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當前位置:北京美華儀科技有限公司>>產(chǎn)品展示>>實驗儀器裝置>>勻膠機
微型手持勻漿儀適用范圍:適用于各種植物組織包括根、莖、葉、花、果、種子等樣品的研磨破碎;技術參數(shù):轉(zhuǎn)速 15000rpm輸入電壓 AC/220v 50HZ
智能程控勻膠機精度 指標基片尺寸 5-120mm速度范圍 50-10000RPM轉(zhuǎn)速精度 1RPM轉(zhuǎn)速穩(wěn)定度 ±0.1%加速度范圍 1-10000RP...
靜音無油空氣壓縮機 電壓(V) 220v 50Hz 率(W) 750 Z壓力(mpa) 0.8 啟動壓力(mpa) 0.5 排氣量(m3/min) 0.057
特點:電動勻漿機是供研究單位,大院校、藥防疫站、重業(yè)、農(nóng)業(yè)、環(huán)境衛(wèi)生保護,森林保護等實驗室行細碎、勻化、乳化、分散、強烈攪拌、潤溫、溶解有機物或無機物等作用。
2000W手提式uv固化機/對靜止的UV漆飾物品表面實現(xiàn)瞬間勻速固化,自然溜平,光潔、平整度、耐摩擦效果佳,對實施物品之間的縫隙可達到密封,形成體,此效果是噴、...
可調(diào)高速勻漿機 點,1、 采用內(nèi)吸式勻漿結構,速度。夠行對不相溶的兩液體之間效勻漿、乳化和水中微量有機化合物、脂溶物及對有機溶媒可溶性物質(zhì)的萃取。2、 對各種動...
高壓均質(zhì)機納米均質(zhì)機,2.2KW的大率電機,保證壓下穩(wěn)定作殊的料閥,排氣,直接料內(nèi)置冷卻物質(zhì)循環(huán)系統(tǒng),直接冷卻均質(zhì)點,所有接觸物料管道均為316L不銹鋼材質(zhì)。
烤膠機參數(shù):1、溫度范圍: 室溫-450℃,溫控連續(xù)可調(diào)。2、可設定配方: 10 段,N 組配方3、外設: 配方可導出,可外接鼠標鍵盤4、恒溫波動度: ...
手動壓鈉機孔徑約1mm,使用時將金屬鈉剪成長條即可。 便宜實用,*,*! 是科研單位、藥物實驗、有機合成中對鈉塊行無水無氧擠壓成絲條的理想機械
的MHY-26174型旋涂機適應于半導體硅片,載玻片,晶片,基片,ITO導電玻璃等,制版的表面涂覆。該產(chǎn)品具有轉(zhuǎn)速穩(wěn)定和啟動迅速等優(yōu)點,并能保證半導體材料中涂膠...
主要用于液體,膠體的成膜性能試驗,表面涂覆。*MHY-26173勻膠機 電腦(單片機)控制,可預置并記憶轉(zhuǎn)速,控制轉(zhuǎn)盤均勻加速;2段式作方式
勻膠機產(chǎn)品簡介:主要用于液體,膠體的成膜性能試驗,表面涂覆。*電腦控制,可預置并記憶轉(zhuǎn)速,控制轉(zhuǎn)盤均勻加速; 旋轉(zhuǎn)時間預置,到時,控制轉(zhuǎn)盤均勻減速。 *轉(zhuǎn)速:3...
MHY-26377臺式數(shù)顯勻膠臺是集成電路、半導體電路、掩模版制、激光息商標制過程中用于在基片上行光刻膠涂布的用設備。
數(shù)顯勻膠臺本機是用于半導體、集成電路及激光息商標制過程中,在硅片、掩模板、玻璃片、陶瓷片等基片上行涂布光刻(感光)膠的用設備。本機的作原理是利用速旋轉(zhuǎn)時產(chǎn)生的離...
勻膠機精度 指標 基片尺寸 5-200mm 速度范圍 1-12000RPM 轉(zhuǎn)速精度 1RPM 轉(zhuǎn)速穩(wěn)定度 ±0.1% 加速度范圍 1-10000RP...
勻膠機參數(shù) :1、調(diào)速范圍和勻膠時間Ⅰ檔 調(diào)速范圍:50-10000轉(zhuǎn)/分,Ⅰ檔 勻膠時間:0-999秒Ⅱ檔 調(diào)速范圍:50-10000轉(zhuǎn)/分,Ⅱ檔 勻膠時間:...
勻膠機/適應于半導體硅片,載玻片,晶片,基片,ITO導電玻璃等,制版的表面涂覆。該產(chǎn)品具有轉(zhuǎn)速穩(wěn)定和啟動迅速等優(yōu)點,并能保證半導體材料中涂膠厚度的*性和均勻性。...
1、智能程控勻膠機帶進膠保護與報警,2、旋涂正反轉(zhuǎn)可自由切換,3、帶速度上升曲線實時顯示,4、吸附不足報警與互鎖,5、旋涂腔室整體采用PTFE材料防酸防堿防腐蝕...
烤膠機概述:主要用于光刻中的旋轉(zhuǎn)涂膠后的軟烘,曝光后烘烤,顯影后的堅膜,磨片粘片熔蠟。
恒溫勻膠機簡介:主要用于液體,膠體在材料表面薄膜的形成,適用于硅片,晶片,玻璃,陶瓷等制版表面涂覆??稍诳蒲?,教育,中應用。別是:可以成有機物的勻膠。(攝氏溫度...
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