Spark 8000全譜直讀光譜儀

Spark 8000全譜直讀光譜儀產(chǎn)品介紹

• 鋼研納克長(zhǎng)期致力于光譜分析技術(shù)及儀器制造技術(shù)

• GB/T 4336-2016碳素鋼和中低合金鋼_多元素含量的測(cè)定_火花放電原子發(fā)射光譜法(常規(guī)法)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)起草者。

• 可對(duì) Fe、A1、Cu、Ni、Co、Mg、Ti、Zn、Pb、Sn等金屬及其合金進(jìn)行快速精確的分析，滿(mǎn)足爐前快速定量分析及實(shí)驗(yàn)室檢測(cè)要求。

• Spark 8000型全譜火花直讀光譜儀以其良好的性能和廣泛的應(yīng)用范圍，成為冶金、鑄造、機(jī)械、鋼鐵和有色金屬等行業(yè)的分析工具。在汽車(chē)制造、船舶、機(jī)電設(shè)備、工程機(jī)械、電子電工、教育、科研等領(lǐng)域的原料、零件、產(chǎn)品工藝研發(fā)方面都有廣泛的應(yīng)用。

儀器參數(shù)

• 儀器參數(shù)

  電源要求:220V±10%，單相，10A，2.5KVA，重量:100kg

  外形尺寸:470*872*435mm(寬*深*高)

• 檢測(cè)器靈敏度

  高分辨率CCD檢測(cè)器，像素?cái)?shù):3648+46，像素尺寸:8μm，精薄鍍膜，紫外波段檢出限低

  萬(wàn)級(jí)超凈環(huán)境下打造光學(xué)系統(tǒng)

  帕邢 -龍格結(jié)構(gòu)羅蘭光學(xué)系統(tǒng)，無(wú)像差，分辨率均勻，高發(fā)光全息光柵，光柵焦距500mm，，刻線(xiàn)為2700條/mm，線(xiàn)分辨率:0.7407nm/mm，像素分辨率:0.005926nm，譜線(xiàn)范圍:130-800nm

  分片式曝光，痕量元素識(shí)別強(qiáng)度大幅提高，檢出限低，一次激發(fā)，分片曝光，同時(shí)采集，同時(shí)回?cái)?shù)，獨(dú)立控制不同CCD的積分曝光時(shí)間，提升痕量元素的強(qiáng)度，降低儀器的檢出限，隨波段調(diào)節(jié)積分時(shí)間，提升儀器的穩(wěn)定性

• 智能控制系統(tǒng)

  潮汐式?jīng)_洗方式，智能判斷分析間隔時(shí)間，合理補(bǔ)充氬氣，降低氬氣消耗，60ml/min低待機(jī)流量，一瓶氬氣24小時(shí)待機(jī)70天

Spark 8000全譜直讀光譜儀儀器優(yōu)勢(shì)與特點(diǎn)

• 萬(wàn)級(jí)超凈環(huán)境下打造的高分辨大色散光學(xué)系統(tǒng)，采用全息光柵，光柵焦距500mm，譜線(xiàn)范圍更寬，分辨率更高，可分析N、Li、Na等。

• 采用高分辨率線(xiàn)陣CMOS檢測(cè)器，集成性更高、讀取速度更快、功耗更低、長(zhǎng)期穩(wěn)定性更高。

• 全數(shù)字高穩(wěn)定性激發(fā)光源，頻率可高達(dá)1000Hz，對(duì)不同的材質(zhì)可以匹配不同的光源條件實(shí)現(xiàn)優(yōu)良的分析結(jié)果。

• 全新的整體恒溫屏蔽技術(shù)，溫度控制精度±0.1℃，加熱均勻、穩(wěn)定，隔絕環(huán)境溫度影響，保證光學(xué)系統(tǒng)穩(wěn)定。

• 智能的潮汐式?jīng)_洗技術(shù)，冷機(jī)啟動(dòng)時(shí)間縮短至30min，大大節(jié)省了等待時(shí)間，提高了整體運(yùn)營(yíng)效率。智能判斷分析間隔時(shí)間，合理補(bǔ)充氬氣，降低氬氣消耗，大大降低運(yùn)行成本。

• 一體化的透鏡隔離閥，自動(dòng)隔斷激發(fā)臺(tái)與光學(xué)系統(tǒng)氣氛，以防止因日常維護(hù)導(dǎo)致的光室污染造成強(qiáng)度下降，且可以避免誤操作引起的光學(xué)系統(tǒng)污染。

• 同軸自旋式氣路激發(fā)臺(tái)，具有自旋氣路，激發(fā)充分，激發(fā)千次無(wú)需清理，大幅度減輕工作量。

• 創(chuàng)新的曲線(xiàn)智能跳轉(zhuǎn)技術(shù)，拓寬同一分析程序下分析元素范圍。根據(jù)樣品的分析值在后臺(tái)智能選擇分析譜線(xiàn)，提高分析元素準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性。

• 功能強(qiáng)大的軟件系統(tǒng)，界面設(shè)計(jì)簡(jiǎn)潔直觀，易于操作，為用戶(hù)帶來(lái)便捷、流暢的操作體驗(yàn)。