PEV-H/L--114nm真空紫外激光器 返回列表頁

114nm，11eV光子能量，OXIDE脈沖VUV激光器  

日本OXIDE PEV-H/L--114nm真空紫外激光器（11eV光子能量）專為光電子能譜（PES/ARPES/TOF）設(shè)計，具備高相干性、微聚焦選項及一體化光學(xué)結(jié)構(gòu)，無需調(diào)試。提供50MHz/5MHz高重復(fù)頻率，功率>5μW，分辨率<0.6meV，脈沖帶寬<30ps，適用于電池/納米材料研究。工業(yè)級可靠性，降低空間電荷效應(yīng)，加速科研效率。

114nm真空紫外激光器/114激光器/真空紫外VUV相干光源/11eV激光器/114nm激光器/VUV皮秒激光器/ VUV激光光源/114nmVUV光源（PEV-H,PEV-L）是一款專門為光電子能譜（PES）應(yīng)用設(shè)計的真空紫外（VUV）相干光源。它基于日本OXIDE的深紫外激光技術(shù)研發(fā)而成。例如，將該VUV光源與角分辨光電子能譜儀（ARPES）和飛行時間（TOF）分析儀集成后，能夠構(gòu)建用于開發(fā)電池材料、納米材料等的新材料開發(fā)工具，也有助于實(shí)現(xiàn)全新的激光光電子能譜儀。

日本OXIDE的114nm真空紫外激光器/114激光器/真空紫外VUV相干光源/11eV激光器/114nm激光器/VUV皮秒激光器/114nmVUV光源輸出具有相干性，因此可以使用單個透鏡將激光聚焦到目標(biāo)樣品上（可選微聚焦）。通過將所有光學(xué)元件集成在一個單元內(nèi)，現(xiàn)場無需對設(shè)備進(jìn)行調(diào)整，從而縮短了從設(shè)備交付到開始光電子能譜測量的準(zhǔn)備時間。PEV系列VUV激光光源專為研究應(yīng)用設(shè)計，具備工業(yè)級質(zhì)量，可靠性高。

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PEV-H/L--114nm真空紫外激光器/114激光器主要特點(diǎn)  

-激光輸出相干，可單透鏡聚焦（可選微聚焦）。

-光學(xué)元件一體化集成，現(xiàn)場免調(diào)試。

-工業(yè)級質(zhì)量，可靠性高，適用于研究應(yīng)用。

真空紫外VUV相干光源/11eV激光器主要應(yīng)用  

-光電子能譜分析。  

-作為角分辨光電子能譜儀（ARPES）的激發(fā)光源。

-作為飛行時間光電子能譜儀（TOF）的激發(fā)光源。

114nm激光器/VUV皮秒激光器/114nmVUV光源規(guī)格  

注：

*1.對應(yīng)114nm光波長。

*2.可在0.5MHz-5MHz范圍內(nèi)設(shè)置。

*3.初始輸出功率。