那諾中國有限公司
中級會員 | 第11年

18916157635

  • NLD-4000（M）原子層沉積系統(tǒng)

    NLD-4000（M）原子層沉積系統(tǒng)：ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠(yuǎn)超過其它沉積技術(shù)。由于前驅(qū)體流量的...

    型號： 所在地：國外參考價： 面議更新時間：2025/4/28 9:07:51 對比
    進(jìn)口ALD系統(tǒng)進(jìn)口原子層沉積系統(tǒng)進(jìn)口ALD報價ALDALD報價
  • 原子層沉積系統(tǒng)

    NLD-3000原子層沉積系統(tǒng)：ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠(yuǎn)超過其它沉積技術(shù)。由于前驅(qū)體流量的隨意性...

    型號： NLD-3000 所在地：國外參考價： 面議更新時間：2025/4/28 9:05:42 對比
    進(jìn)口ALDALD價格ALD原子層沉積報價進(jìn)口ALD報價
  • 全自動ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

    NPE-4000（ICPA）全自動ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, DLC膜到Z大可達(dá)6" 基片...

    型號： NPE-4000（... 所在地：國外參考價： 面議更新時間：2025/4/28 9:03:44 對比
    進(jìn)口全自動ICPECVDICP PECVD
  • ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

    NPE-4000（ICPM）ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達(dá)12" 的基片...

    型號： NPE-4000（... 所在地：國外參考價： 面議更新時間：2025/4/28 9:01:22 對比
    進(jìn)口ICPECVDICPPECVD
  • 全自動PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

    NPE-4000（A）全自動PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達(dá)12" 的基片.淋...

    型號： NPE-4000（... 所在地：國外參考價： 面議更新時間：2025/4/28 8:59:11 對比
    進(jìn)口PECVD進(jìn)口全自動PECVD等離子化學(xué)氣相沉
  • NPE-4000（M）PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

    NPE-4000（M）PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達(dá)12" 的基片.淋浴頭電...

    型號： 所在地：國外參考價： 面議更新時間：2025/4/28 8:57:07 對比
    進(jìn)口PECVD進(jìn)口等離子體PECVD等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉
  • NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

    NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達(dá)12" 的基片.淋浴頭電極或...

    型號： 所在地：國外參考價： 面議更新時間：2025/4/28 8:55:15 對比
    進(jìn)口PECVD進(jìn)口等離子體PECVD等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉
  • NPE-3000 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

    NPE-3000 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達(dá)12" 的基片.淋浴頭電極或...

    型號： 所在地：國外參考價： 面議更新時間：2025/4/28 8:53:32 對比
    進(jìn)口PECVD臺式PECVD進(jìn)口等離子體PECVD等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉
  • NSC-4000（A）全自動磁控濺射系統(tǒng)

    NSC-4000（A）全自動磁控濺射系統(tǒng)：立式自動系統(tǒng)，帶有水冷或者加熱（Z高可加熱到700度）功能，Z大到6“旋轉(zhuǎn)平臺，Z大可支持到4個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配...

    型號： 所在地：國外參考價： 面議更新時間：2025/4/28 8:51:32 對比
    磁控濺射鍍膜系統(tǒng)進(jìn)口全自動磁控濺射臺全自動磁控濺射鍍膜儀全自動磁控濺射鍍膜機(jī)
  • 磁控濺射系統(tǒng)

    NSC-4000（M）磁控濺射系統(tǒng)：帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達(dá)到到8“旋轉(zhuǎn)平臺，支持到4個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)1...

    型號： NSC-4000（... 所在地：國外參考價： 面議更新時間：2025/4/28 8:49:27 對比
    Sputter System進(jìn)口磁控濺射系統(tǒng)磁控濺射臺進(jìn)口真空鍍膜儀
  • NSC-3500（A）全自動磁控濺射系統(tǒng)

    NSC-3500（A）全自動磁控濺射系統(tǒng)：立式自動系統(tǒng)，帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達(dá)6“旋轉(zhuǎn)平臺，支持到4個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵...

    型號： 所在地：國外參考價： 面議更新時間：2025/4/28 8:47:43 對比
    NSC-3500磁控濺射系統(tǒng)全自動磁控濺射系統(tǒng)進(jìn)口全自動濺射臺全自動濺射鍍膜機(jī)
  • NSC-3000（M）磁控濺射系統(tǒng)

    NSC-3000（M）磁控濺射系統(tǒng)：帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達(dá)6“旋轉(zhuǎn)平臺，支持到3個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-...

    型號： 所在地：國外參考價： 面議更新時間：2025/4/28 8:41:18 對比
    Sputter System進(jìn)口磁控濺射系統(tǒng)磁控濺射臺進(jìn)口真空鍍膜儀
  • NSC-1000磁控濺射系統(tǒng)

    NSC-1000磁控濺射系統(tǒng)：帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達(dá)6“旋轉(zhuǎn)平臺，支持到2個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-7 T...

    型號： 所在地：國外參考價： 面議更新時間：2025/4/28 8:39:44 對比
    Sputter System進(jìn)口磁控濺射系統(tǒng)進(jìn)口磁控濺射臺真空濺射臺價格
  • LSC-5000全自動兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)

    LSC-5000全自動兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)：Nano-Master兆聲大基片濕法刻蝕系統(tǒng)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻...

    型號： 所在地：國外參考價： 面議更新時間：2025/4/28 8:37:47 對比
    全自動大基片去膠機(jī)進(jìn)口全自動去膠機(jī)進(jìn)口濕法去膠機(jī)全自動兆聲去膠機(jī)
  • LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統(tǒng)

    LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統(tǒng)：Nano-Master兆聲大基片濕法刻蝕系統(tǒng)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離。它是集成式的...

    型號： 所在地：國外參考價： 面議更新時間：2025/4/28 8:35:41 對比
    兆聲大基片去膠系統(tǒng)濕法去膠機(jī)進(jìn)口單片去膠機(jī)
  • SWC-5000全自動兆聲晶圓清洗機(jī)

    SWC-5000全自動兆聲晶圓清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。該...

    型號： 所在地：國外參考價： 面議更新時間：2025/4/28 8:33:16 對比
    進(jìn)口濕法刻蝕系統(tǒng)全自動濕法刻蝕系統(tǒng)全自動晶圓清洗機(jī)全自動掩膜板清洗機(jī)全自動硅片清洗機(jī)
  • SWC-4000兆聲晶圓（掩模版）清洗機(jī)

    SWC-4000兆聲晶圓（掩模版）清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕...

    型號： 所在地：國外參考價： 面議更新時間：2025/4/28 8:31:00 對比
    進(jìn)口濕法刻蝕系統(tǒng)兆聲無損晶圓清洗機(jī)兆聲掩模版清洗機(jī)兆聲無損硅片清洗機(jī)
  • SWC-3000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)

    SWC-3000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗，以及兆聲輔助的光刻膠剝離。它可以在一...

    型號： 所在地：國外參考價： 面議更新時間：2025/4/28 8:28:30 對比
    進(jìn)口光刻膠剝離機(jī)進(jìn)口光刻膠去膠機(jī)進(jìn)口濕法去膠機(jī)
  • SWC-4000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)

    SWC-4000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗，以及兆聲輔助下光刻膠剝離。它可以在一...

    型號： 所在地：國外參考價： 面議更新時間：2025/4/28 8:26:01 對比
    光刻膠剝離系統(tǒng)進(jìn)口光刻膠剝離系統(tǒng)進(jìn)口濕法去膠機(jī)兆聲去膠機(jī)
  • NRE-4000（ICPA）全自動ICP刻蝕系統(tǒng)

    NRE-4000（ICPA）全自動ICP刻蝕系統(tǒng)：自動上下載片，帶ICP等離子源和偏壓樣品臺的高速刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)可以達(dá)到高速率、低損傷、高深寬比的刻蝕效果?？蓪?shí)...

    型號： 所在地：國外參考價： 面議更新時間：2025/4/28 8:23:36 對比
    全自動ICP刻蝕系統(tǒng)全自動ICP刻蝕機(jī)進(jìn)口全自動ICP刻蝕機(jī)
1234567共7頁,124條記錄 跳轉(zhuǎn)

會員登錄

×

請輸入賬號

請輸入密碼

=

請輸驗證碼

收藏該商鋪

X
該信息已收藏！
標(biāo)簽：
保存成功

(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)

常用：

提示

X
您的留言已提交成功！我們將在第一時間回復(fù)您~
撥打電話
在線留言