桌面型偏壓單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：面議
本設(shè)備為桌面型偏壓單靶磁控濺射鍍膜儀，可用于一般金屬薄膜的制備。設(shè)備同時配有偏壓電源，可以用來進行進行濺射前的等離子清洗和濺射過程中施加偏壓
桌面型射頻磁控濺射鍍膜儀 參考價：68900
本設(shè)備為桌面型射頻磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備。本型號配備射頻電源，尤其適合...
真空磁控濺射鍍膜機 參考價：58000
該真空磁控濺射鍍膜機非常適合物理沉積 (PVD)、化學沉積 (CVD)、等離子體化學沉積 (PECVD)、熱噴涂、電子束濺射等多種鍍膜
雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：168900
雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實驗室制...
桌面型雙靶磁控鍍膜儀 參考價：198000
桌面型雙靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過小型化設(shè)計，在保留高真空不銹鋼腔體的同時，精簡了其他機構(gòu)，將設(shè)備外形限制在了桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設(shè)備配有一個直流電源...
大功率直流磁控濺射鍍膜儀 參考價：89000
大功率直流磁控濺射鍍膜儀是一款高功率臺式磁控等離子濺射鍍膜機 ，帶有一個水冷2英寸靶頭，冷水機和可旋轉(zhuǎn)樣品架。直流磁控濺射鍍膜儀設(shè)計用于涂覆直徑達4英寸的所有金...
單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：89700
本單靶磁控濺射鍍膜儀配有一套磁控靶、一套300W的RF濺射電源(或一套500W的直流濺射電源或一套100W的偏壓電源）。磁控濺射鍍膜儀在鍍膜時，可根據(jù)需要分別手...
三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：198500
三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研制開發(fā)的一款性價比較高的磁控濺射鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄...
雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：面議
雙靶磁控濺射鍍膜儀CY-600-2HD為我公司研發(fā)的配有兩個靶位的小型實驗室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介...
多功能粉體包覆磁控鍍膜儀 參考價：280000
多功能粉體包覆磁控鍍膜儀主要?于粉體材料、顆粒材料的包覆制備（磁控濺射鍍膜、CVD、PECVD鍍膜）及熱處理等，?于改善粉體或顆粒的表?性能、分散性能、穩(wěn)定性能...
桌面型下置靶不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：98000
本設(shè)備為桌面型下置靶不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備
帶過渡艙型雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：286000
本設(shè)備為帶過渡艙型雙靶磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備
雙靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價：154600
雙靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款...
UPS三靶磁控濺射鍍膜機 參考價：250000
UPS三靶磁控濺射鍍膜機是我公司自主研發(fā)的高性價比的磁控濺射鍍膜設(shè)備。 它是標準化，模塊化和可定制的。該裝置可用于制備單層或多層鐵電薄膜，導電膜，合金膜，半導體...
磁控濺射真空蒸發(fā)復合型鍍膜設(shè)備 參考價：面議
磁控濺射真空蒸發(fā)復合型鍍膜設(shè)備將磁控濺射技術(shù)和真空蒸發(fā)技術(shù)結(jié)合在同一鍍膜設(shè)備里，既利用磁控濺射陰極輝光放電將靶材原子濺出并部分離化沉積在基材上成膜，同時又可利用...
半導體鍍膜磁控濺射儀 參考價：53000
CY-PLZ180-I-DC-Q 半導體鍍膜磁控濺射儀，采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝，鍍膜過程中無高溫，不易...
雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀 參考價：350000
雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀緊湊型磁控濺射系統(tǒng)，具有雙靶2“目標源，例如，一個直流源用于涂覆金屬薄膜，另一個射頻源用于涂覆非金屬材料。高真空磁控等離子濺射鍍膜...
四探針磁控濺射薄膜厚度測試儀 參考價：10000
四探針磁控濺射薄膜厚度測試儀用于半導體、薄膜、導電涂層等材料的電學性能測試。四探針薄膜厚度測試儀核心作用是消除接觸電阻和引線電阻的影響，從而獲得更準確的測量結(jié)果
離子源雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：350000
離子源雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個靶位的實驗室專用鍍膜儀，設(shè)備配有兩臺直流電源，兩臺射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導...
三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：280000
三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀 參考價：250000
?雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀配有一臺直流電源，一臺射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜等往復式設(shè)...
臺式射頻電源單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：49800
臺式射頻電源單靶磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備。本型號配備射頻電源，尤其適合非...
臺式緊湊型三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：面議
臺式緊湊型三靶磁控濺射鍍膜儀是專為非金屬薄膜鍍膜設(shè)計的三頭2“射頻等離子磁控濺射系統(tǒng)，主要用于多層氧化物薄膜，是新一代氧化物薄膜研究中性價比*高的鍍膜機 . 直...
磁控濺射鍍膜儀帶振動樣品臺 參考價：250000
磁控濺射鍍膜儀帶振動樣品臺為我公司研發(fā)的配有三個靶位的實驗室專用于處理粉末及顆粒樣品的鍍膜儀，設(shè)備配有兩臺直流電源，一臺射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、...
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