高精度潔凈度控制

納米級顆粒過濾：配備0.1μm過濾器，支持RCA標(biāo)準(zhǔn)流程（如SC-1堿性清洗、SC-2酸洗），滿足半導(dǎo)體級（如12英寸晶圓）潔凈要求。

真空干燥/IPA脫水：防止水漬殘留，適用于光伏石英坩堝、光學(xué)鏡片等高潔凈度場景。

自動化與安全設(shè)計(jì)

PLC程序控制：支持一鍵啟動、參數(shù)存儲與調(diào)用，兼容實(shí)驗(yàn)室小批量與工業(yè)批量生產(chǎn)需求。

多重安全防護(hù)：防腐蝕密封門、酸堿泄漏監(jiān)測、排酸權(quán)限分級等，確保操作安全。

設(shè)備結(jié)構(gòu)與配置

核心模塊

清洗槽：采用耐腐蝕材質(zhì)（如PFA、PTFE），支持多槽串聯(lián)（如酸堿分離槽+DIW沖洗槽），適應(yīng)不同污染物分解需求。

超聲波系統(tǒng)：高頻（40kHz~1MHz）兆聲波發(fā)生器，精準(zhǔn)控制空化強(qiáng)度，避免過載損傷。

過濾與干燥單元：集成顆粒過濾、真空干燥或熱風(fēng)干燥，防止二次污染。

兼容性與定制化

適用部件：石英坩堝、舟托盤、爐管、光學(xué)透鏡、光伏導(dǎo)流筒等，支持尺寸從2英寸晶圓到30英寸光伏坩堝。

工藝靈活性：可根據(jù)污染類型（金屬/有機(jī)物）選擇酸洗或堿洗流程，支持溫度、時(shí)間、噴淋壓力等參數(shù)自定義。

應(yīng)用領(lǐng)域

半導(dǎo)體制造：清洗擴(kuò)散爐、氧化爐的石英舟及坩堝，避免金屬污染影響芯片良率，適配制程（如5nm以下）納米級潔凈度要求。

光伏產(chǎn)業(yè)：預(yù)處理太陽能石英坩堝，去除石墨粉等雜質(zhì)，延長使用壽命；清洗光伏用石英管，提升單晶硅生長效率。

光學(xué)與光通信：清潔石英鏡片、光纖連接器，保障透光率和信號傳輸性能。

實(shí)驗(yàn)室研發(fā)：小型設(shè)備支持科研院所對石英樣品的高精度清洗需求。