上海添時(shí)科學(xué)儀器有限公司

  • 2025

    10-27

    CVD氣相沉積的安全性與環(huán)境影響管理

    CVD氣相沉積技術(shù)作為材料制備領(lǐng)域的關(guān)鍵工藝,在半導(dǎo)體、光學(xué)涂層和新能源等眾多高科技產(chǎn)業(yè)中發(fā)揮著重要的作用。一、安全管理的關(guān)鍵環(huán)節(jié)CVD工藝涉及多種化學(xué)前驅(qū)體的使用,這些物質(zhì)往往具有不同程度的毒性和反...
  • 2025

    10-13

    如何提高PECVD等離子體增強(qiáng)氣相沉積的沉積速率?

    PECVD等離子體增強(qiáng)氣相沉積是一種在低溫條件下制備高質(zhì)量薄膜的關(guān)鍵技術(shù),提高其沉積速率對工業(yè)應(yīng)用具有重要意義。一、優(yōu)化等離子體參數(shù)提升等離子體密度是增加沉積速率的有效途徑,更高的等離子體密度意味著更...
  • 2025

    10-09

    使用電熱鼓風(fēng)干燥箱的細(xì)節(jié)有哪些

    電熱鼓風(fēng)干燥箱是實(shí)驗(yàn)室及工業(yè)生產(chǎn)中用于干燥、烘焙、滅菌等操作的核心設(shè)備,其高效穩(wěn)定的運(yùn)行依賴于規(guī)范的操作流程與細(xì)致的使用細(xì)節(jié)。以下從開機(jī)前準(zhǔn)備、操作過程、使用禁忌、關(guān)機(jī)與維護(hù)四個(gè)維度展開具體說明:一、...
  • 2025

    09-22

    真空氣氛管式爐的節(jié)能與環(huán)保優(yōu)勢介紹

    真空氣氛管式爐通過真空或可控氣氛環(huán)境實(shí)現(xiàn)材料的高溫處理,其節(jié)能與環(huán)保特性在現(xiàn)代工業(yè)與科研領(lǐng)域中具有重要價(jià)值。一、節(jié)能優(yōu)勢主要體現(xiàn)在三方面。1、熱損失大幅降低。真空環(huán)境隔絕了空氣對流與輻射散熱,減少了爐...
  • 2025

    09-08

    混合箱式爐的維護(hù)與保養(yǎng)全攻略

    混合箱式爐集加熱與物料混合功能于一體,廣泛應(yīng)用于材料燒結(jié)、熱處理及化工反應(yīng)等領(lǐng)域,其長期穩(wěn)定運(yùn)行依賴科學(xué)的維護(hù)與保養(yǎng)。??1、日常清潔是基礎(chǔ)。??每次使用后及時(shí)清理爐膛內(nèi)壁、加熱元件及混合裝置的殘留物...
  • 2025

    09-03

    如何保證精密天平結(jié)果的準(zhǔn)確度

    精密天平作為實(shí)驗(yàn)室核心計(jì)量設(shè)備,其準(zhǔn)確性直接影響實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)的可靠性。調(diào)試過程需系統(tǒng)化操作,涵蓋環(huán)境適配、機(jī)械校準(zhǔn)、電氣校正及性能驗(yàn)證四大環(huán)節(jié),以下為標(biāo)準(zhǔn)化調(diào)試流程:一、環(huán)境準(zhǔn)備與初步檢查1.選址與穩(wěn)定將...
  • 2025

    09-01

    真空感應(yīng)熔煉爐如何減少污染與提高生產(chǎn)安全性?

    真空感應(yīng)熔煉爐通過特殊的工藝設(shè)計(jì)和操作優(yōu)化,在減少污染與提升生產(chǎn)安全性方面具有優(yōu)勢,成為冶金領(lǐng)域的重要技術(shù)手段。一、減少污染的關(guān)鍵措施真空感應(yīng)熔煉爐在密閉的真空環(huán)境中進(jìn)行熔煉,從根本上隔絕了空氣接觸,...
  • 2025

    08-25

    真空管式爐的溫度控制與精度優(yōu)化技術(shù)

    真空管式爐在材料燒結(jié)、熱處理等工藝中,精確的溫度控制與高精度保障是關(guān)鍵,關(guān)乎產(chǎn)品質(zhì)量和實(shí)驗(yàn)結(jié)果的可靠性,以下介紹其相關(guān)技術(shù)。1、溫度控制技術(shù)溫度控制是真空管式爐運(yùn)行的核心。其采用溫度傳感器,能夠?qū)崟r(shí)、...
  • 2025

    08-11

    PECVD等離子體增強(qiáng)氣相沉積在半導(dǎo)體與光電領(lǐng)域中的關(guān)鍵作用

    PECVD等離子體增強(qiáng)氣相沉積作為半導(dǎo)體與光電領(lǐng)域核心技術(shù)之一,通過低溫等離子體激發(fā)化學(xué)反應(yīng),在材料制備與器件性能優(yōu)化中發(fā)揮著不可替代的作用。1、突破傳統(tǒng)工藝限制PECVD等離子體增強(qiáng)氣相沉積的核心優(yōu)...
  • 2025

    08-06

    使用顎式破碎機(jī)的流程有幾步

    顎式破碎機(jī)作為礦山、建材、冶金等行業(yè)常用的粗碎設(shè)備,其高效穩(wěn)定的運(yùn)行依賴于規(guī)范的操作流程。以下是完整的使用流程及關(guān)鍵要點(diǎn)解析,涵蓋開機(jī)前準(zhǔn)備、運(yùn)行操作、停機(jī)維護(hù)三大核心環(huán)節(jié),助力實(shí)現(xiàn)安全、高效的生產(chǎn)目...
  • 2025

    07-22

    真空氣氛管式爐的操作技巧與安全注意事項(xiàng)說明

    真空氣氛管式爐通過真空環(huán)境與可控氣氛結(jié)合,廣泛應(yīng)用于材料燒結(jié)、退火等工藝。掌握規(guī)范操作技巧并規(guī)避風(fēng)險(xiǎn),是保障實(shí)驗(yàn)安全與結(jié)果可靠的關(guān)鍵。??一、操作技巧:從準(zhǔn)備到結(jié)束的全流程優(yōu)化??使用前需檢查爐管密封...
  • 2025

    07-21

    如何降低真空感應(yīng)熔煉爐的電能消耗與碳排放

    真空感應(yīng)熔煉爐在熔煉過程中通過感應(yīng)電流加熱金屬材料,因此需要大量的電能。同時(shí),傳統(tǒng)的燃料使用和電力來源往往是高碳的,這直接導(dǎo)致了較高的碳排放。降低電能消耗和碳排放不僅有助于減少生產(chǎn)成本,還能符合全球日...
  • 2025

    07-04

    蒸發(fā)鍍膜儀的使用細(xì)節(jié)與操作規(guī)范

    蒸發(fā)鍍膜儀是一種通過物理氣相沉積(PVD)技術(shù)在基底表面沉積薄膜的設(shè)備,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光學(xué)、材料科學(xué)等領(lǐng)域。其核心原理是通過加熱蒸發(fā)源材料(如金屬、氧化物等),使其氣化后在基底表面冷凝成膜。為確保...
  • 2025

    06-09

    化學(xué)氣相沉積的影響因素及其作用機(jī)制

    化學(xué)氣相沉積是一種通過氣相化學(xué)反應(yīng)在基底表面沉積固態(tài)薄膜的材料制備技術(shù),廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光伏、涂層等領(lǐng)域。CVD過程的復(fù)雜性源于多個(gè)工藝參數(shù)的耦合作用,這些參數(shù)直接影響薄膜的化學(xué)成分、微觀結(jié)構(gòu)、力學(xué)...
  • 2025

    05-20

    氣氛爐的溫控技術(shù)與氣氛控制技巧分析

    氣氛爐作為高溫處理設(shè)備,在材料燒結(jié)、熱處理、氣氛保護(hù)等領(lǐng)域發(fā)揮著重要作用。其核心技術(shù)在于精確的溫控系統(tǒng)與高效的氣氛控制能力,這兩大因素直接影響產(chǎn)品質(zhì)量與工藝效果。??一、溫控技術(shù):精準(zhǔn)穩(wěn)定為核心??溫...
  • 2025

    05-15

    提高研磨拋光效率的技巧與注意事項(xiàng)

    研磨拋光是工業(yè)制造和精密加工中的關(guān)鍵環(huán)節(jié),直接決定零部件的表面質(zhì)量和生產(chǎn)效率。掌握科學(xué)的工作方法和注意事項(xiàng),能有效提升研磨效果,縮短加工時(shí)間,同時(shí)保證加工精度。??一、工件與工具優(yōu)化匹配??選擇與工件...
  • 2025

    05-13

    如何解決超聲波清洗機(jī)出現(xiàn)空化的現(xiàn)象

    一、空化現(xiàn)象的本質(zhì)與價(jià)值超聲波清洗機(jī)的核心技術(shù)依賴于空化效應(yīng),其本質(zhì)是通過高頻振動(dòng)(20-40kHz)在液體中產(chǎn)生交替的高壓與低壓周期。當(dāng)聲壓達(dá)到閾值時(shí),液體介質(zhì)中會(huì)瞬間形成微米級(jí)真空泡(空化核),這...
  • 2025

    04-21

    如何優(yōu)化CVD氣相沉積過程以提高薄膜質(zhì)量?

    CVD氣相沉積是一種用于制備各種薄膜材料的常用技術(shù)。為了獲得高質(zhì)量的薄膜,在CVD過程中可以從以下幾個(gè)方面進(jìn)行優(yōu)化。??一、優(yōu)化反應(yīng)氣體的選擇與控制??選擇合適的前驅(qū)體氣體是關(guān)鍵。前驅(qū)體應(yīng)具有良好的揮...
  • 2025

    04-16

    如何優(yōu)化PECVD等離子體增強(qiáng)氣相沉積過程以提高薄膜質(zhì)量和沉積均勻性?

    PECVD等離子體增強(qiáng)氣相沉積是一種廣泛應(yīng)用于制備薄膜材料的技術(shù)。為提高薄膜質(zhì)量和沉積均勻性,可從以下幾個(gè)關(guān)鍵方面進(jìn)行優(yōu)化。一、工藝參數(shù)的精細(xì)調(diào)控1、功率控制射頻(RF)功率是PECVD等離子體增強(qiáng)氣...
  • 2025

    04-15

    真空熱電弧熔煉爐的安裝調(diào)試流程

    真空熱電弧熔煉爐是一種用于高溫熔煉和精煉金屬的先進(jìn)設(shè)備,其安裝調(diào)試過程對于確保設(shè)備的正常運(yùn)行和生產(chǎn)效率至關(guān)重要。以下是對真空熱電弧熔煉爐安裝調(diào)試方式的詳細(xì)描述:一、安裝準(zhǔn)備1.場地確認(rèn):首先,需要確認(rèn)...

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