槽式蝕刻機(jī)

一、設(shè)備概述

槽式蝕刻機(jī)是半導(dǎo)體制造、PCB加工及金屬精密加工中用于化學(xué)濕法蝕刻的專(zhuān)用設(shè)備，通過(guò)多槽串聯(lián)或單槽循環(huán)設(shè)計(jì)，利用酸性或堿性蝕刻液對(duì)材料（如硅片、金屬、玻璃等）進(jìn)行圖案化腐蝕。其核心功能包括精準(zhǔn)的化學(xué)配比控制、溫度管理、顆粒過(guò)濾及自動(dòng)化流程，適用于大批量、高精度蝕刻需求，如芯片制造中的硅片圖形化、PCB線路板生產(chǎn)及金屬零件的復(fù)雜圖案成型。

二、核心功能與技術(shù)特點(diǎn)

化學(xué)蝕刻工藝

蝕刻液配方：根據(jù)材料類(lèi)型選擇酸性（如H?PO?/HNO?、HF）或堿性（如NaOH、KOH）體系，精確控制pH值、濃度及溫度（±0.5℃），確保蝕刻速率均勻性。

多槽分段處理：典型流程為預(yù)清洗槽→蝕刻槽→中和槽→去離子水（DIW）沖洗槽，避免交叉污染并提升潔凈度。

高效均勻性控制

超聲波輔助：高頻振動(dòng)（20~40kHz）增強(qiáng)藥液流動(dòng)性，減少蝕刻死角（如深孔、窄縫結(jié)構(gòu)），提升側(cè)壁垂直度13。

噴淋與浸沒(méi)結(jié)合：上方噴淋頭均勻布液，配合槽內(nèi)循環(huán)泵攪拌，確保大面積基材（如12英寸晶圓）的蝕刻一致性35。

顆粒與污染控制

在線過(guò)濾系統(tǒng)：集成0.1~1μm過(guò)濾器，實(shí)時(shí)去除蝕刻液中的脫落顆粒及雜質(zhì)，防止二次污染。

自動(dòng)補(bǔ)液與更換：PLC程序監(jiān)測(cè)蝕刻液濃度，聯(lián)動(dòng)補(bǔ)液泵或排廢閥，維持反應(yīng)體系穩(wěn)定。自動(dòng)化與安全設(shè)計(jì)

PLC程序控制：支持參數(shù)預(yù)設(shè)（時(shí)間、溫度、流量）、一鍵啟動(dòng)及數(shù)據(jù)記錄（如蝕刻速率、液體消耗量），兼容MES系統(tǒng)對(duì)接。

安全防護(hù)：配備防腐蝕密封門(mén)、泄漏檢測(cè)傳感器、緊急排風(fēng)裝置及氮?dú)獗Ｗo(hù)（針對(duì)易燃蝕刻液），降低操作風(fēng)險(xiǎn)。

三、關(guān)鍵技術(shù)參數(shù)

適用材料：硅片、玻璃、金屬（銅、鋁、不銹鋼）、PCB板等。

蝕刻速率：可調(diào)范圍（0.1~10μm/min），取決于材料與蝕刻液配方。

溫度控制：常溫~80℃（±0.5℃精度），適配不同化學(xué)體系需求。

過(guò)濾精度：0.1~1μm（可定制多級(jí)過(guò)濾），確保液體潔凈度。

產(chǎn)能：?jiǎn)尾厶幚砹?0~500片/小時(shí)（以8英寸晶圓為例），支持24小時(shí)連續(xù)運(yùn)行。

兼容圖案：最小線寬可達(dá)1μm（半導(dǎo)體級(jí)），滿(mǎn)足高精度蝕刻需求。

槽式蝕刻機(jī)通過(guò)化學(xué)濕法與物理輔助（超聲波、噴淋）的結(jié)合，解決了傳統(tǒng)蝕刻工藝中的均勻性差、顆粒污染及效率低等問(wèn)題。其模塊化設(shè)計(jì)（如溫控、過(guò)濾、自動(dòng)化模塊可定制）、多材料兼容性及環(huán)保特性（如廢液分類(lèi)回收），使其成為制造中關(guān)鍵圖形成型設(shè)備，尤其適用于12英寸及以上大尺寸基材、高精度蝕刻（線寬<1μm）及大規(guī)模量產(chǎn)需求，助力提升良率與成本效益。