目錄:鄭州成越科學儀器有限公司>>磁控濺射鍍膜儀>> CY-MSZ194-I-DC-SS桌面型單靶直流磁控濺射鍍膜儀
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 5萬-10萬 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 能源,電子/電池,鋼鐵/金屬,汽車及零部件,電氣 | 真空腔體 | 直徑≦100mm的平面樣品均可 |
| 樣品臺尺寸 | 直徑≦100mm的平面樣品均可 | 磁控靶 | 普通永磁靶，可調(diào)角度 |
| 靶材尺寸 | 直徑2英寸，厚度≦3mm, | 濺射功率 | 濺射功率 |
本設備為單靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備。
本套配置采用高真空不銹鋼腔體，腔體設置帶擋板的石英觀察窗，便于實驗的觀察記錄；腔體設計真空性能優(yōu)良，造型小巧，十分適合實驗室使用。同時設備配有旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺，可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質(zhì)量。整機采用模塊化設計，操作邏輯簡單，操作界面直觀，利于上手。
磁控濺射鍍膜儀技術參數(shù)：
| 產(chǎn)品名稱 | 桌面型不銹鋼腔體單靶直流磁控濺射鍍膜儀 | |
| 產(chǎn)品型號 | CY-MSZ194-I-DC-SS | |
| 樣品臺 | 外形尺寸 | φ100mm |
| 加熱溫度 | ≦500℃ | |
| 可調(diào)轉(zhuǎn)速 | ≦20rpm | |
| 磁控靶槍 | 配一支兩英寸磁控靶，靶材尺寸:直徑50.8mm，厚度≦3mm | |
| 真空腔體 | 腔體尺寸 | φ194mm X 263mm |
| 觀察窗口 | φ50mm | |
| 腔體材料 | 304不銹鋼 | |
| 開啟方式 | 上蓋開啟式 | |
| 真空系統(tǒng) | 前級泵 | 低噪音雙極旋片泵 |
| 分子泵 | 低噪音大抽速渦輪分子泵 | |
| 真空測量 | 復合真空計，量程:10-5~105Pa | |
| 抽氣接口 | KF16 | |
| 抽氣接口 | KF40 | |
| 排氣接口 | KF16 | |
| 系統(tǒng)真空 | 1.0×10-4Pa | |
| 供電電源 | AC 220V 50/60Hz | |
| 抽氣速率 | 分子泵抽速60L/s，前級泵抽速1.1L/s | |
| 電源配置 | 電源數(shù)量 | 直流電源一套 |
| 輸出功率 | 直流電源500W | |
|
其他參數(shù) | 供電電壓 | AC220V,50Hz |
| 整機功率 | 2kW | |
| 重量 | 80kg | |
| 整機尺寸 | 550mm X 450mm X750mm | |
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