半導(dǎo)體設(shè)備、真空鍍膜、測試設(shè)備互連系統(tǒng)定制化;光電表征設(shè)備國產(chǎn)化:NAP-XPS、PEEM、PPMS、NAP-STM及EBL等
RTP-200快速退火爐為德國優(yōu)尼坦公司生產(chǎn),分為RTP-100,RTP-150,RSO-200,VPO-300共四個(gè)型號(hào),分別對(duì)應(yīng)4英寸、6英寸、8英寸、12英寸的真空快速退火爐產(chǎn)品。
8寸快速退火爐/德國UniTemp技術(shù)規(guī)格:
- 溫度:1200攝氏度;
- 升溫速率:150攝氏度/秒;
- 降溫速度:200攝氏度/分鐘 (1000攝氏度-->400攝氏度);
- 溫控均勻性:≤1.5%設(shè)定溫度;
- 加熱方式:紅外鹵素?zé)簦敳考暗撞考訜幔?/p>
- 燈管數(shù)量及功率:18支/20千瓦(RTP-100),24支/21千瓦(RTP-150);
- 腔體冷卻:水冷方式;
- 襯底冷卻:氮?dú)獯祾撸?/p>
- 工藝氣路:MFC控制,最多4路 (氮?dú)?、氬氣、氧氣、氫氮混合氣?;
- 主機(jī)尺寸及重量:505mmx504mmx420mm (WxDxH),約55Kg。
8寸快速退火爐/德國UniTemp特點(diǎn):
- 真空快速退火爐,有低真空型號(hào)(10-3hPa)、高真空型號(hào)(10-6hPa);
- 可在不同氣氛環(huán)境下使用,如惰性氣體、氧氣、氫氮混合氣等;
- 控制方式:SIMATIC,SPS人機(jī)界面控制,7英寸觸摸屏;
- 可存儲(chǔ)50個(gè)程序,每個(gè)程序最多分為50段控制;
- 全自動(dòng)智能控制,包括溫度、時(shí)間、氣體流量、真空度、循環(huán)水均可自動(dòng)設(shè)置;
- 優(yōu)異的溫控均勻性,工藝重現(xiàn)性;
- 小尺寸臺(tái)式設(shè)計(jì)。
應(yīng)用領(lǐng)域:
- 離子注入/接觸退火;
- 快速熱處理(RTP),快速退火(RTA),快速熱氧化(RTO),快速熱氮化(RTN);
- 可在真空、惰性氣氛、氧氣、氫氣、混合氣等不同環(huán)境下使用;
- SiAu,SiAl,SiMo合金化;
- 低介電材料;
- 晶體化,致密化;
- 太陽能電池片鍵合。