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2025
10-272025
10-13如何提高PECVD等離子體增強(qiáng)氣相沉積的沉積速率?
PECVD等離子體增強(qiáng)氣相沉積是一種在低溫條件下制備高質(zhì)量薄膜的關(guān)鍵技術(shù),提高其沉積速率對工業(yè)應(yīng)用具有重要意義。一、優(yōu)化等離子體參數(shù)提升等離子體密度是增加沉積速率的有效途徑,更高的等離子體密度意味著更...2025
10-09使用電熱鼓風(fēng)干燥箱的細(xì)節(jié)有哪些
電熱鼓風(fēng)干燥箱是實(shí)驗(yàn)室及工業(yè)生產(chǎn)中用于干燥、烘焙、滅菌等操作的核心設(shè)備,其高效穩(wěn)定的運(yùn)行依賴于規(guī)范的操作流程與細(xì)致的使用細(xì)節(jié)。以下從開機(jī)前準(zhǔn)備、操作過程、使用禁忌、關(guān)機(jī)與維護(hù)四個(gè)維度展開具體說明:一、...2025
09-22真空氣氛管式爐的節(jié)能與環(huán)保優(yōu)勢介紹
真空氣氛管式爐通過真空或可控氣氛環(huán)境實(shí)現(xiàn)材料的高溫處理,其節(jié)能與環(huán)保特性在現(xiàn)代工業(yè)與科研領(lǐng)域中具有重要價(jià)值。一、節(jié)能優(yōu)勢主要體現(xiàn)在三方面。1、熱損失大幅降低。真空環(huán)境隔絕了空氣對流與輻射散熱,減少了爐...2025
09-082025
09-032025
09-01真空感應(yīng)熔煉爐如何減少污染與提高生產(chǎn)安全性?
真空感應(yīng)熔煉爐通過特殊的工藝設(shè)計(jì)和操作優(yōu)化,在減少污染與提升生產(chǎn)安全性方面具有優(yōu)勢,成為冶金領(lǐng)域的重要技術(shù)手段。一、減少污染的關(guān)鍵措施真空感應(yīng)熔煉爐在密閉的真空環(huán)境中進(jìn)行熔煉,從根本上隔絕了空氣接觸,...2025
08-252025
08-11PECVD等離子體增強(qiáng)氣相沉積在半導(dǎo)體與光電領(lǐng)域中的關(guān)鍵作用
PECVD等離子體增強(qiáng)氣相沉積作為半導(dǎo)體與光電領(lǐng)域核心技術(shù)之一,通過低溫等離子體激發(fā)化學(xué)反應(yīng),在材料制備與器件性能優(yōu)化中發(fā)揮著不可替代的作用。1、突破傳統(tǒng)工藝限制PECVD等離子體增強(qiáng)氣相沉積的核心優(yōu)...2025
08-062025
07-222025
07-212025
07-04蒸發(fā)鍍膜儀的使用細(xì)節(jié)與操作規(guī)范
蒸發(fā)鍍膜儀是一種通過物理氣相沉積(PVD)技術(shù)在基底表面沉積薄膜的設(shè)備,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光學(xué)、材料科學(xué)等領(lǐng)域。其核心原理是通過加熱蒸發(fā)源材料(如金屬、氧化物等),使其氣化后在基底表面冷凝成膜。為確保...2025
06-092025
05-202025
05-152025
05-13如何解決超聲波清洗機(jī)出現(xiàn)空化的現(xiàn)象
一、空化現(xiàn)象的本質(zhì)與價(jià)值超聲波清洗機(jī)的核心技術(shù)依賴于空化效應(yīng),其本質(zhì)是通過高頻振動(dòng)(20-40kHz)在液體中產(chǎn)生交替的高壓與低壓周期。當(dāng)聲壓達(dá)到閾值時(shí),液體介質(zhì)中會(huì)瞬間形成微米級(jí)真空泡(空化核),這...2025
04-21如何優(yōu)化CVD氣相沉積過程以提高薄膜質(zhì)量?
CVD氣相沉積是一種用于制備各種薄膜材料的常用技術(shù)。為了獲得高質(zhì)量的薄膜,在CVD過程中可以從以下幾個(gè)方面進(jìn)行優(yōu)化。??一、優(yōu)化反應(yīng)氣體的選擇與控制??選擇合適的前驅(qū)體氣體是關(guān)鍵。前驅(qū)體應(yīng)具有良好的揮...2025
04-16如何優(yōu)化PECVD等離子體增強(qiáng)氣相沉積過程以提高薄膜質(zhì)量和沉積均勻性?
PECVD等離子體增強(qiáng)氣相沉積是一種廣泛應(yīng)用于制備薄膜材料的技術(shù)。為提高薄膜質(zhì)量和沉積均勻性,可從以下幾個(gè)關(guān)鍵方面進(jìn)行優(yōu)化。一、工藝參數(shù)的精細(xì)調(diào)控1、功率控制射頻(RF)功率是PECVD等離子體增強(qiáng)氣...2025
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